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靜電防護(hù)

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為防止靜電積累所引起的人身電擊、火災(zāi)和爆炸、電子器件失效和損壞,以及對(duì)生產(chǎn)的不良影響而采取的防范措施。其防范原則主要是抑制靜電的產(chǎn)生,加速靜電泄漏,進(jìn)行靜電中和等。

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靜電防護(hù)簡介

  靜電防護(hù)概念electrostatic protection為防止靜電積累所引起的人身電擊、火災(zāi)和爆炸、電子器件失效和損壞,以及對(duì)生產(chǎn)的不良影響而采取的防范措施。其防范原則主要是抑制靜電的產(chǎn)生,加速靜電的泄漏,進(jìn)行靜電中和等。人穿非導(dǎo)電鞋時(shí),由于行走等活動(dòng)會(huì)產(chǎn)生、積蓄電荷,并可達(dá)到千伏級(jí)的電位。在毛毯上行走、脫衣等所產(chǎn)生最高電位可達(dá)2450伏。此時(shí)人觸及其他物體會(huì)產(chǎn)生火花放電并受到電擊。人體活動(dòng)中防靜電措施主要有?穿導(dǎo)電性鞋;工作服和內(nèi)衣褲不使用化纖面料;穿混有導(dǎo)電性纖維或用防靜電劑處理的防靜電工作服;工作地面作導(dǎo)電化處理等。兩個(gè)不同的物體相互接觸時(shí),在其界面上產(chǎn)生電荷移動(dòng),正、靜電防護(hù)負(fù)電荷相對(duì)排列形成雙電層。若將物體分離,會(huì)在兩個(gè)物體上各自產(chǎn)生極性不同的等量電荷。

靜電防護(hù)百科

  靜電防護(hù)概念electrostatic protection為防止靜電積累所引起的人身電擊、火災(zāi)和爆炸、電子器件失效和損壞,以及對(duì)生產(chǎn)的不良影響而采取的防范措施。其防范原則主要是抑制靜電的產(chǎn)生,加速靜電的泄漏,進(jìn)行靜電中和等。人穿非導(dǎo)電鞋時(shí),由于行走等活動(dòng)會(huì)產(chǎn)生、積蓄電荷,并可達(dá)到千伏級(jí)的電位。在毛毯上行走、脫衣等所產(chǎn)生最高電位可達(dá)2450伏。此時(shí)人觸及其他物體會(huì)產(chǎn)生火花放電并受到電擊。人體活動(dòng)中防靜電措施主要有?穿導(dǎo)電性鞋;工作服和內(nèi)衣褲不使用化纖面料;穿混有導(dǎo)電性纖維或用防靜電劑處理的防靜電工作服;工作地面作導(dǎo)電化處理等。兩個(gè)不同的物體相互接觸時(shí),在其界面上產(chǎn)生電荷移動(dòng),正、靜電防護(hù)負(fù)電荷相對(duì)排列形成雙電層。若將物體分離,會(huì)在兩個(gè)物體上各自產(chǎn)生極性不同的等量電荷。

  靜電防護(hù)

  防靜電原則對(duì)產(chǎn)生靜電的主要因素(物體的特性、表面狀態(tài)、帶電歷史、接觸面積和壓力、分離速度等)盡量予以排除;使相互接觸的物體在帶電序列中所處的位置盡量接近;使物體間的接觸面積和壓力要小,溫度要低,接觸次數(shù)要少,分離速度要小,接觸狀態(tài)不要急劇變化等。粉體、液體、氣體在運(yùn)輸過程中由于摩擦?xí)a(chǎn)生靜電。因此,要采取限制流速、減少管道的彎曲。增大直徑、避免振動(dòng)等措施。靜電防護(hù)除降低速度、壓力、減少摩擦及接觸頻率,選用適當(dāng)材料及形狀,增大電導(dǎo)率等抑制措施外,還可采取下列措施:①接地。②搭接(或跨接)。③屏蔽。④對(duì)幾乎不能泄漏靜電的絕緣體用抗靜電劑以增大電導(dǎo)率,使靜電易于泄漏。⑤采用噴霧、灑水等方法提高環(huán)境濕度,抑制靜電的產(chǎn)生。⑥使用靜電消除器,進(jìn)行靜電中和。

  靜電防護(hù)

  固體產(chǎn)生的靜電及抑制  兩個(gè)不同的物體相互接觸時(shí),在其界面上產(chǎn)生電荷移動(dòng),正、負(fù)電荷相對(duì)排列形成雙電層。這時(shí),若將物體進(jìn)行分離,會(huì)在兩個(gè)物體上各自產(chǎn)生極性不同的等量電荷。一般是當(dāng)相互接觸的兩物體在“帶電序列”中所居位置離得越遠(yuǎn)則產(chǎn)生靜電的量越大。電荷的極性則根據(jù)帶電序列中的相對(duì)位置而定。

