在國產(chǎn)芯片的發(fā)展,正在承受前所未有的壓力,尤其是在芯片制造方面。
22納米意味著集成電路集成度會更高,一個晶圓(wafer)上可以流出更多的芯片,意味著原材料成本的分攤。而且特征尺寸越來越小也意味著晶體管開關速度的提升,以及芯片功耗的降低。
國產(chǎn)22納米光刻機技術很先進,是一種世界級的技術突破,原理上突破分辨力衍射極限,也是全球首臺只用紫外光源,就能實現(xiàn)的22納米分辨率的光刻機。
22nm和28nm的差異
與28nm相比,功耗更低,性能更強。還能通過正負偏壓來進行功耗和性能的這種,但是采用偏壓的話也不是沒有成本。要有額外的IP來提供偏壓所需的正負壓。
22nm的芯片面積比28nm的芯片面積小了大概20%—30%左右。22nm芯片的mask層數(shù)減少。
文章綜合知乎、澎湃新聞、騰訊云計算
編輯:黃飛
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