今天上午，小編朋友圈基本都是中芯國(guó)際CO-CEO趙海軍已經(jīng)向中芯國(guó)際提出辭呈，不日將會(huì)到紫光展銳報(bào)道的傳言。
2019-03-09 14:52:23
7662 16日，三星電子宣布在基于EUV的高級(jí)節(jié)點(diǎn)方面取得了重大進(jìn)展，包括7nm批量生產(chǎn)和6nm客戶流片，以及成功完成5nm FinFET工藝的開發(fā)。 三星電子宣布其5納米（nm）FinFET工藝技術(shù)的開發(fā)
2019-04-18 15:48:476010 1月7日消息，三星電子已開始批量生產(chǎn)基于極紫外（EUV）技術(shù)的6nm（nm）半導(dǎo)體芯片。該公司自開始大規(guī)模生產(chǎn)7nm產(chǎn)品以來(lái)，僅在八個(gè)月內(nèi)就推出了6nm產(chǎn)品。三星的微加工工藝技術(shù)升級(jí)周期正在縮短
2020-01-07 12:03:103877 ，臺(tái)積電目前的7nm已經(jīng)廣泛應(yīng)用在各大半導(dǎo)體企業(yè)的芯片當(dāng)中，如麒麟980、蘋果A12等。臺(tái)積電方面也表示，7nm是其產(chǎn)能提升最快的一代工藝。 目前公開的信息顯示，臺(tái)積電7nm工藝共有兩代，第一代在2018年4月份大規(guī)模投產(chǎn)，第二代，將EUV（極紫外光）技術(shù)引入進(jìn)7nm的商業(yè)生產(chǎn)當(dāng)
2020-08-23 08:23:005212 CEO劉德音在公司會(huì)議上表示，7nm和10nm的研發(fā)同時(shí)進(jìn)行，目標(biāo)在2017年第一個(gè)季度開始7nm的技術(shù)評(píng)估，預(yù)計(jì)在2018年上半年開始生產(chǎn)7nm產(chǎn)品。
2015-07-21 10:34:251249 日前中芯國(guó)際CEO邱慈云表態(tài)今年晚些時(shí)候會(huì)投資研發(fā)7nm工藝，不過(guò)他并沒(méi)有給出國(guó)產(chǎn)7nm工藝問(wèn)世時(shí)間，考慮到14nm工藝目標(biāo)定在2018-2020年左右，估計(jì)國(guó)產(chǎn)的7nm工藝至少也得在2020年之后了。
2017-03-17 09:28:312307 中芯國(guó)際新任CEO趙海軍11日從副董事長(zhǎng)邱慈云手上，接棒主持第一次對(duì)外法說(shuō)會(huì) 。
2017-05-15 09:03:251166 在三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后，讓EUV輸出率獲得快速提升，臺(tái)積電決定在7nm強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)定案，5nm才決定全數(shù)導(dǎo)入。
2017-08-23 08:38:231779 EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因?yàn)樗l(fā)射的光線波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路，所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星
2018-05-17 09:22:2010936 在7nm及以下節(jié)點(diǎn)上，臺(tái)積電的進(jìn)展是最快的，今年量產(chǎn)7nm不說(shuō)，最快明年4月份就要試產(chǎn)5nm EUV工藝了，不過(guò)這個(gè)節(jié)點(diǎn)的投資花費(fèi)也是驚人的，臺(tái)積電投資250億美元建廠，5nm芯片設(shè)計(jì)費(fèi)用也要比7nm工藝提升50%。
2018-10-08 09:52:333674 根據(jù)全球唯一能供應(yīng)EUV光刻機(jī)機(jī)臺(tái)的ASML最新官方消息揭露，截至2018年底，已對(duì)全球晶圓大廠供應(yīng)29臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)(2017年占11臺(tái))，且2019年有望再出貨30臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)。從2019年全球EUV機(jī)臺(tái)倍數(shù)成長(zhǎng)的現(xiàn)象觀察可知，2019年將是7nm EUV半導(dǎo)體產(chǎn)品元年。