  相互接觸和分離過程中,物體積蓄正(+)或負(fù)(-)的過剩電荷會(huì)由于放電和傳導(dǎo)而中和,或向空間和大地泄漏而趨向減少,這一過程稱為電荷緩和。一般情況下,在產(chǎn)生靜電的同時(shí)就開始緩和。由于凡是接觸和分離的任何物體都會(huì)產(chǎn)生或強(qiáng)或弱的靜電,因而,對(duì)于靜電極為敏感的現(xiàn)代電子器件、新型火藥、閃點(diǎn)很低的易燃、易爆氣體(如在常溫、常壓下即能揮發(fā)的液氫等低閃點(diǎn)特種火箭燃料)等,只要微弱的靜電即可能造成事故或火災(zāi)、爆炸,所以防止產(chǎn)生靜電或消除靜電的危害是較難的技術(shù)問題。至于由靜電導(dǎo)致的放電作用引起生產(chǎn)過程中膠片感光、電子元件損壞,力學(xué)作用引起的纖維纏結(jié)和印刷紙張不齊等,也是復(fù)雜的問題。

  防止靜電的原則

  防止產(chǎn)生靜電的原則是:①對(duì)產(chǎn)生靜電的主要因素盡量予以排除。影響靜電產(chǎn)生的主要因素有:物體的特性;物體的表面狀態(tài);物體的帶電歷史;接觸面積及其壓力;分離速度。②應(yīng)參照表3所示的帶電序列,使相互接觸的物體在帶電序列中所處的位置盡量接近。③使物體間的接觸面積和壓力要小,溫度要低,接觸次數(shù)要少,分離速度要小,接觸狀態(tài)不要急劇變化。靜電防護(hù)

  粉體產(chǎn)生的靜電及抑制

  粉體在空氣輸送、皮帶輸送或過篩過程中,會(huì)因粉體間或粉體與管壁間的摩擦而產(chǎn)生靜電。因此:①管道內(nèi)輸送速度不應(yīng)超過某一限值,管道直徑應(yīng)不小于某一最小值。管內(nèi)不得設(shè)有網(wǎng)、格等妨礙輸送并產(chǎn)生靜電的物體。粉體的大小和形狀應(yīng)進(jìn)行優(yōu)選。②盡量減少管路的彎曲和收縮;避免風(fēng)速和輸送量的急劇變化。③應(yīng)采用適當(dāng)?shù)目諝庹駝?dòng)等措施,對(duì)管壁內(nèi)表面進(jìn)行定期清掃和檢修,防止粉體的堆集。④輸送管道應(yīng)盡量使用導(dǎo)電性材料制作,并將其接地。⑤應(yīng)優(yōu)選螺旋葉片的形狀和螺旋的轉(zhuǎn)數(shù)上限;應(yīng)避免傳送帶發(fā)生振動(dòng)或由于輸送量失當(dāng)而產(chǎn)生異常振動(dòng),且不應(yīng)使粉體懸浮和飛散。⑥在斗式輸送中,料斗和漏斗的壁面斜度應(yīng)接近于垂直,以減少摩擦面積;斗壁應(yīng)不使粉體落下過程受到擾亂;應(yīng)定期進(jìn)行清掃;在料斗上盡量不安裝金屬制滑動(dòng)固定器。⑦應(yīng)優(yōu)選粉體的大小和形狀,以及料斗的材質(zhì),使靜電盡量減少。⑧料斗和漏斗等應(yīng)盡量使用導(dǎo)電性材料,并將其接地。

  靜電防護(hù)

  靜電防護(hù)

  液體產(chǎn)生的靜電及抑制

  液體在管路輸送過程中,或流過軟管時(shí),由于液體間的摩擦,或由于液體與泵發(fā)生摩擦而產(chǎn)生靜電。在其他條件相同時(shí),靜電與流速的1.8~2次方成比例。為限制靜電,應(yīng)注意:①烴類油料的流速不應(yīng)超過表4中所列數(shù)值。②在輸送能力相同的條件下,應(yīng)將配管和軟管的直徑加大,將流速減小。③不應(yīng)有湍流或急劇變化的輸送狀態(tài),配管應(yīng)盡量減少彎曲和收縮的部分,配管內(nèi)壁應(yīng)光滑。管內(nèi)不要裝設(shè)金屬網(wǎng)、突出物等。過濾器應(yīng)盡量設(shè)置于流源側(cè)。④在任何局部和任何時(shí)間內(nèi)流速都不應(yīng)有急劇變化,輸送初期和終了時(shí)應(yīng)控制在小的流速,中期流速不得超過規(guī)定值。⑤液體中不得混入空氣、水、灰塵和氧化物(銹等)等雜物。⑥應(yīng)在配管和軟管的終端部裝設(shè)直徑大的、減小流速用的緩和管段和緩和罐等。⑦用油輪、罐車、油罐汽車、罐和其他容器輸送液體時(shí),應(yīng)注意由于罐的振動(dòng),液體與器壁摩擦而產(chǎn)生靜電。輸送時(shí)移動(dòng)速度不應(yīng)急劇變化,應(yīng)盡量勻速移動(dòng);在罐內(nèi)應(yīng)設(shè)隔板加以隔開,不應(yīng)使液體起波浪或飛濺;液體中不得混入雜物;罐的內(nèi)部應(yīng)定期清掃。

