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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>今日看點丨英特爾提供高達(dá)50萬歐元的自愿離職補償金;武漢光谷實驗室研發(fā)量子點光刻膠

今日看點丨英特爾提供高達(dá)50萬歐元的自愿離職補償金;武漢光谷實驗室研發(fā)量子點光刻膠

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微軟在荷蘭開設(shè)新量子研究實驗室 將加快推進(jìn)革命性的量子計算機的發(fā)展

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高通財務(wù)長戴維斯宣布離職 將轉(zhuǎn)任英特爾財務(wù)長

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上海新陽再次轉(zhuǎn)換戰(zhàn)場 選擇研發(fā)3D NAND用的KrF 光刻膠

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關(guān)于英特爾神秘實驗室的分析和介紹

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南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機進(jìn)場

今年7月17日,南大光電在互動平臺透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前該項目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗收中,預(yù)計2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
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光刻膠國產(chǎn)化刻不容緩

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn),光刻膠市場總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計接近90億美元,自2010年至今CAGR約5.4%,預(yù)計未來3年仍以年均5%的速度增長,預(yù)計至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。
2020-03-01 19:02:484218

英特爾公司著名高管吉姆 凱勒離職,曾參與蘋果和特斯拉芯片研發(fā)

英特爾著名高管吉姆·凱勒(JimKeller)已于6月11日離職。他于兩年前加入英特爾,主要領(lǐng)導(dǎo)和負(fù)責(zé)英特爾的系統(tǒng)芯片的研發(fā)集成。
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LCD光刻膠需求快速增長,政策及國產(chǎn)化風(fēng)向帶動國產(chǎn)廠商發(fā)展

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:395495

一文帶你看懂光刻膠

來源:浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1418082

雅克科技投入12億到光刻膠研發(fā)當(dāng)中

開發(fā)行股票計劃募集資金總額不超過人民幣 120,000.00元,扣除發(fā)行費用后的募集資金凈額擬投入以下項目。其中,有8.5億元將會投入到新一代電子信息材料國產(chǎn)化項目-光刻膠光刻膠配套試劑研發(fā)當(dāng)中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市,主
2020-09-24 10:32:014910

博聞廣見之半導(dǎo)體行業(yè)中的光刻膠

光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì),其中曝光是通過紫外光
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集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目存6大難點

對公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問題。 10月12日,晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱,本次擬購買的光刻機設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實
2020-10-21 10:32:104274

容大感光科技光刻膠研發(fā)進(jìn)程

多年來,光刻膠研發(fā)都被列入我國高新技術(shù)計劃、重大科技項目。今年9月28日,國家發(fā)展改革委、科技部、工業(yè)和信息化部以及財政部聯(lián)合印發(fā)的《關(guān)于擴大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資培育壯大新增長增長極的指導(dǎo)意見》中
2020-10-22 15:20:153501

南大光電自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠成功通過認(rèn)證

今日南大光電發(fā)布公告稱,其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。報告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗證,寧波南
2020-12-18 09:29:424713

中國終于打破日本在光刻膠的壟斷地位

昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱,公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:103248

南大光電首款國產(chǎn)ArF光刻膠通過認(rèn)證 可用于45nm工藝光刻需求

? 導(dǎo) 讀 日前,南大光電公告稱,由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶使用認(rèn)證,線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖:南大光電公告 ? 公告稱
2020-12-25 18:24:096552

晶瑞順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺,可研發(fā)最高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠

晶瑞股份發(fā)布公告:經(jīng)多方協(xié)商、積極運作,該公司順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺。 該光刻機于 2021 年 1 月 19 日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室,即將組織
2021-01-20 16:34:006362

晶瑞股份成功打造高端光刻膠研發(fā)實驗室

1月19日晚,國內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告,宣稱購得ASML公司光刻機一臺,將用于高端光刻膠項目。
2021-01-21 09:35:513021

2021年,半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11%

按照應(yīng)用領(lǐng)域分類,光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專用化學(xué)品(光引發(fā)劑和樹脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠。
2021-05-17 14:15:524208

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機?

5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開盤即走強,截至收盤,A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:152764

光刻膠光刻機的關(guān)系

光刻膠光刻研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0012100

改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報告

摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22803

晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細(xì)介紹

摘要 在這項工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實驗中使用的獨特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級,與銅兼容且無毒。實驗的第一階段是確定是否在合理的時間內(nèi)與光刻膠
2022-03-03 14:20:05535

采用雙層抗蝕劑法去除負(fù)光刻膠

本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23855

干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)

灰化,簡單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:176110

光刻膠az1500產(chǎn)品說明

光刻膠產(chǎn)品說明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:253

光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代

南大光電最新消息顯示,國產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體;徐州博康宣布,該公司已開發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:141428

光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0418801

國產(chǎn)光刻膠市場前景 國內(nèi)廠商迎來發(fā)展良機

10%-15%,對應(yīng)的 PAG 用量為一般按樹脂重量的 6%-8%添加,最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價看,KrF 光刻膠用 PAG 的價格在 0.5-1.5元/kg
2022-11-18 10:07:433293

「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片

在2022年硅量子電子研討會上,英特爾實驗室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計算芯片,這為未來量產(chǎn)量子計算機打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前業(yè)界最大的硅基自旋量子運算芯片,量產(chǎn)芯片
2022-11-25 17:03:371696