2019-03-07 14:35:471108 V1產(chǎn)線/工廠2018年2月動(dòng)工，2019年下半年開始測(cè)試晶圓生產(chǎn)，首批產(chǎn)品今年一季度向客戶交付。目前，V1已經(jīng)投入7nm和6nm EUV移動(dòng)芯片的生產(chǎn)工作，規(guī)劃未來(lái)可代工到最高3nm尺度。
2020-02-21 08:59:313550 中芯國(guó)際的7nm工藝發(fā)展跟臺(tái)積電的路線差不多，7nm節(jié)點(diǎn)一共發(fā)展了三種工藝，分別是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工藝的N7＋，前兩代工藝也沒(méi)用EUV光刻機(jī)，只有N7＋工藝上才開始用EUV工藝，不過(guò)光罩層數(shù)也比較少，5nm節(jié)點(diǎn)寸是充分利用EUV光刻工藝的，達(dá)到了14層EUV光罩。
2020-02-28 09:49:163525 英特爾首席執(zhí)行官鮑勃?斯旺（Bob Swan）在周四的財(cái)報(bào)電話會(huì)議上對(duì)延遲上市的7nm芯片再做闡釋。他指出，公司將在2021年初決定是采用自己的技術(shù)還是交由第三方代工生產(chǎn)7納米芯片。
2020-10-26 10:26:052909 隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片制程工藝已從90nm、65nm、45nm、32nm、22nm、14nm升級(jí)到到現(xiàn)在比較主流的10nm、7nm，而最近據(jù)媒體報(bào)道，半導(dǎo)體的3nm工藝研發(fā)制作也啟動(dòng)
2019-12-10 14:38:41
將在IBM紐約州East Fishkill 300 mm晶圓廠內(nèi)聯(lián)合開發(fā)32 nm bulk CMOS工藝。2007年2月美光推出25 nm NAND閃存，3年后量產(chǎn)25 nm閃存。目前32 nm/22 nm工藝尚處于研發(fā)階段。
2019-07-01 07:22:23
的主要原因是技術(shù)指標(biāo)設(shè)定過(guò)高。 在吸取了這個(gè)教訓(xùn)之后，英特爾在自己的7nm工藝設(shè)定上要更為保守一些，其密度增加會(huì)量力而行。顯然，在延遲了4年之后，10nm工藝預(yù)計(jì)將在2021年進(jìn)入大規(guī)模批量生產(chǎn)階段
2020-07-07 11:38:14
和排名，主要統(tǒng)計(jì)指標(biāo)包括7nm智能座艙芯片產(chǎn)能、銷量、銷售收入、價(jià)格、市場(chǎng)份額及排名等，企業(yè)數(shù)據(jù)主要側(cè)重近三年行業(yè)內(nèi)主要廠商的市場(chǎng)銷售情況。地區(qū)層面，主要分析過(guò)去五年和未來(lái)五年行業(yè)內(nèi)主要生產(chǎn)地區(qū)和主要消費(fèi)
2024-03-16 14:52:46
7nm新工藝的加持：RX 5500 XT可輕輕松松突破2GHz
2021-06-26 07:05:34
是通過(guò)提升技術(shù)成本來(lái)平衡工序成本和周期成本。例如，按照格羅方德的測(cè)算，啟用EUV技術(shù)，在7nm和5nm節(jié)點(diǎn)，都僅需要1個(gè)光罩即可生產(chǎn)。這樣理論上來(lái)說(shuō)，就可以起到簡(jiǎn)化工藝流程，減少生產(chǎn)周期的作用。對(duì)此，芯謀
2017-11-14 16:24:44
國(guó)內(nèi)的通富微電成為AMD 7nm芯片的封測(cè)廠商之一
2020-12-30 07:48:47