  氣體產(chǎn)生的靜電及抑制

  氣體在流動(dòng)和噴出過程中,會(huì)因高壓空氣中含有壓縮機(jī)油和因壓縮產(chǎn)生的凝結(jié)水霧,以及管銹、灰塵等的粒子流動(dòng)于管內(nèi),或由開口部噴出時(shí),粒子與壁面和附近的物體發(fā)生沖撞和摩擦而產(chǎn)生靜電。因此:①應(yīng)用空氣過濾器將霧和粒子等濾除后再進(jìn)行流動(dòng)和噴出。②噴出流量應(yīng)少,噴出壓力應(yīng)低,特別注意氫氣類噴出引起爆炸。③管路和軟管等在使用前應(yīng)清掃,清除銹和灰塵。④凝縮二氧化碳噴出時(shí),應(yīng)避免開口部出現(xiàn)干冰,因?yàn)樗c液相成分互相沖撞和摩擦,或與壁面沖撞、摩擦和飛濺而產(chǎn)生靜電。⑤液化石油氣瓶、管的開口部及法蘭應(yīng)清掃,并保持清潔。⑥氫、乙炔、丙烷、城市煤氣和氮?dú)獾膬?chǔ)氣瓶、管路、軟管等在使用前應(yīng)進(jìn)行清掃,清除銹和水分等。盡量不用膠皮管,而使用金屬管,并將其接地。⑦水蒸氣管道開口部易產(chǎn)生靜電,應(yīng)盡量使用干燥的水蒸氣,噴出量應(yīng)少,噴出壓力應(yīng)盡量限制在98牛/厘米2以下,且應(yīng)使用靜電少的噴嘴,噴嘴與物體間應(yīng)有足夠的距離。⑧煙霧劑和油漆噴霧時(shí),不要對(duì)著近距離的物體進(jìn)行大量和激烈的噴出。⑨ 飛機(jī)和航天器在飛行中與空氣摩擦而產(chǎn)生靜電,圖2是火箭高度(公里)與電位(千伏)的關(guān)系。利用裝于適當(dāng)位置的防靜電針,可將靜電泄放到大氣中,以防止電位的過度升高。中國發(fā)射同步衛(wèi)星的捆綁式火箭即裝有防靜電針。

  靜電防護(hù)

  防護(hù)措施

  除降低速度、壓力、減少摩擦及接觸頻率,選用適當(dāng)材料及形狀,增大電導(dǎo)率等抑制措施外,還可采取下列措施:

 ?、俳拥?,即將金屬導(dǎo)體與大地(接地裝置)進(jìn)行電氣上的連接,以便將電荷泄漏到大地。此法適合于消除導(dǎo)體和電阻率在 108歐以下物體上的靜電,而不宜用來消除絕緣體上的靜電,因?yàn)榻^緣體的接地容易發(fā)生火花放電,引起易燃易爆液體、氣體的點(diǎn)燃或造成對(duì)電子設(shè)施的干擾。應(yīng)使絕緣體與大地間保持106~109歐的電阻。僅供消除導(dǎo)體上靜電用的接地,電阻值一般不宜超過 100~1000歐。非金屬導(dǎo)體接地處應(yīng)包上接觸可靠的金屬物或使用導(dǎo)電涂料,接觸面積不小于 10厘米2。移動(dòng)設(shè)備不能保持經(jīng)常接地,接地操作應(yīng)選在沒有危險(xiǎn)的場合和時(shí)間。

 ?、诖罱樱ɑ蚩缃樱蓚€(gè)以上獨(dú)立的金屬導(dǎo)體進(jìn)行電氣上的連接,使其相互間大體上處于相同的電位(圖3)。

 ?、燮帘?。用接地的金屬線或金屬網(wǎng)等將帶電的物體表面進(jìn)行包覆,從而將靜電危害限制到不致發(fā)生的程度。屏蔽措施還可防止電子設(shè)施受到靜電的干擾。

 ?、軐?duì)幾乎不能泄漏靜電的絕緣體,采用抗靜電劑以增大電導(dǎo)率,使靜電易于泄漏。

  ⑤采用噴霧、灑水等方法,使環(huán)境相對(duì)濕度提高到60~70%,以抑制靜電的產(chǎn)生,解決紡織廠等生產(chǎn)中靜電的問題。

  靜電保護(hù)(ESD)原理和設(shè)計(jì)

