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EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設計過程中的后續(xù)步驟。
ASML向中國臺灣增資1.4億歐元獲批,從事晶圓測量設備等代工生產
asml計劃投資300億臺幣,在新北市林口宮產業(yè)專用園區(qū)設立工廠。臺灣經濟部計劃向該項目提供2.85億臺幣(約2900億韓元)的補助金,該工廠將主要把重...
Advantes和 Teradyne最知名的是自動化測試設備。許多其他事情中,ATE工具取出探針卡,將它們與晶圓上的芯片完美對齊,并與晶圓上的電路進行物...
節(jié)點的尺寸數(shù)值基本上和晶體管的長寬成正比關系,每一個節(jié)點基本上是前一個節(jié)點的0.7倍。這樣以來,由于0.7X0.7=0.49,所以每一代工藝節(jié)點上晶體管...
ASML 稱之為超數(shù)值孔徑的研發(fā)正在進行中,因此更具體的光學器件,尚不清楚它是否會起作用。距生產還有 10 年的時間,但這正是研發(fā)已經在進行的地方,如果...
據(jù)悉,下一代EUV光刻機必須要升級下一代的高NA(數(shù)值孔徑)標準,從現(xiàn)在的0.33 NA提升到0.55 NA,更高的NA意味著更分辨率更高,是3nm之后...
EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術,簡單來說,就是以極紫外光作“刀”,對芯片上的晶圓進行雕刻,讓芯片上的電路變成人...
ASML 公司的成功案例表明了多物理場仿真對于計算機芯片行業(yè)的重要性,他們的寶貴經驗可能適用于所有制造商。
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