。金屬污染對芯片有害，所以應避免裸晶圓片上有金屬污染。本文的研究目的是交流解決裸硅圓片上金屬污染問題的經驗，介紹如何使用互補性測量方法檢測裸硅圓片上的少量金屬污染物并找出問題根源，解釋從多個不同的檢測方法中選擇適合方法的難度，以及用壽命測量技術檢測污染物對熱處理的依賴性。 I.前言 本文旨
2021-02-23 17:08:39
4648 
半導體硅片是制造芯片的載體，因原材料為硅，又稱為硅晶片。規(guī)劃和無經理硅提煉、提純、單晶硅生產、晶圓成型等工藝后，才能進入芯片單路蝕刻等后續(xù)環(huán)節(jié)，是制造芯片的最重要的前置工藝。該概念主要包含：研發(fā)
2022-12-12 14:08:217824 
` 本帖最后由 firstchip 于 2015-1-20 10:54 編輯
北京飛特馳科技有限公司對外提供6英寸半導體工藝代工服務和工藝加工服務，包括：產品代工、短流程加工、單項工藝加工等
2015-01-07 16:15:47
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:51 編輯
半導體工藝
2012-08-20 09:02:05
有沒有半導體工藝方面的資料啊
2014-04-09 22:42:37
半導體發(fā)展至今，無論是從結構和加工技術多方面都發(fā)生了很多的改進，如同Gordon E. Moore老大哥預測的一樣，半導體器件的規(guī)格在不斷的縮小，芯片的集成度也在不斷提升，工藝制程從90nm
2020-12-10 06:55:40
業(yè)界對哪種半導體工藝最適合某一給定應用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用，但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-07-05 08:13:58
業(yè)界對哪種半導體工藝最適合某一給定應用存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用，但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-08-20 08:01:20
半導體工藝講座ObjectiveAfter taking this course, you will able to? Use common semiconductor terminology
2009-11-18 11:31:10
半導體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23
以及降低成本。由于半導體制造的工藝性涉及多個行業(yè)，專門從事供應的行業(yè)發(fā)展起來以提供硅片制造需要的化學材料和設備。眾多高技術公司于20世紀60年代成立：1968年，成立英特爾公司。1969年，成立AMD。20
2020-09-02 18:02:47
北京華林嘉業(yè)科技有限公司(簡稱CGB)，公司致力于為以下行業(yè)提供蝕刻、清洗、顯影、去膜、制絨、減薄等高品質設備：半導體LED：硅片清洗機；硅片腐蝕機；硅片清洗腐蝕設備；基片濕處理設備；硅片清洗刻蝕
2011-04-13 13:23:10
半導體器件與工藝
2012-08-20 08:39:08
半導體材料市場構成：在半導體材料市場構成方面，大硅片占比最大，占比為32.9%。其次為氣體，占比為14.1%，光掩膜排名第三，占比 為12.6%，其后：分別為拋光液和拋光墊、光刻膠配套試劑、光刻膠、濕化學品、建設靶材，比分別為7.2%、6.9%、 6.1%、4%和3%。
2021-01-22 10:48:36
蘇州晶淼半導體設備有限公司致力于向客戶提供濕法制程刻蝕設備、清洗設備、高端PP/PVC通風柜/廚、CDS化學品集中供液系統(tǒng)等一站式解決方案。我們的產品廣泛應用與微電子、半導體、光伏、光通信、LED等
2016-09-06 13:53:08
功率半導體的熱管理對于元件運行的可靠性和使用壽命至關重要。本設計實例介紹的愛普科斯(EPCOS)負溫度系數(shù)(NTC)和正溫度系數(shù)(PTC)熱敏電阻系列，可以幫助客戶可靠地監(jiān)測半導體元件的溫度。
2020-08-19 06:50:50
蘇州華林科納半導體設備技術有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備的設計、研發(fā)、生產及銷售；同時代理半導體、太陽能、FPD領域其它國外設備，負責
2015-04-02 17:21:04
