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TAB
膠帶自動(dòng)粘合 (TAB) 是一種基于 IC 組裝技術(shù),該技術(shù)基于在金屬化柔性聚合物膠帶上安裝和互連 IC。它基于蝕刻銅束引線的一端與IC的全自動(dòng)鍵合,引線的另一端與傳統(tǒng)封裝或PWB的完全接合。TAB發(fā)明于1966年,由通用電氣研究實(shí)驗(yàn)室商業(yè)化。該技術(shù)旨在通過(guò)提供高度自動(dòng)化的卷對(duì)卷“成組鍵合”技術(shù)來(lái)封裝大批量和低 I/O 設(shè)備,從而以更低的成本替代引線鍵合技術(shù)。TAB在1980年代得到了最廣泛的采用,直到表面貼裝技術(shù)(SMT)出現(xiàn)。
TAB的一些優(yōu)點(diǎn)包括:
- 能夠處理IC上的小鍵合焊盤和更細(xì)的間距
- 能夠在內(nèi)部和外部鍵合引線上執(zhí)行成組鍵合
- 消除大型導(dǎo)線環(huán)
- 薄封裝的薄型互連結(jié)構(gòu)
- 改進(jìn)熱管理的傳導(dǎo)傳熱
- 改善電氣性能(降低R,C和L)
TAB的一些缺點(diǎn)包括:
- 它基本上是一種外圍互連技術(shù),芯片鍵合焊盤下沒有有源電路
- 封裝尺寸往往會(huì)隨著I / O數(shù)量的增加而增加
- 由于柔性電路,鍵合頭等的硬工具要求而導(dǎo)致工藝不靈活
- 相對(duì)較少的生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施
- 凸塊所需的額外晶圓加工步驟
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TAB流程
TAB技術(shù)在介電載體帶上使用光成像和蝕刻導(dǎo)體圖案。載體帶存儲(chǔ)在類似于電影膠片的卷軸上,寬度為 35、48 和 70 毫米。導(dǎo)體引線從外部測(cè)試點(diǎn)(通常間距為 0.05 mm)扇入,到間距為 0.15 至 0.5 mm 的外引線上,然后以 0.05 至 0.1 mm 間距引線鍵合。
導(dǎo)體由介電膠帶固定到位,內(nèi)鍵和外鍵引線延伸到膠帶中的窗口上。鍵合過(guò)程首先將內(nèi)部引線粘合到芯片上。在膠帶上操縱設(shè)備,直到內(nèi)部引線與芯片焊盤對(duì)齊,然后使用熱壓縮或熱超聲鍵合器,一次將引線全部粘合(成組鍵合)或單點(diǎn)鍵合。
一旦芯片粘合到膠帶上,就使用打孔工具對(duì)引線進(jìn)行電氣隔離。然后對(duì)隔離的芯片進(jìn)行測(cè)試,并在需要時(shí)燒入。然后將芯片從磁帶框架中取出,同時(shí)外引線形成最終的形狀。然后將芯片連接到下一級(jí)組件,并將外部引線粘合到電路走線上。外引線鍵合使用熱壓縮或熱超聲鍵合或焊接進(jìn)行。如果使用焊接,則使用熱電極(加熱鍵合頭/工具)與多排外引線中的一排接觸,同時(shí)提供足夠的熱量到電路板上的焊料。
**TAB互連的形成
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1) 首先對(duì)IC進(jìn)行凸塊,為圖a所示的內(nèi)引線鍵合提供必要的鍵合冶金,該凸塊的作用是:
1.1)充當(dāng)芯片和電路板帶之間的物理支架,以防止引線芯片短路并保護(hù)芯片的薄膜Al鍵合焊盤免受腐蝕和污染;
1.2)提供可變形的, 用于粘合過(guò)程的延展性緩沖液。
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2) TAB外引線鍵合(圖b)。此操作將與磁帶引線互連的芯片轉(zhuǎn)移到下一級(jí)封裝或 PWB。外引線鍵合可以使用成組鍵合或單點(diǎn)鍵合來(lái)實(shí)現(xiàn)。外引線鍵合有許多工藝可用,包括熱壓縮、熱壓、激光、超聲波等。
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