感到非常鼓舞人心。我們已與用戶設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)密切合作，設(shè)計(jì)能夠在高級(jí)工藝節(jié)點(diǎn)上應(yīng)對(duì)日益升級(jí)的技術(shù)挑戰(zhàn)的平臺(tái)。通過(guò)使用7nm Fusion Design Platform，設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)能夠顯著提高生產(chǎn)力，增加
2020-10-22 09:40:08
XX nm制造工藝是什么概念？為什么說(shuō)7nm是物理極限？
2021-10-20 07:15:43
了高通的訂單。之后，中芯國(guó)際憑借極具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格從Globalfoundries手中奪走了訂單，成為高通電源管理芯片的主要合作伙伴。我們知道，在高通的幫助下，中芯國(guó)際實(shí)現(xiàn)了28nm工藝量產(chǎn)，而且還加快14nm硅片的量產(chǎn)。由于產(chǎn)能、價(jià)格及新芯片技術(shù)的原因，此次高通將電源管理芯片交給了臺(tái)積電生產(chǎn)。
2017-09-27 09:13:24
Victor Peng說(shuō)他此番來(lái)中國(guó)的目的，是要向產(chǎn)業(yè)宣布公司的未來(lái)愿景與戰(zhàn)略藍(lán)圖。根據(jù)Peng的規(guī)劃，賽靈思將憑借新發(fā)展、新技術(shù)和新方向，打造“靈活應(yīng)變的智能世界”。在該世界中，賽靈思將超越
2018-03-23 14:31:40
剛剛過(guò)去的15日，中芯國(guó)際召開了臨時(shí)董事會(huì)，會(huì)上卻出現(xiàn)了突發(fā)一幕：聯(lián)合CEO梁孟松向董事會(huì)遞交了書面辭呈，而董事長(zhǎng)周子學(xué)并未當(dāng)場(chǎng)核準(zhǔn)?！ ‘?dāng)晚，中芯國(guó)際公告指出：董事會(huì)表決通過(guò)關(guān)于委任副董事長(zhǎng)
2020-12-16 18:12:58
的晶體管制程從14nm縮減到了1nm。那么，為何說(shuō)7nm就是硅材料芯片的物理極限，碳納米管復(fù)合材料又是怎么一回事呢？面對(duì)美國(guó)的技術(shù)突破，中國(guó)應(yīng)該怎么做呢？XX nm制造工藝是什么概念？芯片的制造...
2021-07-28 07:55:25
7nm 設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)高級(jí)節(jié)點(diǎn)存在許多設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)，例如：老化效應(yīng)隨著晶體管器件的開啟和關(guān)閉，有兩個(gè)主要的物理效應(yīng)會(huì)影響可靠性：負(fù)偏壓溫度不穩(wěn)定性 ( NBTI )熱載體注入 (HCI)電路設(shè)計(jì)人員了解到
2022-11-04 11:08:00
從7nm到5nm，半導(dǎo)體制程芯片的制造工藝常常用XXnm來(lái)表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工藝。所謂的XXnm指的是集成電路的MOSFET晶體管柵極
2021-07-29 07:19:33
都已經(jīng)使用7nm EUV工藝開始生產(chǎn)芯片了，預(yù)定今年發(fā)布的AMD Zen 3架構(gòu)第四代銳龍?zhí)幚砥饔玫木褪桥_(tái)積電7nm EUV工藝，Intel現(xiàn)在的10nm工藝還沒(méi)用上EUV技術(shù)，不過(guò)預(yù)定在7nm工藝
2020-07-07 14:22:55
。根據(jù)臺(tái)積電的規(guī)劃，南科14廠和18廠分別專注于12nm和16nm制程技術(shù)，以及5nm和 3nm技術(shù)，而中科15廠則負(fù)責(zé)28nm和7nm制程技術(shù)。臺(tái)積電的5nm晶圓廠從2018年開始啟動(dòng)，有5000
2020-03-09 10:13:54
，共同致力于有機(jī)、透明與軟性的電子研究?！ 坝袡C(jī)半導(dǎo)體將成為信息時(shí)代的‘原油’，屆時(shí)，摩爾定律也將在7nm節(jié)點(diǎn)達(dá)到極限，”TU Dresden有機(jī)組件研究主席Stefan Mansfield表示