  一直想給大家講講ESD的理論,很經(jīng)典。但是由于理論性太強(qiáng),如果前面那些器件理論以及snap-back理論不懂的話,這個(gè)大家也不要浪費(fèi)時(shí)間看了。任何理論都是一環(huán)套一環(huán)的,如果你不會(huì)畫雞蛋,注定了你就不會(huì)畫大衛(wèi)。

  靜電放電(ESD: Electrostatic Discharge),應(yīng)該是造成所有電子元器件或集成電路系統(tǒng)造成過度電應(yīng)力(EOS: Electrical Over Stress)破壞的主要元兇。因?yàn)殪o電通常瞬間電壓非常高(》幾千伏),所以這種損傷是毀滅性和永久性的,會(huì)造成電路直接燒毀。所以預(yù)防靜電損傷是所有IC設(shè)計(jì)和制造的頭號(hào)難題。

  靜電,通常都是人為產(chǎn)生的,如生產(chǎn)、組裝、測試、存放、搬運(yùn)等過程中都有可能使得靜電累積在人體、儀器或設(shè)備中,甚至元器件本身也會(huì)累積靜電,當(dāng)人們?cè)诓恢榈那闆r下使這些帶電的物體接觸就會(huì)形成放電路徑,瞬間使得電子元件或系統(tǒng)遭到靜電放電的損壞(這就是為什么以前修電腦都必須要配戴靜電環(huán)托在工作桌上,防止人體的靜電損傷芯片),如同云層中儲(chǔ)存的電荷瞬間擊穿云層產(chǎn)生劇烈的閃電,會(huì)把大地劈開一樣,而且通常都是在雨天來臨之際,因?yàn)榭諝鉂穸却笠仔纬蓪?dǎo)電通到。

  

  那么,如何防止靜電放電損傷呢?首先當(dāng)然改變壞境從源頭減少靜電(比如減少摩擦、少穿羊毛類毛衣、控制空氣溫濕度等),當(dāng)然這不是我們今天討論的重點(diǎn)。我們今天要討論的時(shí)候如何在電路里面涉及保護(hù)電路,當(dāng)外界有靜電的時(shí)候我們的電子元器件或系統(tǒng)能夠自我保護(hù)避免被靜電損壞(其實(shí)就是安裝一個(gè)避雷針)。這也是很多IC設(shè)計(jì)和制造業(yè)者的頭號(hào)難題,很多公司有專門設(shè)計(jì)ESD的團(tuán)隊(duì),今天我就和大家從最基本的理論講起逐步講解ESD保護(hù)的原理及注意點(diǎn),你會(huì)發(fā)現(xiàn)前面講的PN結(jié)/二極管、三極管、MOS管、snap-back全都用上了。。。

  以前的專題講解PN結(jié)二極管理論的時(shí)候,就講過二極管有一個(gè)特性:正向?qū)ǚ聪蚪刂梗ú挥浀镁腿シ懊娴恼n程),而且反偏電壓繼續(xù)增加會(huì)發(fā)生雪崩擊穿(Avalanche Breakdown)而導(dǎo)通,我們稱之為鉗位二極管(Clamp)。這正是我們?cè)O(shè)計(jì)靜電保護(hù)所需要的理論基礎(chǔ),我們就是利用這個(gè)反向截止特性讓這個(gè)旁路在正常工作時(shí)處于斷開狀態(tài),而外界有靜電的時(shí)候這個(gè)旁路二極管發(fā)生雪崩擊穿而形成旁路通路保護(hù)了內(nèi)部電路或者柵極(是不是類似家里水槽有個(gè)溢水口,防止水龍頭忘關(guān)了導(dǎo)致整個(gè)衛(wèi)生間水災(zāi))。那么問題來了,這個(gè)擊穿了這個(gè)保護(hù)電路是不是就徹底死了?難道是一次性的?答案當(dāng)然不是。PN結(jié)的擊穿分兩種,分別是電擊穿和熱擊穿,電擊穿指的是雪崩擊穿(低濃度)和齊納擊穿(高濃度),而這個(gè)電擊穿主要是載流子碰撞電離產(chǎn)生新的電子-空穴對(duì)(electron-hole),所以它是可恢復(fù)的。但是熱擊穿是不可恢復(fù)的,因?yàn)闊崃烤奂瘜?dǎo)致硅(Si)被熔融燒毀了。所以我們需要控制在導(dǎo)通的瞬間控制電流,一般會(huì)在保護(hù)二極管再串聯(lián)一個(gè)高電阻,另外,大家是不是可以舉一反三理解為什么ESD的區(qū)域是不能form Silicide的?還有給大家一個(gè)理論,ESD通常都是在芯片輸入端的Pad旁邊,不能在芯片里面,因?yàn)槲覀兛偸窍M饨绲撵o電需要第一時(shí)間泄放掉吧,放在里面會(huì)有延遲的(關(guān)注我前面解剖的那個(gè)芯片PAD旁邊都有二極管http://ic-garden.cn/?p=482)。甚至有放兩級(jí)ESD的,達(dá)到雙重保護(hù)的目的。