，自由電子為多數(shù)載流子，空穴為少數(shù)載流子;在P型半導體中，空穴為多數(shù)載流子，自由電子為少數(shù)載流子。PN結的形成采用某種工藝，可以將P型半導體和N型半導體制作在同一塊硅片上。由于濃度差，會產生擴散運動
2020-06-27 08:54:06
蘇州華林科納半導體設備技術有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備的設計、研發(fā)、生產及銷售；同時代理半導體、太陽能、FPD領域其它國外設備，負責
2015-04-02 17:23:36
的復雜性,而大多數(shù)半導體制造過程包含許多非線性且復雜的化學與物理反應，難以建立其制造模型,加上檢測技術的缺乏,造成無法及時得知工藝過程狀態(tài)而難以對其進行有效監(jiān)控。因此,當半導體制造進入8英寸、12英寸
2018-08-29 10:28:14
一個比較經典的半導體工藝制作的課件，英文的，供交流……
2012-02-26 13:12:24
`《半導體制造工藝》學習筆記`
2012-08-20 19:40:32
將全面介紹濕化學工藝的應用以及從這些分析技術中獲得的數(shù)據(jù)的有用性。這篇論文不僅將涵蓋人們期望通過濕法進行的那些測試，例如化學品中的金屬分析，還將涵蓋濕化學分析的許多不尋常應用，例如它們在評估來自各種
2021-07-09 11:30:18
摘要：半導體是電阻率 (p) 和電導率介于導體和絕緣體之間的元素或元素組合。導體的電阻率在 10-8 和10-12 Q cm之間：絕緣體 109 和1019 Q cm，而半導體的電阻率在 10-5
2021-07-01 09:38:40
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：CMOS 單元工藝編號：JFSJ-21-027作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html晶圓生產需要三個一般過程：硅
2021-07-06 09:32:40
的試劑，無論是單獨工作還是與其他化學品混合，對于半導體制造中的濕法清洗工藝。通過適當?shù)膽?，它可以避免使用一些需要在高溫下操作的高腐蝕性化學品，從而減少 CoO，包括化學品費用、沖洗水量、安全問題
2021-07-06 09:36:27
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：GaN、ZnO和SiC的濕法化學蝕刻編號：JFKJ-21-830作者：炬豐科技摘要寬帶隙半導體具有許多特性，使其對高功率、高溫器件應用具有吸引力。本文綜述了三種
2021-10-14 11:48:31
各向異性（晶體）化學蝕刻是半導體器件的基礎工藝技術，其中小平面和小平面定義的幾何形狀決定了器件的特性。例子是：（1）具有原子級光滑面的光學設備（波導、激光器）減少損失（2）MEMS，其中幾何形狀可以通過
2021-07-08 13:09:52
齊全、自動化程度高的清洗設備是實現(xiàn)高質量清洗效果的保證。 南通華林科納半導體設備有限公司設備有限公司已成功應用于眾多用戶的生產線，并滿足了用戶的要求。 如有侵權，請聯(lián)系作者刪除`
2021-07-07 10:24:07
`書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：IC制造工藝編號：JFSJ-21-046作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要：集成電路的制造主要包括以下工藝
2021-07-08 13:13:06
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：III-V/SOI 波導電路的化學機械拋光工藝開發(fā)編號：JFSJ-21-064作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com
2021-07-08 13:14:11
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：III-V族半導體納米線結構的光子學特性編號：JFSJ-21-075作者：炬豐科技 摘要：III-V 族半導體納米線 (NW) 由于其沿納米線軸對電子和光子
2021-07-09 10:20:13
黃金。以上只是基于實驗的基礎，實驗設備也比較簡陋，如果再結合濕法清洗設備進行蝕刻工藝，效果會有明顯的提高，南通華林科納半導體設備有限公司生產的濕法清洗設備能在各方面滿足要求，使清洗達到事半功倍的效果。 如有侵權，請聯(lián)系作者刪除
2021-07-09 10:23:37
