1. 武漢光谷實驗室研發(fā)量子點光刻膠:藍(lán)光激發(fā)紅色轉(zhuǎn)換率達(dá) 45.0%,有望應(yīng)用于 micro-LED
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武漢光谷實驗室宣布與華中科技大學(xué)等研究團隊合作研發(fā)出高性能量子點光刻膠(QD-PR),其藍(lán)光轉(zhuǎn)換效率達(dá)到 44.6%(綠色)和 45.0%(紅色),光刻精度達(dá)到 1 μm,各項性能指標(biāo)為行業(yè)領(lǐng)先水平。
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據(jù)介紹,目前主流的 RGB 三色 micro-LED 全彩技術(shù),存在巨量轉(zhuǎn)移次數(shù)多、成本高昂、驅(qū)動控制電路復(fù)雜、不同顏色光衰不同等問題,并且由于 micro-LED 尺寸減小,紅色 LED 的發(fā)光效率急劇下降。而使用單色藍(lán)光 micro-LED 激發(fā)綠色和紅色熒光材料實現(xiàn)全彩化顯示可以規(guī)避上述問題。這些量子點色轉(zhuǎn)換像素還表現(xiàn)出優(yōu)異的穩(wěn)定性,在空氣中 75℃加熱 120 小時后仍能保留原始發(fā)光性能的 92.5%(紅色)和 93.4%(綠色)。
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2. 夏普考慮將半導(dǎo)體、相機模組事業(yè)出售給鴻海,具體金額未透露
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夏普宣布,正在考慮在本財年內(nèi)將半導(dǎo)體業(yè)務(wù)和智能手機用相機模組業(yè)務(wù)出售給鴻海。對于出售金額,夏普社長沖津雅浩稱由于談判剛剛開始,更多細(xì)節(jié)目前不便透露。
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早在 7 月 11 日便有報道稱,富士康集團已進(jìn)軍先進(jìn)封裝領(lǐng)域,重點布局時下主流的面板級扇出封裝(FOPLP)半導(dǎo)體方案。繼旗下群創(chuàng)光電(Innolux)之后,富士康集團投資的夏普(Sharp)也宣布進(jìn)軍日本面板級扇出式封裝領(lǐng)域,預(yù)計將于 2026 年投產(chǎn)。
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3. 傳禾賽科技將被美國國防部移出黑名單
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據(jù)多位知情人士透露,美國五角大樓認(rèn)為,全球最大的電動汽車激光傳感器制造商禾賽科技不符合列入黑名單的法律標(biāo)準(zhǔn),因此決定將其從黑名單中移除。此前美國國防部在今年1月份將禾賽科技列入“中國軍工企業(yè)”名單。
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2021年,美國國會通過立法,要求五角大樓編制這份名單。該法案旨在加強對在美國運營的中國團體的審查??偛课挥谏虾5暮藤惪萍冀衲?月起訴五角大樓,稱五角大樓沒有證據(jù)表明其說法,并稱此舉“武斷且反復(fù)無常”。
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4. 英特爾向愛爾蘭員工提供高達(dá)50萬歐元的自愿離職補償金
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英特爾最近宣布將全球裁員15%,涉及1.75萬人,以削減成本并扭轉(zhuǎn)低迷的盈利局面。在愛爾蘭,這家芯片制造商最近向其位于萊克斯利普的員工提供了高達(dá)50萬歐元(約合人民幣392.17萬元)的自愿離職補償金。
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該提案于近期分發(fā)給員工,要求員工在8月23日之前申請自愿離職。根據(jù)提供的條款,服務(wù)超過兩年的員工每服務(wù)一年可額外獲得5周的工資。這是愛爾蘭法定的每服務(wù)一年2周工資的補充,上限為每周600歐元。該提案為在英特爾工作不到兩年的員工提供每服務(wù)一年5周工資。如果自愿離職獲批,員工可以獲得價值50萬歐元的遣散費。申請該提案的員工將于9月6日獲悉離職是否獲批,獲批的員工將于9月30日離開英特爾。
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5. 英偉達(dá)車用域控AD1在聯(lián)寶工廠成功下線,聯(lián)想晉升Thor平臺Tier 1
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近日,“合肥經(jīng)開發(fā)布”發(fā)文稱,日前,面向L4級自動駕駛市場的車規(guī)級域控制器AD1在位于合肥經(jīng)開區(qū)的聯(lián)寶工廠首次成功下線,意味著聯(lián)寶科技成為首批實現(xiàn)NVIDIA DRIVE Thor芯片產(chǎn)品生產(chǎn)落地的工廠,聯(lián)想也憑此成為首批成功點亮NVIDIA DRIVE Thor平臺的汽車一級供應(yīng)商。
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據(jù)介紹,聯(lián)寶科技生產(chǎn)的AD1是針對L4級自動駕駛商業(yè)應(yīng)用場景的需求而規(guī)劃、設(shè)計的車規(guī)級域控制器產(chǎn)品。根據(jù)天眼查,聯(lián)寶(合肥)電子科技有限公司成立于2011年,位于安徽省合肥市,由聯(lián)想與仁寶兩家公司合資建立,是一家以從事計算機、通信和其他電子設(shè)備制造業(yè)為主的企業(yè),注冊資本26500萬美元。2017年,聯(lián)寶營收突破500億元,成為了聯(lián)想最大的PC研發(fā)和制造基地。
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6. 蘋果取消推出 Micro-LED 面板 Apple Watch,消息稱 LG 公司遭“背刺”正尋求賠償
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據(jù)韓媒報道,由于蘋果公司決定放慢新型面板的應(yīng)用速度,目前該公司已取消推出搭載 Micro-LED 屏幕的 Apple Watch 手表。雖然蘋果公司并未向 LG 公司下達(dá)任何 Micro-LED 訂單,但外媒提到 LG 公司實際上已經(jīng)根據(jù)行業(yè)風(fēng)聲對 Micro-LED 技術(shù)進(jìn)行了數(shù)百億韓元的投資,同時還成立了一個特別工作組為蘋果 Apple Watch 所用的 Micro-LED 面板確保工藝空間。