  

  在講ESD的原理和Process之前,我們先講下ESD的標(biāo)準(zhǔn)以及測試方法,根據(jù)靜電的產(chǎn)生方式以及對(duì)電路的損傷模式不同通常分為四種測試方式:人體放電模式(HBM: Human-Body Model)、機(jī)器放電模式(Machine Model)、元件充電模式(CDM: Charge-Device Model)、電場感應(yīng)模式(FIM: Field-Induced Model),但是業(yè)界通常使用前兩種模式來測試(HBM, MM)。

  1、人體放電模式(HBM):當(dāng)然就是人體摩擦產(chǎn)生了電荷突然碰到芯片釋放的電荷導(dǎo)致芯片燒毀擊穿,秋天和別人觸碰經(jīng)常觸電就是這個(gè)原因。業(yè)界對(duì)HBM的ESD標(biāo)準(zhǔn)也有跡可循(MIL-STD-883C method 3015.7,等效人體電容為100pF,等效人體電阻為1.5Kohm),或者國際電子工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(EIA/JESD22-A114-A)也有規(guī)定,看你要follow哪一份了。如果是MIL-STD-883C method 3015.7,它規(guī)定小于《2kV的則為Class-1,在2kV~4kV的為class-2,4kV~16kV的為class-3。

  

  2、機(jī)器放電模式(MM):當(dāng)然就是機(jī)器(如robot)移動(dòng)產(chǎn)生的靜電觸碰芯片時(shí)由pin腳釋放,次標(biāo)準(zhǔn)為EIAJ-IC-121 method 20(或者標(biāo)準(zhǔn)EIA/JESD22-A115-A),等效機(jī)器電阻為0 (因?yàn)榻饘伲?,電容依舊為100pF。由于機(jī)器是金屬且電阻為0,所以放電時(shí)間很短,幾乎是ms或者us之間。但是更重要的問題是,由于等效電阻為0,所以電流很大,所以即使是200V的MM放電也比2kV的HBM放電的危害大。而且機(jī)器本身由于有很多導(dǎo)線互相會(huì)產(chǎn)生耦合作用,所以電流會(huì)隨時(shí)間變化而干擾變化。

  

  ESD的測試方法類似FAB里面的GOI測試,指定pin之后先給他一個(gè)ESD電壓,持續(xù)一段時(shí)間后,然后再回來測試電性看看是否損壞,沒問題再去加一個(gè)step的ESD電壓再持續(xù)一段時(shí)間,再測電性,如此反復(fù)直至擊穿,此時(shí)的擊穿電壓為ESD擊穿的臨界電壓(ESD failure threshold Voltage)。通常我們都是給電路打三次電壓(3 zaps),為了降低測試周期,通常起始電壓用標(biāo)準(zhǔn)電壓的70% ESD threshold,每個(gè)step可以根據(jù)需要自己調(diào)整50V或者100V。

 ?。?)。 Stress number = 3 Zaps. (5 Zaps, the worst case)

  (2)。 Stress stepΔVESD = 50V(100V) for VZAP 《=1000V

  ΔVESD = 100V(250V, 500V) for VZAP 》 1000V

 ?。?)。 Starting VZAP = 70% of averaged ESD failure threshold (VESD)

  另外,因?yàn)槊總€(gè)chip的pin腳很多,你是一個(gè)個(gè)pin測試還是組合pin測試,所以會(huì)分為幾種組合:I/O-pin測試(Input and Output pins)、pin-to-pin測試、Vdd-Vss測試(輸入端到輸出端)、Analog-pin。

  1. I/O pins:就是分別對(duì)input-pin和output-pin做ESD測試,而且電荷有正負(fù)之分,所以有四種組合:input+正電荷、input+負(fù)電荷、output+正電荷、output+負(fù)電荷。測試input時(shí)候,則output和其他pin全部浮接(floating),反之亦然。

  

  2. pin-to-pin測試: 靜電放電發(fā)生在pin-to-pin之間形成回路,但是如果要每每兩個(gè)腳測試組合太多,因?yàn)槿魏蔚腎/O給電壓之后如果要對(duì)整個(gè)電路產(chǎn)生影響一定是先經(jīng)過VDD/Vss才能對(duì)整個(gè)電路供電,所以改良版則用某一I/O-pin加正或負(fù)的ESD電壓,其他所有I/O一起接地,但是輸入和輸出同時(shí)浮接(Floating)。

  