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：n-GaN的電化學和光刻編號：JFKJ-21-820作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html 摘要 本文利用
2021-10-13 14:43:35
測試，并且在錯誤的情況下可能導致工藝失敗，因此，基于研究的重要性，不管從藥液還是設備都需選擇穩(wěn)定可靠的，而華林科納半導體設備有限公司在濕法刻蝕領域已有十幾年的經驗，其生產的設備功能完善，并能針對客戶的需求給出一系列的解決辦法跟方案。 如有侵權，請聯(lián)系作者刪除
2021-07-06 09:39:22
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：用于半導體封裝基板的化學鍍 Ni-P/Pd/Au編號：JFSJ-21-077作者：炬豐科技 隨著便攜式電子設備的普及，BGA（球柵陣列）越來越多地用于安裝在高密度
2021-07-09 10:29:30
清潔 - 表面問題：金屬污染的起源：來源：設備、工藝、材料和人力，Si表面的過渡金屬沉淀是關鍵。去污：可以對一些暴露于堿或其他金屬污染物的基材進行去污。晶片不得含有任何污染薄膜。這通常在硅的 KOH
2021-07-01 09:42:27
書籍：《炬豐科技-半導體工藝》文章：硅納米柱與金屬輔助化學蝕刻的比較編號：JFSJ-21-015作者：炬豐科技網(wǎng)址：http://www.wetsemi.com/index.html摘要
2021-07-06 09:33:58
表面吸收濕氣。在潮濕環(huán)境中，CO2、H2S、SO2 和 HCl 等氣體會產生導致腐蝕的酸性介質。它們被NH中和3或氫氧化鈉或石灰。12.一些化學品可以降低腐蝕速度。這些化學品稱為腐蝕抑制劑。它們有兩種
2021-07-01 09:40:10
半導體原材料/工序不良的原因- 預防半導體設備配件的品質活動- 查明原材料基因 FAB 工序不良的真正原因及改善活動任職資格:- 本科及以上學歷，化學、化工、材料、新原材料、機械等相關專業(yè)- 有無
2013-05-08 15:02:12
我是南通華林科納半導體的，主要做半導體，太陽能，液晶LED，電子器件濕法工藝，各種清洗，濕制程設備。我們3月14日—16日去上海新國際博覽中心參加2017慕尼黑上海半導體展，有其他去的公司嗎，應該
2017-03-04 11:50:42
哪種半導體工藝最適合某一指定應用？對此，業(yè)界存在著廣泛的爭論。雖然某種特殊工藝技術能更好地服務一些應用，但其它工藝技術也有很大的應用空間。像CMOS、BiCMOS、砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP
2019-08-02 08:23:59
1、GaAs半導體材料可以分為元素半導體和化合物半導體兩大類，元素半導體指硅、鍺單一元素形成的半導體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導體。砷化鎵的電子遷移速率比硅高5.7 倍，非常適合
2019-07-29 07:16:49
功率半導體器件以功率金屬氧化物半導體場效應晶體管(功率MOSFET，常簡寫為功率MOS)、絕緣柵雙極晶體管(IGBT)以及功率集成電路(power IC，常簡寫為PIC)為主。
2020-04-07 09:00:54
單芯片互補式金屬氧化物半導體（CMOS）傳感器有哪幾種？它們分別有什么應用以及特點？
2021-06-17 08:54:54
寧波億諾化學品( ISO9001:2008認證企業(yè)，提供高品質的產品和服務, 2,5-二溴-3-甲基吡啶 [2,5
2010-06-13 17:22:08
MESFET金屬半導體場效應晶體管，后演變?yōu)镠EMT(高速電子遷移率晶體管)，pHEMT(介面應變式高電子遷移電晶體)目前則為HBT(異質接面雙載子晶體管)。異質雙極晶體管(HBT)是無需負電源的砷化鎵組件
2016-09-15 11:28:41
這些可持續(xù)性項目是安森美半導體企業(yè)社會責任活動的重要一環(huán)。每年，我們都會跟蹤150多個以減少碳排放、降低能耗、節(jié)水、減少使用化學品和減少廢物產生為目標的項目。安森美半導體的企業(yè)社會責任大部分建基于我
2018-10-26 08:53:09
招聘蘇州華林科納半導體設備技術有限公司職位月薪：面議工作地點：蘇州工作性質：全職工作經驗：1年以上最低學歷：大專招聘人數(shù)：5人 職位類別：銷售經理職位描述要求：工作經驗：1年以上崗位職責：1、負責
2015-07-28 11:38:16