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雖然蘋果公司與 LG 公司之間并未就此事構(gòu)成任何嚴(yán)格意義上的法律責(zé)任,但外媒報告表明,一個可能的結(jié)果是,蘋果將提高向 LG 支付的 iPhone 和 iPad OLED 面板價格作為“LG 特意提前為蘋果 Micro-LED Apple Watch 做準(zhǔn)備”的“補償形式”,從而保證供應(yīng)鏈間的伙伴關(guān)系。
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今日看點丨英特爾提供高達(dá)50萬歐元的自愿離職補償金;武漢光谷實驗室研發(fā)量子點光刻膠
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2019-09-11 11:20:422035
南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機進(jìn)場
今年7月17日,南大光電在互動平臺透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前該項目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗收中,預(yù)計2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:527421
光刻膠國產(chǎn)化刻不容緩
隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn),光刻膠市場總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場規(guī)模預(yù)計接近90億美元,自2010年至今CAGR約5.4%,預(yù)計未來3年仍以年均5%的速度增長,預(yù)計至2022年全球光刻膠市場規(guī)模將超過100億美元。
2020-03-01 19:02:484218
英特爾公司著名高管吉姆 凱勒離職,曾參與蘋果和特斯拉芯片研發(fā)
英特爾著名高管吉姆·凱勒(JimKeller)已于6月11日離職。他于兩年前加入英特爾,主要領(lǐng)導(dǎo)和負(fù)責(zé)英特爾的系統(tǒng)芯片的研發(fā)集成。
2020-06-12 11:09:513411
LCD光刻膠需求快速增長,政策及國產(chǎn)化風(fēng)向帶動國產(chǎn)廠商發(fā)展
光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻膠占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:395495
一文帶你看懂光刻膠
來源:浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1418082
雅克科技投入12億到光刻膠研發(fā)當(dāng)中
開發(fā)行股票計劃募集資金總額不超過人民幣 120,000.00萬元,扣除發(fā)行費用后的募集資金凈額擬投入以下項目。其中,有8.5億元將會投入到新一代電子信息材料國產(chǎn)化項目-光刻膠及光刻膠配套試劑研發(fā)當(dāng)中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市,主
2020-09-24 10:32:014910
博聞廣見之半導(dǎo)體行業(yè)中的光刻膠
光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì),其中曝光是通過紫外光
2022-12-06 14:53:541378
集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目存6大難點
對公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問題。 10月12日,晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱,本次擬購買的光刻機設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實
2020-10-21 10:32:104274
容大感光科技光刻膠研發(fā)進(jìn)程
多年來,光刻膠的研發(fā)都被列入我國高新技術(shù)計劃、重大科技項目。今年9月28日,國家發(fā)展改革委、科技部、工業(yè)和信息化部以及財政部聯(lián)合印發(fā)的《關(guān)于擴大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資培育壯大新增長點增長極的指導(dǎo)意見》中
2020-10-22 15:20:153501
南大光電自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠成功通過認(rèn)證
今日南大光電發(fā)布公告稱,其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。報告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗證,寧波南
2020-12-18 09:29:424713
中國終于打破日本在光刻膠的壟斷地位
昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱,公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:103248
南大光電首款國產(chǎn)ArF光刻膠通過認(rèn)證 可用于45nm工藝光刻需求
? 導(dǎo) 讀 日前,南大光電公告稱,由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶使用認(rèn)證,線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖:南大光電公告 ? 公告稱
2020-12-25 18:24:096552
晶瑞順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺,可研發(fā)最高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠
晶瑞股份發(fā)布公告:經(jīng)多方協(xié)商、積極運作,該公司順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機一臺。 該光刻機于 2021 年 1 月 19 日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室,即將組織
2021-01-20 16:34:006362
晶瑞股份成功打造高端光刻膠研發(fā)實驗室
1月19日晚,國內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告,宣稱購得ASML公司光刻機一臺,將用于高端光刻膠項目。
2021-01-21 09:35:513021
2021年,半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11%
按照應(yīng)用領(lǐng)域分類,光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專用化學(xué)品(光引發(fā)劑和樹脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠。
2021-05-17 14:15:524208
光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機?
5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開盤即走強,截至收盤,A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:152764
光刻膠和光刻機的關(guān)系
光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0012100
改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報告
摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22803
晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細(xì)介紹
摘要 在這項工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實驗中使用的獨特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級,與銅兼容且無毒。實驗的第一階段是確定是否在合理的時間內(nèi)與光刻膠
2022-03-03 14:20:05535
采用雙層抗蝕劑法去除負(fù)光刻膠
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量的影響。實驗表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23855
干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)
灰化,簡單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:176110
光刻膠為何要謀求國產(chǎn)替代
南大光電最新消息顯示,國產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體;徐州博康宣布,該公司已開發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:141428
光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么
光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0418801
國產(chǎn)光刻膠市場前景 國內(nèi)廠商迎來發(fā)展良機
10%-15%,對應(yīng)的 PAG 用量為一般按樹脂重量的 6%-8%添加,最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價看,KrF 光刻膠用 PAG 的價格在 0.5-1.5萬元/kg
2022-11-18 10:07:433293
「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片
在2022年硅量子電子研討會上,英特爾實驗室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計算芯片,這為未來量產(chǎn)量子計算機打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前業(yè)界最大的硅基自旋量子運算芯片,量產(chǎn)芯片
2022-11-25 17:03:371696
「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片
來源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志10/11期 在2022年硅量子電子研討會上,英特爾實驗室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計算芯片,這為未來量產(chǎn)量子計算機打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前
2022-11-28 17:22:331032
高端光刻膠通過認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝
此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純試劑生產(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:321069
英特爾量子芯片,重磅公布
目前,學(xué)術(shù)機構(gòu)沒有像英特爾這樣的大批量制造制造設(shè)備。有了 Tunnel Falls,研究人員可以立即開始進(jìn)行實驗和研究,而不是嘗試制造自己的設(shè)備。因此,更廣泛的實驗成為可能,包括更多地了解量子位和量子點的基礎(chǔ)知識,以及開發(fā)用于使用具有多個量子位的設(shè)備的新技術(shù)。
2023-06-20 15:38:56610
半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24633
光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:111095
不僅需要***,更需要光刻膠
為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上萬片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48842
阿里達(dá)摩院裁撤量子實驗室證實!