  3、Vdd-Vss之間靜電放電:只需要把Vdd和Vss接起來,所有的I/O全部浮接(floating),這樣給靜電讓他穿過Vdd與Vss之間。

  

  4、Analog-pin放電測試:因?yàn)槟M電路很多差分比對(duì)(Differential Pair)或者運(yùn)算放大器(OP AMP)都是有兩個(gè)輸入端的,防止一個(gè)損壞導(dǎo)致差分比對(duì)或運(yùn)算失效,所以需要單獨(dú)做ESD測試,當(dāng)然就是只針對(duì)這兩個(gè)pin,其他pin全部浮接(floating)。

  

  好了,ESD的原理和測試部分就講到這里了,下面接著講Process和設(shè)計(jì)上的factor

  隨著摩爾定律的進(jìn)一步縮小,器件尺寸越來越小,結(jié)深越來越淺,GOX越來越薄,所以靜電擊穿越來越容易,而且在Advance制程里面,Silicide引入也會(huì)讓靜電擊穿變得更加尖銳,所以幾乎所有的芯片設(shè)計(jì)都要克服靜電擊穿問題。

  

  靜電放電保護(hù)可以從FAB端的Process解決,也可以從IC設(shè)計(jì)端的Layout來設(shè)計(jì),所以你會(huì)看到Prcess有一個(gè)ESD的option layer,或者Design rule里面有ESD的設(shè)計(jì)規(guī)則可供客戶選擇等等。當(dāng)然有些客戶也會(huì)自己根據(jù)SPICE model的電性通過layout來設(shè)計(jì)ESD。

  1、制程上的ESD:要么改變PN結(jié),要么改變PN結(jié)的負(fù)載電阻,而改變PN結(jié)只能靠ESD_IMP了,而改變與PN結(jié)的負(fù)載電阻,就是用non-silicide或者串聯(lián)電阻的方法了。

  1) Source/Drain的ESD implant:因?yàn)槲覀兊腖DD結(jié)構(gòu)在gate poly兩邊很容易形成兩個(gè)淺結(jié),而這個(gè)淺結(jié)的尖角電場比較集中,而且因?yàn)槭菧\結(jié),所以它與Gate比較近,所以受Gate的末端電場影響比較大,所以這樣的LDD尖角在耐ESD放電的能力是比較差的(《1kV),所以如果這樣的Device用在I/O端口,很容造成ESD損傷。所以根據(jù)這個(gè)理論,我們需要一個(gè)單獨(dú)的器件沒有LDD,但是需要另外一道ESD implant,打一個(gè)比較深的N+_S/D,這樣就可以讓那個(gè)尖角變圓而且離表面很遠(yuǎn),所以可以明顯提高ESD擊穿能力(》4kV)。但是這樣的話這個(gè)額外的MOS的Gate就必須很長防止穿通(punchthrough),而且因?yàn)槠骷灰粯恿?,所以需要單?dú)提取器件的SPICE Model。

  

  2) 接觸孔(contact)的ESD implant:在LDD器件的N+漏極的孔下面打一個(gè)P+的硼,而且深度要超過N+漏極(drain)的深度,這樣就可以讓原來Drain的擊穿電壓降低(8V--》6V),所以可以在LDD尖角發(fā)生擊穿之前先從Drain擊穿導(dǎo)走從而保護(hù)Drain和Gate的擊穿。所以這樣的設(shè)計(jì)能夠保持器件尺寸不變,且MOS結(jié)構(gòu)沒有改變,故不需要重新提取SPICE model。當(dāng)然這種智能用于non-silicide制程,否則contact你也打不進(jìn)去implant。

  

  3) SAB (SAlicide Block):一般我們?yōu)榱私档蚆OS的互連電容,我們會(huì)使用silicide/SAlicide制程,但是這樣器件如果工作在輸出端,我們的器件負(fù)載電阻變低,外界ESD電壓將會(huì)全部加載在LDD和Gate結(jié)構(gòu)之間很容易擊穿損傷,所以在輸出級(jí)的MOS的Silicide/Salicide我們通常會(huì)用SAB(SAlicide Block)光罩擋住RPO,不要形成silicide,增加一個(gè)photo layer成本增加,但是ESD電壓可以從1kV提高到4kV。

  

  4)串聯(lián)電阻法:這種方法不用增加光罩,應(yīng)該是最省錢的了,原理有點(diǎn)類似第三種(SAB)增加電阻法,我就故意給他串聯(lián)一個(gè)電阻(比如Rs_NW,或者HiR,等),這樣也達(dá)到了SAB的方法。

  