circuit technique ）（百度百科）電子集成技術按工藝方法分為以硅平面工藝為基礎的單片集成電路、以薄膜技術為基礎的薄膜集成電路和以絲網(wǎng)印刷技術為基礎的厚膜集成電路。 半導體工藝是集成電路工藝
2009-09-16 11:51:34
蘇州晶淼有限公司專業(yè)制作半導體設備、LED清洗腐蝕設備、硅片清洗、酸洗設備等王經理***/13771786452
2016-07-20 11:58:26
基于Labview的7200T化學品船機艙監(jiān)測報警系統(tǒng) 有沒有大神能幫助一下，給點啟發(fā)，不知從何下手啊，謝謝大神
2013-01-14 15:40:07
本帖最后由 青島晶誠電子設備 于 2017-12-15 13:48 編輯
青島晶誠電子設備公司主營產品有：半導體設備（SemiconductorEquipment）：硅片清洗機/晶圓清洗機
2017-12-15 13:41:58
用785便攜拉曼光譜儀成功為知名化學醫(yī)藥企業(yè)測試化學品高利通科技GL-PRS-785便攜拉曼光譜儀能夠測量各式各樣的化學品的拉曼光譜。下面，我們對甲氧基苯甲酸粗品和羥基苯甲酸進行了拉曼光譜檢測，可以
2017-10-19 11:22:26
絕大部分工藝都是相似的。各個工藝環(huán)節(jié)對純水的要求也是大同小異。我們在半導體生產過程中常用到的電鍍銅，錫，鎳金;化學鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產過程都需要用到不同要求的純水。 半導體用純水典型
2013-08-12 16:52:42
芯片制造-半導體工藝制程實用教程學習筆記[/hide]
2009-11-18 11:44:51
蘇州華林科納半導體設備技術有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備的設計、研發(fā)、生產及銷售；同時代理半導體、太陽能、FPD領域其它國外設備，負責
2015-04-02 17:26:21
公司名稱：蘇州華林科納半導體設備技術有限公司公司地址：蘇州工業(yè)園區(qū)啟月街288號公司電話：0512-62872541蘇州華林科納半導體設備技術有限公司主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備
2016-10-26 17:05:04
深圳市薩科微半導體有限公司，技術骨干來自清華大學和韓國延世大學，掌握第三代半導體碳化硅功率器件國際領先的工藝，和第五代超快恢復功率二極管技術。薩科微slkor（www.slkormicro.com
2022-05-31 14:00:20
蘇州華林科納半導體設備技術有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備的設計、研發(fā)、生產及銷售；同時代理半導體、太陽能、FPD領域其它國外設備，負責
2015-04-02 17:22:46
試述為什么金屬的電阻溫度系數(shù)是正的而半導體的是負的？
2023-04-23 11:27:04
，元素半導體指硅、鍺單一元素形成的半導體，化合物指砷化鎵、磷化銦等化合物形成的半導體。隨著無線通信的發(fā)展，高頻電路應用越來越廣，今天我們來介紹適合用于射頻、微波等高頻電路的半導體材料及工藝情況。
2019-06-27 06:18:41
一、劇毒化學品的判定界限1.劇毒化學品的定義劇毒化學品是指具有非常劇烈毒性危害的化學品，包括人工合成的化學品及其混合物（含農藥）和天然毒素。2.劇毒化學品毒
2009-04-09 21:59:51
0 、無機化學品、有機化學品、有機溶劑、清洗劑、半導體、超純水、電子產品、平板玻璃、硅晶片、等產品進行在線顆粒監(jiān)測和分析。產品優(yōu)勢：在線優(yōu)勢：在線化學品液體微粒子計數(shù)器為生產
2022-12-14 11:37:02
、無機化學品、有機化學品、有機溶劑、清洗劑、半導體、超純水、電子產品、平板玻璃、硅晶片、等產品進行在線顆粒監(jiān)測和分析。產品優(yōu)勢：在線優(yōu)勢：MPS-100A化學品、光刻
2023-01-03 15:30:32
半導體各工藝簡介:1、單晶硅片的制備CZ法主要工藝工程: 籽晶熔接: 加大加熱功率，使多晶硅完全熔化，并揮發(fā)一定時間后，將籽晶下降與液面接近，使籽晶預熱幾分鐘
2009-11-24 17:57:1249 寧夏銀和半導體科技有限公司8英寸半導體硅片項目進入設備裝配期，8英寸半導體級單晶硅片將于6月份試生產。
2018-04-21 16:44:002095 硅是目前最主要的 半導體 基礎材料，90%以上的半導體芯片產品是用 硅片 制作出來的。隨著半導體行業(yè)重回景氣周期，2017年全球銷售額已超4000億美元，半導體硅片量價齊升。其中，12吋硅片占主流，8吋硅片需求穩(wěn)中有升。并且硅片供不應求的局面將長期持續(xù)。
