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標(biāo)簽 > asml
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那這個(gè)電壓差異如何變成可以甄別的表面圖像明顯的明暗變化呢?大家應(yīng)該都知道電子被正電壓吸引,被負(fù)電壓排斥。如下圖所示,這兩塊地方因?yàn)榻饘倩ミB的差異產(chǎn)生了不...
光刻各環(huán)節(jié)對(duì)應(yīng)的不同模型種類
光學(xué)模型是基于霍普金斯(Hopkins)光學(xué)成像理論,預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)(TCCs),從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中,經(jīng)過優(yōu)化的光源,通過光刻...
2023-12-11 標(biāo)簽:晶圓光刻機(jī)器學(xué)習(xí) 1295 0
第六屆進(jìn)博會(huì)于近日在上海國家會(huì)展中心正式收官,ASML2023進(jìn)博之旅也圓滿落幕! 今年,ASML繼續(xù)以“光刻未來,攜手同行”為主題,攜全景光刻解決方案...
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設(shè)計(jì)過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 標(biāo)簽:芯片設(shè)計(jì)光刻EUV 2519 0
ASML向中國臺(tái)灣增資1.4億歐元獲批,從事晶圓測量設(shè)備等代工生產(chǎn)
asml計(jì)劃投資300億臺(tái)幣,在新北市林口宮產(chǎn)業(yè)專用園區(qū)設(shè)立工廠。臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)部計(jì)劃向該項(xiàng)目提供2.85億臺(tái)幣(約2900億韓元)的補(bǔ)助金,該工廠將主要把重...
之前的小講堂有介紹過,光刻過程就好比用照相機(jī)拍照,將掩模版上的芯片設(shè)計(jì)版圖曝光到晶圓上,從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機(jī)的鏡片組使用極其精密的加...
納米壓印技術(shù),即Nanoimprint Lithography(NIL),是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形,通過壓印等技術(shù)...
用于碳化硅的Aehr測試系統(tǒng)的技術(shù)差距
Advantes和 Teradyne最知名的是自動(dòng)化測試設(shè)備。許多其他事情中,ATE工具取出探針卡,將它們與晶圓上的芯片完美對(duì)齊,并與晶圓上的電路進(jìn)行物...
2023-04-04 標(biāo)簽:SiCGaN半導(dǎo)體制造 1220 0
節(jié)點(diǎn)的尺寸數(shù)值基本上和晶體管的長寬成正比關(guān)系,每一個(gè)節(jié)點(diǎn)基本上是前一個(gè)節(jié)點(diǎn)的0.7倍。這樣以來,由于0.7X0.7=0.49,所以每一代工藝節(jié)點(diǎn)上晶體管...
ASML 稱之為超數(shù)值孔徑的研發(fā)正在進(jìn)行中,因此更具體的光學(xué)器件,尚不清楚它是否會(huì)起作用。距生產(chǎn)還有 10 年的時(shí)間,但這正是研發(fā)已經(jīng)在進(jìn)行的地方,如果...
據(jù)悉,下一代EUV光刻機(jī)必須要升級(jí)下一代的高NA(數(shù)值孔徑)標(biāo)準(zhǔn),從現(xiàn)在的0.33 NA提升到0.55 NA,更高的NA意味著更分辨率更高,是3nm之后...
2022-11-30 標(biāo)簽:RAMASMLEUV光刻機(jī) 3.4萬 0
EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù),簡單來說,就是以極紫外光作“刀”,對(duì)芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻,讓芯片上的電路變成人...
芯片制造的光刻支出如何隨著各種節(jié)點(diǎn)縮小演變歷程
單片設(shè)計(jì)每個(gè)晶圓有 30 個(gè)好的die,而小芯片 MCM 設(shè)計(jì)每個(gè)晶圓有 79 個(gè)好的die。假設(shè)所有有缺陷的die都必須扔進(jìn)垃圾桶。如果沒有芯片良率收...
ASML光刻機(jī)的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)解析
光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過...
光刻機(jī)市場簡析 國產(chǎn)光刻機(jī)今年能否進(jìn)入實(shí)際生產(chǎn)環(huán)節(jié)
中科院去年宣布進(jìn)軍光刻機(jī),相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導(dǎo)體等領(lǐng)域中國可以實(shí)現(xiàn)彎道超車的。
ASML新一代EUV光刻機(jī)性能提升70%_2025年量產(chǎn)
2019-07-13 標(biāo)簽:ASMLEUV光刻機(jī) 5291 0
EUV曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野
技術(shù)節(jié)點(diǎn)的發(fā)展推動(dòng)著半導(dǎo)體曝光技術(shù)解像度(Half Pitch)的發(fā)展,ArF液浸曝光技術(shù)和EUV曝光技術(shù)等的解像度(R)和曝光波長(λ)成正比,和光學(xué)...
ASML 公司的成功案例表明了多物理場仿真對(duì)于計(jì)算機(jī)芯片行業(yè)的重要性,他們的寶貴經(jīng)驗(yàn)可能適用于所有制造商。
2018-11-19 標(biāo)簽:芯片計(jì)算機(jī)ASML 7691 0
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