  2、設(shè)計(jì)上的ESD:這就完全靠設(shè)計(jì)者的功夫了,有些公司在設(shè)計(jì)規(guī)則就已經(jīng)提供給客戶solution了,客戶只要照著畫就行了,有些沒有的則只能靠客戶自己的designer了,很多設(shè)計(jì)規(guī)則都是寫著這個(gè)只是guideline/reference,不是guarantee的。一般都是把Gate/Source/Bulk短接在一起,把Drain結(jié)在I/O端承受ESD的浪涌(surge)電壓,NMOS稱之為GGNMOS (Gate-Grounded NMOS),PMOS稱之為GDPMOS (Gate-to-Drain PMOS)。

  以NMOS為例,原理都是Gate關(guān)閉狀態(tài),Source/Bulk的PN結(jié)本來是短接0偏的,當(dāng)I/O端有大電壓時(shí),則Drain/Bulk PN結(jié)雪崩擊穿,瞬間bulk有大電流與襯底電阻形成壓差導(dǎo)致Bulk/Source的PN正偏,所以這個(gè)MOS的寄生橫向NPN管進(jìn)入放大區(qū)(發(fā)射結(jié)正偏,集電結(jié)反偏),所以呈現(xiàn)Snap-Back特性,起到保護(hù)作用。PMOS同理推導(dǎo)。

  

  這個(gè)原理看起來簡單,但是設(shè)計(jì)的精髓(know-how)是什么?怎么觸發(fā)BJT?怎么維持Snap-back?怎么撐到HBM》2KV or 4KV?

  如何觸發(fā)?必須有足夠大的襯底電流,所以后來發(fā)展到了現(xiàn)在普遍采用的多指交叉并聯(lián)結(jié)構(gòu)(multi-finger)。但是這種結(jié)構(gòu)主要技術(shù)問題是基區(qū)寬度增加,放大系數(shù)減小,所以Snap-back不容易開啟。而且隨著finger數(shù)量增多,會(huì)導(dǎo)致每個(gè)finger之間的均勻開啟變得很困難,這也是ESD設(shè)計(jì)的瓶頸所在。

  

  如果要改變這種問題,大概有兩種做法(因?yàn)閠riger的是電壓,改善電壓要么是電阻要么是電流):1、利用SAB(SAlicide-Block)在I/O的Drain上形成一個(gè)高阻的non-Silicide區(qū)域,使得漏極方塊電阻增大,而使得ESD電流分布更均勻,從而提高泄放能力;2、增加一道P-ESD (Inner-Pickup imp,類似上面的接觸孔P+ ESD imp),在N+Drain下面打一個(gè)P+,降低Drain的雪崩擊穿電壓,更早有比較多的雪崩擊穿電流(詳見文獻(xiàn)論文: Inner Pickup on ESD of multi-finger NMOS.pdf)。

  對(duì)于Snap-back的ESD有兩個(gè)小小的常識(shí)要跟大家分享一下:

  1)NMOS我們通常都能看到比較好的Snap-back特性,但是實(shí)際上PMOS很難有snap-back特性,而且PMOS耐ESD的特性普遍比NMOS好,這個(gè)道理同HCI效應(yīng),主要是因?yàn)镹MOS擊穿時(shí)候產(chǎn)生的是電子,遷移率很大,所以Isub很大容易使得Bulk/Source正向?qū)ǎ荘MOS就難咯。

  2) Trigger電壓/Hold電壓: Trigger電壓當(dāng)然就是之前將的snap-back的第一個(gè)拐點(diǎn)(Knee-point),寄生BJT的擊穿電壓,而且要介于BVCEO與BVCBO之間。而Hold電壓就是要維持Snap-back持續(xù)ON,但是又不能進(jìn)入柵鎖(Latch-up)狀態(tài),否則就進(jìn)入二次擊穿(熱擊穿)而損壞了。還有個(gè)概念就是二次擊穿電流,就是進(jìn)入Latch-up之后I^2*R熱量驟增導(dǎo)致硅融化了,而這個(gè)就是要限流,可以通過控制W/L,或者增加一個(gè)限流高阻,最簡單最常用的方法是拉大Drain的距離/拉大SAB的距離(ESD rule的普遍做法)。

  3、柵極耦合(Gate-Couple) ESD技術(shù):我們剛剛講過,Multi-finger的ESD設(shè)計(jì)的瓶頸是開啟的均勻性,假設(shè)有10只finger,而在ESD 放電發(fā)生時(shí),這10 支finger 并不一定會(huì)同時(shí)導(dǎo)通(一般是因Breakdown 而導(dǎo)通),常見到只有2-3 支finger會(huì)先導(dǎo)通,這是因布局上無法使每finger的相對(duì)位置及拉線方向完全相同所致,這2~3 支finger 一導(dǎo)通,ESD電流便集中流向這2~3支的finger,而其它的finger 仍是保持關(guān)閉的,所以其ESD 防護(hù)能力等效于只有2~3 支finger的防護(hù)能力,而非10 支finger 的防護(hù)能力。這也就是為何組件尺寸已經(jīng)做得很大,但ESD 防護(hù)能力并未如預(yù)期般地上升的主要原因,增打面積未能預(yù)期帶來ESD增強(qiáng),怎么辦?其實(shí)很簡單,就是要降低Vt1(Trigger電壓),我們通過柵極增加電壓的方式,讓襯底先開啟代替擊穿而提前導(dǎo)通產(chǎn)生襯底電流,這時(shí)候就能夠讓其他finger也一起開啟進(jìn)入導(dǎo)通狀態(tài),讓每個(gè)finger都來承受ESD電流,真正發(fā)揮大面積的ESD作用。