2018-05-03 09:11:011509 本文檔的主要內容詳細介紹的是半導體制造工藝教程的詳細資料免費下載主要內容包括了：1.1 引言 1.2基本半導體元器件結構 1.3半導體器件工藝的發(fā)展歷史 1.4集成電路制造階段 1.5半導體制造企業(yè) 1.6基本的半導體材料 1.7 半導體制造中使用的化學品 1.8芯片制造的生產環(huán)境
2018-11-19 08:00:00200 半導體廠主要生產半導體原材料，比較高純度的硅，在提煉硅的時候，可能存在空氣和水污染?？諝?b class="flag-6" style="color: red">污染主要來源于在處理過程中揮發(fā)出來的酸性氣體，水污染除了有加工使用的化學物質外，還可能帶來重金屬的污染。
2019-03-27 17:14:4625491 近日，芯恩（青島）集成電路有限公司董事長張汝京博士在談到中國半導體材料現(xiàn)狀時表示，國內光刻膠、特種化學品以及光掩膜版是缺少的。但國產硅片和特種氣體發(fā)展得很好。
2019-09-18 14:28:344870 化學品在儲存或者運輸?shù)倪^程中一般是需要使用到專用的容器，為了防止化學品發(fā)生泄露， 那么按照正常的標準來說就需要嚴格做到良好的容器密封性，就可以保證化學品在儲存或者運輸?shù)倪^程中會安全穩(wěn)定，其實不然
2020-08-11 10:25:05631 還是集中在200mm(8英寸）或以下尺寸，300mm半導體硅片幾乎全部依賴進口。 半導體的材料主要包括硅片、電子氣體、光掩膜、光刻膠配套化學品、拋光材料、光刻膠、濕法化學品與濺射靶材等。其中硅片約占半導體制造材料的三分之一，90%以上的半導體產
2021-01-29 12:17:402251 半導體工藝化學原理。
2021-03-19 17:07:23111 近年來，在半導體工業(yè)中，逐漸確立了將臭氧運用于晶圓清洗工藝中，這主要是利用了臭氧在水相中氧化有機污染物和金屬污染物的性能。
2021-09-27 17:39:032292 書籍：《炬豐科技-半導體工藝》 文章：金屬氧化物半導體的制造 編號：JFKJ-21-207 作者：炬豐科技 概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設計規(guī)則 ? 互補金屬氧化物
2023-04-20 11:16:00248 
[技術領域] 本實用新型涉及半導體制造技術領域，具體地說是一種酸性化學品供應控制系 統(tǒng)。 由于半導體行業(yè)中芯片生產線的工作對象是硅晶片，而能在硅晶片上蝕刻圖形 以及清洗硅晶片上的雜質、微粒子的化學品
2023-04-20 13:57:0074 本方法一般涉及半導體的制造，更具體地說，涉及在生產最終半導體產品如集成電路的過程中清洗半導體或 硅晶片，由此中間清洗步驟去除在先前處理步驟中沉積在相關硅晶片表面上的污染物。
2021-12-20 17:21:051171 
氫氧化鉀(KOH)是一種用于各向異性濕法蝕刻技術的堿金屬氫氧化物，是用于微加工硅片的最常用的硅蝕刻化學物質之一。各向異性蝕刻優(yōu)先侵蝕基底。也就是說，它們在某些方向上的蝕刻速率比在其他方向上的蝕刻速率
2022-01-11 11:50:332152 
半導體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆?；蛉毕?。擴散、光和化學氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉擦洗之前有預清潔作為濕法清潔/蝕刻工藝
2022-02-22 13:47:511696 
摘要 提供了清潔覆蓋半導體襯底的金屬區(qū)域的方法。文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁從金屬區(qū)域去除材料的方法包括加熱金屬區(qū)域，由包含氫氣和二氧化碳的氣體形成等離子體，以及將金屬區(qū)域暴露于等離子體
2022-02-24 13:45:53946 
摘要 處理納米級顆粒污染仍然是半導體器件制造過程中的主要挑戰(zhàn)之一。對于越來越多的關鍵處理步驟而言尤其如此，在這些步驟中，需要去除顆粒物質的殘留物而不會對敏感器件圖案造成機械損壞，同時實現(xiàn)盡可能
2022-03-01 14:35:08364 
本文通過繪制少數(shù)載流子擴散長度、體中鐵濃度和表面污染（表面電荷和表面重組），介紹了表面光電電壓(SPV)在監(jiān)測化學清洗和化學品純度方面的應用。新的SPV方法和精密儀器的非接觸性、晶片級的特性使該技術