「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片

來源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志10/11期 在2022年硅量子電子研討會上,英特爾實驗室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計算芯片,這為未來量產(chǎn)量子計算機打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前
2022-11-28 17:22:331032

高端光刻膠通過認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝

此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純試劑生產(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:321069

英特爾量子芯片,重磅公布

目前,學(xué)術(shù)機構(gòu)沒有像英特爾這樣的大批量制造制造設(shè)備。有了 Tunnel Falls,研究人員可以立即開始進(jìn)行實驗和研究,而不是嘗試制造自己的設(shè)備。因此,更廣泛的實驗成為可能,包括更多地了解量子位和量子的基礎(chǔ)知識,以及開發(fā)用于使用具有多個量子位的設(shè)備的新技術(shù)。
2023-06-20 15:38:56610

半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義

光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24633

光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:111095

不僅需要***,更需要光刻膠

為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48842

阿里達(dá)摩院裁撤量子實驗室證實!

據(jù)阿里達(dá)摩院證實,他們已經(jīng)決定裁撤量子實驗室,并將實驗室及儀器設(shè)備捐贈給浙江大學(xué)。這一舉措的目的是為了促進(jìn)量子科技的協(xié)同發(fā)展,并將捐贈的實驗室和設(shè)備開放給浙江大學(xué)及其他高校和科研機構(gòu)使用。
2023-11-28 18:20:28932

潤股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn),涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)

近期,潤股份在接受機構(gòu)調(diào)研時透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項目已經(jīng)順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58599

速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?

光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們在勻時,是如何確定勻速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:561190

光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)

光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場景。
2024-01-03 18:12:21861

瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43383

如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
2024-03-04 10:49:16381

光刻膠光刻機的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:182313

光谷實驗室研發(fā)短波紅外成像膠體量子芯片

近日,首個膠體量子成像芯片在光谷實驗室研發(fā)成功,其具備優(yōu)異性能。該芯片已能實現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模達(dá)到30,盲元率低于每十萬個像素中只有6個因素導(dǎo)致信號丟失,圖像波長范圍為0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:431297

要讓量子計算走出實驗室

轉(zhuǎn)自環(huán)球時報環(huán)球時報記者張蔚藍(lán)陳子帥原稿標(biāo)題:中國科學(xué)院量子信息重點實驗室副主任郭國平:要讓量子計算走出實驗室原文鏈接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05198

武漢光谷實驗室短波紅外芯片完成中試,年內(nèi)預(yù)計銷售千萬元

一顆黃豆大小的芯片,利用新技術(shù)膠體量子紅外探測成像做成“視覺芯片”,裝到手機、檢測器上,可以“穿透”介質(zhì),看到肉眼看不到的“真相”。 光谷實驗室近日宣布,其聯(lián)合科研團隊(華中科技大學(xué)實驗室、溫州
2024-03-12 08:43:40254

光谷實驗室研發(fā)膠體量子成像芯片,有望顛覆短波紅外市場

湖北光谷實驗室近日宣布,其科研團隊研發(fā)的膠體量子成像芯片已實現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模30、盲元率低于6‰、波長范圍0.4-1.7微米、暗電流密度小于50 nA/cm2、外量子效率高于60%,號稱“性能優(yōu)越”。
2024-03-12 14:46:59616

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:501437

英特爾推出Hala Point全球最大仿神經(jīng)形態(tài)系統(tǒng),解決AI效率問題

英特爾實驗室神經(jīng)形態(tài)運算總監(jiān)Mike Davies指出,“當(dāng)前AI模型訓(xùn)練及部署成本增長迅速,行業(yè)亟需創(chuàng)新方法。因此,英特爾實驗室研發(fā)了Hala Point,融合深度學(xué)習(xí)效率、類人腦持續(xù)學(xué)習(xí)和優(yōu)化功能。
2024-04-23 10:00:55329

一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛

共讀好書 前烘對正顯影的影響 前烘對負(fù)顯影的影響 需要這個原報告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報告【贈2024電子資料百份】6 月 28-30 日北京“電子化學(xué)品行業(yè)分析檢測與安全管理培訓(xùn)班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:02244

光刻膠的保存和老化失效

我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在光刻過程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生,我們
2024-07-08 14:57:08251

光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

圖形反轉(zhuǎn)是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負(fù)工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下,通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù),可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:00162

光刻膠后烘技術(shù)

后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們在
2024-07-09 16:08:43252

光刻膠的一般特性介紹

評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:49161

光刻膠的硬烘烤技術(shù)

根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:59127

光刻膠涂覆工藝—旋涂

為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:36201

導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

存儲時間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
2024-07-11 16:07:49204

破紀(jì)錄!芯片巨頭裁員,遣散費400元/人!

萊克斯利普(Leixlip)的員工提供自愿離職方案, 補償金額可能高達(dá)50歐元(約393元人民幣,接近400元人民幣)。 該提案規(guī)定,員工需在8月23日前申請自愿離職。根據(jù)提出的條件,服務(wù)超過兩年的員工每年可額外獲得五周工資的補償。這還不包
2024-08-14 09:17:14199

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