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標(biāo)簽 > 清洗
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「多案例分享」水泥行業(yè)設(shè)備清洗,你還在用傳統(tǒng)清洗方法嗎?
因水垢的成分是碳酸鈣,碳酸鈣是不溶于水的,因該企業(yè)所在地區(qū)嚴(yán)重缺水,生產(chǎn)用水都是從外面購(gòu)買,此次購(gòu)買的水源品質(zhì)不是很好,在其里面是溶解著大量的放入碳酸氫...
2022-09-20 標(biāo)簽:清洗 555 0
等離子清洗機(jī)主要通過(guò)氣體放電產(chǎn)生等離子。氣體放電中含有電子、離子、自由基、紫外線等高能物質(zhì),具有活化材料表面的作用。
2022-08-29 標(biāo)簽:清洗 1470 0
等離子表面處理設(shè)備plasma在醫(yī)療領(lǐng)域的功能及應(yīng)用案例
等離子表面處理設(shè)備在醫(yī)療領(lǐng)域主要功能: 1、對(duì)產(chǎn)品表面預(yù)清潔: O2 等離子體可以吸附附著在產(chǎn)品表面的微小顆粒物及其他污染物, 通過(guò)真空泵把混合氣體抽出...
2022-08-19 標(biāo)簽:清洗 1283 0
博易盛 全自動(dòng)吸嘴清洗機(jī)帶檢測(cè) 帶檢測(cè)吸嘴清洗機(jī)廠家
到底什么是吸嘴清洗檢測(cè)一體機(jī)?吸嘴清洗檢測(cè)一體機(jī)是一種可以對(duì)吸嘴進(jìn)行清洗、檢測(cè)的SMT制造行業(yè)新設(shè)備,它廣泛應(yīng)用于SMT車間貼片機(jī)復(fù)雜精密吸嘴及高要求吸...
實(shí)驗(yàn)室超聲波清洗器是如何運(yùn)行的?
生物實(shí)驗(yàn)室做為科研的搖籃,每天要開展各種各樣試驗(yàn),在實(shí)驗(yàn)步驟中常用的各種各樣儀器配件、器皿、專用工具如試管、量杯、玻璃片、電子秤、棱鏡、醫(yī)用鑷子、鉗子等...
蒸發(fā)冷凝器清洗的工藝、注意事項(xiàng)及現(xiàn)場(chǎng)清洗案例
一、水垢的成因和工業(yè)清洗的意義 化學(xué)工業(yè)的生產(chǎn)過(guò)程中,由于很多方面的原因,換熱器設(shè)備等管道中都會(huì)產(chǎn)生很多如碳酸垢、結(jié)焦、油污垢、水垢、沉積物、腐蝕產(chǎn)物、...
晶片清洗和表面處理的重要性 RCA清洗過(guò)程的詳細(xì)步驟
硅集成電路(IC)的制造需要500-600個(gè)工藝步驟,這取決于器件的具體類型。在將完整的晶片切割成單個(gè)芯片之前,大多數(shù)步驟都是作為單元工藝來(lái)執(zhí)行的。大約...
等離子清洗不僅可以大大提高引線框架的粘接性能和粘接強(qiáng)度,而且可以避免人為因素長(zhǎng)期接觸引線框架造成的二次污染。等離子清洗技術(shù)后,產(chǎn)品處理的結(jié)果通常通過(guò)水滴...
本文描述了我們?nèi)A林科納單晶片超電子清洗方法的開發(fā)、測(cè)試和驗(yàn)證,該傳感器設(shè)計(jì)滿足極端顆粒中性、顆粒去除效率(PRE)和生產(chǎn)規(guī)模晶片粘合的可重復(fù)性要求,以及...
使用清洗溶液實(shí)現(xiàn)蝕刻后殘留物的完全去除
我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體開發(fā)了一種新的濕法清洗配方方法,其錫蝕刻速率在室溫下超過(guò)30/min,在50°c下超過(guò)100/min。該化學(xué)品與銅和低k材料兼容,適用...
表面和亞微米深溝槽的清洗在半導(dǎo)體制造中是一個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。在這項(xiàng)工作中,使用物理數(shù)值模擬研究了使用脈動(dòng)流清洗毯式和圖案化晶片。毯式晶片清洗工藝的初步結(jié)果與...
評(píng)估各種清洗技術(shù)的典型方法是在晶片表面沉積氮化硅(Si,N4)顆粒,然后通過(guò)所需的清洗工藝處理晶片。國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)路線圖規(guī)定了從硅片上去除顆粒百分比的標(biāo)...
使用精密滾動(dòng)軸承時(shí),為了得到最高轉(zhuǎn)速和較低的溫升效果,軸承的安裝作業(yè)十分重要。
本發(fā)明公開了一種用濕式均勻清洗半導(dǎo)體晶片的方法,所公開的本發(fā)明的特點(diǎn)是:具備半導(dǎo)體晶片和含有預(yù)定清潔液的清潔組、對(duì)齊上述半導(dǎo)體晶片的平坦區(qū)域,使其不與上...
本發(fā)明涉及一種晶片干洗系統(tǒng),更詳細(xì)地說(shuō),涉及一種能夠提高對(duì)晶片的干燥效率的馬蘭戈尼型(MARANGONI)TYPE)干洗系統(tǒng)。馬蘭戈尼型干燥劑系統(tǒng),可以...
2022-04-11 標(biāo)簽:晶片清洗干燥系統(tǒng) 723 0
雖然RCA濕式清洗工藝具有較高的清洗性能,但仍存在化學(xué)消耗量高、化學(xué)使用壽命短、設(shè)備大、化學(xué)廢物產(chǎn)生量大等問(wèn)題。傳統(tǒng)的臭氧化水(DIO3)濕式清洗系統(tǒng)具...
碳化硅(SiC)器件制造技術(shù)與硅制造有許多相似之處,但識(shí)別材料差異是否會(huì)影響清洗能力對(duì)于這個(gè)不斷發(fā)展的領(lǐng)域很有意義。材料參數(shù)差異包括擴(kuò)散系數(shù)、表面能和化...
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