2022-03-09 14:38:22715 
半導體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆?；蛉毕?。擴散、光和化學氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉擦洗之前有預清潔作為濕法清潔/蝕刻工藝
2022-04-21 12:27:43589 
濕電子化學品是微電子制造技術的關鍵性材料，在顯影、蝕刻、清洗等工藝中必不可少，直接關系到下游產品質量。由于處于精細化工和電子信息行業(yè)交叉的領域，其專業(yè)跨度大，技術門檻高，被德國、美國和日本的知名企業(yè)占據(jù)著高端市場大部分份額。
2022-06-06 10:46:334767 硅片是芯片的起點，2021年全球半導體硅片市場規(guī)模達140億美元，行業(yè)高度集中，CR5市場份額接近90%。硅片是用量最大的半導體材料， 90%以上半導體產品使用硅片制造。隨著5G、新能源、AIoT
2022-10-09 16:10:212128 單晶硅錠經過切片、研磨、蝕刻、拋光、外延（如有）、鍵合（如有）、清洗等工藝步驟，制造成為半導體硅片。在生產環(huán)節(jié)中，半導體硅片需要盡可能地減少晶體缺陷，保持極高的平整度與表面潔凈度，以保證集成電路或半導體器件的可靠性。
2022-11-02 09:26:274255 本篇要講的金屬布線工藝，與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨立的工藝不同。在半導體制程中，光刻、刻蝕等工藝，其實是為了金屬布線才進行的。在金屬布線過程中，會采用很多與之前的電子元器件層性質不同的配線材料（金屬）。
2023-04-25 10:38:49986 
晶圓表面的潔凈度對于后續(xù)半導體工藝以及產品合格率會造成一定程度的影響，最常見的主要污染包括金屬、有機物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結果可用以反應某一工藝步驟、特定機臺或是整體工藝中所遭遇的污染
2023-06-06 10:29:151093 
半導體同時具有“導體”的特性，因此允許電流通過，而絕緣體則不允許電流通過。離子注入工藝將雜質添加到純硅中，使其具有導電性能。我們可以根據(jù)實際需要使半導體導電或絕緣。 重復光刻、刻蝕和離子注入步驟會在
2023-07-03 10:21:572170 
的影響。高純PFA擴口接頭采用高度純凈的PFA材料制造，確保管道系統(tǒng)中的流體不受雜質污染。這種高純度的材料選擇有助于維持制程的穩(wěn)定性，降低產物缺陷率，從而提高光伏器件的性能和效率。 其次，半導體光伏工藝涉及許多化學反應和腐蝕性
2023-08-14 16:51:29276 濕法腐蝕在半導體工藝里面占有很重要的一塊。不懂化學的芯片工程師是做不好芯片工藝的。
2023-08-30 10:09:041705 
很多半導體、光伏行業(yè)的制造企業(yè)在選擇化學品酸堿輸送供應管道時，都喜歡選擇華林科納的高純PFA管，選擇華林科納生產的高純PFA管作為化學品酸堿輸送供應管道有以下幾個重要原因： 1、優(yōu)異的化學穩(wěn)定性
2023-09-13 17:29:48266 管在半導體和太陽能光伏領域的應用與優(yōu)勢備受關注。 華林科納是一家專注于生產高性能氟化共聚物材料的公司。其生產的PFA管具有優(yōu)異的耐化學腐蝕、耐高溫、低摩擦系數(shù)和高絕緣性能等特性。在半導體和太陽能光伏領域，華林科納的PFA管具
2023-10-17 10:19:25199 隨著科技的不斷發(fā)展，半導體技術在全球范圍內得到了廣泛應用。半導體設備在制造過程中需要經過多個工藝步驟，而每個步驟都需要使用到各種不同的材料和設備。其中，華林科納的PFA管在半導體清洗工藝中扮演著
2023-10-16 15:34:34258 半導體硅片行業(yè)深度報告
2023-01-13 09:06:496 半導體前端工藝：第六篇（完結篇）：金屬布線 —— 為半導體注入生命的連接
2023-11-27 16:11:35254 
晶圓表面的潔凈度對于后續(xù)半導體工藝以及產品合格率會造成一定程度的影響，最常見的主要污染包括金屬、有機物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結果可用以反應某一工藝步驟、特定機臺或是整體工藝中所遭遇的污染程度與種類。
2024-02-23 17:34:23323 
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