據(jù)阿里達(dá)摩院證實,他們已經(jīng)決定裁撤量子實驗室,并將實驗室及儀器設(shè)備捐贈給浙江大學(xué)。這一舉措的目的是為了促進(jìn)量子科技的協(xié)同發(fā)展,并將捐贈的實驗室和設(shè)備開放給浙江大學(xué)及其他高校和科研機構(gòu)使用。
2023-11-28 18:20:28932
萬潤股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn),涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)
近期,萬潤股份在接受機構(gòu)調(diào)研時透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項目已經(jīng)順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58599
勻膠速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
勻膠是光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們在勻膠時,是如何確定勻膠速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:561190
光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)
光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場景。
2024-01-03 18:12:21861
瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中
據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目,該項投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43383
如何在芯片中減少光刻膠的使用量
光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
2024-03-04 10:49:16381
光谷實驗室研發(fā)短波紅外成像膠體量子點芯片
近日,首個膠體量子點成像芯片在光谷實驗室研發(fā)成功,其具備優(yōu)異性能。該芯片已能實現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模達(dá)到30萬,盲元率低于每十萬個像素中只有6個因素導(dǎo)致信號丟失,圖像波長范圍為0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:431297
要讓量子計算走出實驗室
轉(zhuǎn)自環(huán)球時報環(huán)球時報記者張蔚藍(lán)陳子帥原稿標(biāo)題:中國科學(xué)院量子信息重點實驗室副主任郭國平:要讓量子計算走出實驗室原文鏈接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05198
武漢光谷實驗室短波紅外芯片完成中試,年內(nèi)預(yù)計銷售千萬元
一顆黃豆大小的芯片,利用新技術(shù)膠體量子點紅外探測成像做成“視覺芯片”,裝到手機、檢測器上,可以“穿透”介質(zhì),看到肉眼看不到的“真相”。 光谷實驗室近日宣布,其聯(lián)合科研團隊(華中科技大學(xué)實驗室、溫州
2024-03-12 08:43:40254
光谷實驗室研發(fā)膠體量子點成像芯片,有望顛覆短波紅外市場
湖北光谷實驗室近日宣布,其科研團隊研發(fā)的膠體量子點成像芯片已實現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模30萬、盲元率低于6‰、波長范圍0.4-1.7微米、暗電流密度小于50 nA/cm2、外量子效率高于60%,號稱“性能優(yōu)越”。
2024-03-12 14:46:59616
關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹
與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來,從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:501437
英特爾推出Hala Point全球最大仿神經(jīng)形態(tài)系統(tǒng),解決AI效率問題
英特爾實驗室神經(jīng)形態(tài)運算總監(jiān)Mike Davies指出,“當(dāng)前AI模型訓(xùn)練及部署成本增長迅速,行業(yè)亟需創(chuàng)新方法。因此,英特爾實驗室研發(fā)了Hala Point,融合深度學(xué)習(xí)效率、類人腦持續(xù)學(xué)習(xí)和優(yōu)化功能。
2024-04-23 10:00:55329
一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛點
共讀好書 前烘對正膠顯影的影響 前烘對負(fù)膠膠顯影的影響 需要這個原報告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報告【贈2024電子資料百份】6 月 28-30 日北京“電子化學(xué)品行業(yè)分析檢測與安全管理培訓(xùn)班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:02244
光刻膠的保存和老化失效
我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在光刻過程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生,我們
2024-07-08 14:57:08251
光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言,負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負(fù)膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下,通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù),可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:00162
光刻膠后烘技術(shù)
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們在
2024-07-09 16:08:43252
光刻膠的一般特性介紹
評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:49161
光刻膠的硬烘烤技術(shù)
根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:59127
光刻膠涂覆工藝—旋涂
為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:36201
導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?
存儲時間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
2024-07-11 16:07:49204
破紀(jì)錄!芯片巨頭裁員,遣散費400萬元/人!
萊克斯利普(Leixlip)的員工提供了自愿離職方案, 補償金額可能高達(dá)50萬歐元(約393萬元人民幣,接近400萬元人民幣)。 該提案規(guī)定,員工需在8月23日前申請自愿離職。根據(jù)提出的條件,服務(wù)超過兩年的員工每年可額外獲得五周工資的補償。這還不包
2024-08-14 09:17:14199
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