  但是這種GCNMOS的ESD設(shè)計(jì)有個(gè)缺點(diǎn)是溝道開啟了產(chǎn)生了電流容易造成柵氧擊穿,所以他不見的是一種很好的ESD設(shè)計(jì)方案,而且有源區(qū)越小則柵壓的影響越大,而有源區(qū)越大則snap-back越難開啟,所以很難把握。

  4、還有一種復(fù)雜的ESD保護(hù)電路: 可控硅晶閘管(SCR: Silicon Controlled Rectifier),它就是我們之前講過的CMOS寄生的PNPN結(jié)構(gòu)觸發(fā)產(chǎn)生Snap-Back并且Latch-up,通過ON/OFF實(shí)現(xiàn)對(duì)電路的保護(hù),大家可以回顧一下,只要把上一篇里面那些抑制LATCH-up的factor想法讓其發(fā)生就可以了,不過只能適用于Layout,不能適用于Process,否則Latch-up又要fail了。

  最后,ESD的設(shè)計(jì)學(xué)問太深了,我這里只是拋磚引玉給FAB的人科普一下了,基本上ESD的方案有如下幾種:電阻分壓、二極管、MOS、寄生BJT、SCR(PNPN structure)等幾種方法。而且ESD不僅和Design相關(guān),更和FAB的process相關(guān),而且學(xué)問太深了,我也不是很懂。

  靜電防護(hù)最基本的方法有哪些

  一、防靜電的基本方法:

  1、接地把靜電引導(dǎo)入大地按照材料的電阻率,材料可以分為靜電導(dǎo)體、靜電亞導(dǎo)體和絕緣材料三種。對(duì)于導(dǎo)體和靜電亞導(dǎo)體,如果可以接地的話,只要用一根導(dǎo)線把它接地就能把它上面的電荷引導(dǎo)入大地,這是防靜電措施中最直接最有效的。如工人帶防靜電手腕帶及工作表面接地等。

  2、靜電敏感元件在儲(chǔ)存在或運(yùn)輸過程中會(huì)曝露于有靜電的區(qū)域中,用靜電屏蔽的方法可削弱外界靜電對(duì)電子元件的影響。最通常的方法是用靜電屏蔽袋作為保護(hù)。

  二、靜電是一種處于靜止?fàn)顟B(tài)的電荷。在干燥和多風(fēng)的秋天,在日常生活中,人們常常會(huì)碰到這種現(xiàn)象:晚上脫衣服睡覺時(shí),黑暗中常聽到噼啪的聲響,而且伴有藍(lán)光,見面握手時(shí),手指剛一接觸到對(duì)方,會(huì)突然感到指尖針刺般刺痛,令人大驚失色;早上起來梳頭時(shí),頭發(fā)會(huì)經(jīng)常“飄”起來,越理越亂,拉門把手、開水龍頭時(shí)都會(huì)“觸電”,時(shí)常發(fā)出“啪、啪、啪”的聲響,這就是發(fā)生在人體的靜電。

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    Altium_Designer
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    Altium Designer 是原Protel軟件開發(fā)商Altium公司推出的一體化的電子產(chǎn)品開發(fā)系統(tǒng),主要運(yùn)行在Windows操作系統(tǒng)。這套軟件通過把原理圖設(shè)計(jì)、電路仿真、PCB繪制編輯、拓?fù)溥壿嬜詣?dòng)布線、信號(hào)完整性分析和設(shè)計(jì)輸出等技術(shù)的完美融合
  • 拼接
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  • PCB制板
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  • 封裝設(shè)計(jì)
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  • 光繪文件
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  • 感應(yīng)式
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  • 直角走線
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  • 貼片磁珠
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  • 導(dǎo)熱硅脂
    導(dǎo)熱硅脂
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    導(dǎo)熱硅脂俗稱散熱膏,導(dǎo)熱硅脂以有機(jī)硅酮為主要原料,添加耐熱、導(dǎo)熱性能優(yōu)異的材料,制成的導(dǎo)熱型有機(jī)硅脂狀復(fù)合物,用于功率放大器、晶體管、電子管、CPU等電子元器件的導(dǎo)熱及散熱,從而保證電子儀器、儀表等的電氣性能的穩(wěn)定。
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