2018-11-12 16:15:26
/5nm等邏輯工藝，還會(huì)用在DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)上。 早前，三星還宣布，其位于華城的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)。據(jù)悉，V1廠為三星第一條專門生產(chǎn)EUV技術(shù)的生產(chǎn)線，該工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)的產(chǎn)品為7nm 7
2020-02-27 10:42:16
10月7日，沉寂已久的計(jì)算技術(shù)界迎來(lái)了一個(gè)大新聞。勞倫斯伯克利國(guó)家實(shí)驗(yàn)室的一個(gè)團(tuán)隊(duì)打破了物理極限，將現(xiàn)有最精尖的晶體管制程從14nm縮減到了1nm。晶體管的制程大小一直是計(jì)算技術(shù)進(jìn)步的硬指標(biāo)。晶體管
2016-10-08 09:25:15
求一份tsmc 7nm standard cell library求一份28nm或者40nm 的數(shù)字庫(kù)
2021-06-25 06:39:25
10nm、7nm等到底是指什么？芯片工藝從目前的7nm升級(jí)到3nm后，到底有多大提升呢？
2021-06-18 06:43:04
://shouji.adiannao.cn/7 麒麟990采用的臺(tái)積電先進(jìn)的EUV-7nm制程，驍龍865是晚于麒麟9905G發(fā)布的一款5G芯片，驍龍865采用的并不是先進(jìn)的EUV-7nm制程，而是在傳統(tǒng)的7nm制程工藝上做出了改變?！∮捎隍旪?65的CPU核心采用的是最先進(jìn)的A77架構(gòu)，所以能最大程度上發(fā)揮出自己的性能，而麒麟9905
2021-07-01 13:23:49
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
目前的GS464V升級(jí)到LA664，因此單核性能有較大提升，達(dá)到市場(chǎng)上主流設(shè)計(jì)。至于未來(lái)的工藝，龍芯表示目前公司針對(duì)7nm的工藝制程對(duì)不同廠家的工藝平臺(tái)做評(píng)估，不過(guò)他們沒(méi)有透露什么時(shí)候跟進(jìn)7nm工藝
2023-03-13 09:52:27
臺(tái)媒指臺(tái)積電已開始試產(chǎn)7nm工藝，最快將在明年一季度正式投產(chǎn)，并傳言高通將可能回歸采用7nm工藝生產(chǎn)其高端芯片，筆者對(duì)這一消息有一定的疑問(wèn)。
2017-01-03 15:10:15751 臺(tái)媒指臺(tái)積電已開始試產(chǎn)7nm工藝，最快將在明年一季度正式投產(chǎn)，并傳言高通將可能回歸采用7nm工藝生產(chǎn)其高端芯片，筆者對(duì)這一消息有一定的疑問(wèn)。
2017-01-04 11:48:11782 的34%，而且良率很好，而三星展示的7nm SRAM芯片只有8Mb，更多的是研究性質(zhì)，他們要等EUV光刻工藝成熟。 在ISSCC國(guó)際固態(tài)電路會(huì)議上，各
2017-02-11 02:21:11277 
中芯國(guó)際CEO邱慈云表態(tài)今年晚些時(shí)候會(huì)投資研發(fā)7nm工藝，不過(guò)他并沒(méi)有給出國(guó)產(chǎn)7nm工藝問(wèn)世時(shí)間，考慮到14nm工藝目標(biāo)定在2018-2020年左右，估計(jì)國(guó)產(chǎn)的7nm工藝至少也得在2020年之后了。
2017-03-17 10:07:306802 近日消息，中芯國(guó)際發(fā)布公告，CEO邱慈云因個(gè)人原因請(qǐng)辭，由趙海軍出任公司新任CEO。自2017年5月10日起生效。邱慈云被委任為公司董事會(huì)非執(zhí)行副董事長(zhǎng)及調(diào)任為非執(zhí)行董事。
2017-05-13 01:05:082416 Intel在本屆CES上再放大招，繼續(xù)與NVIDIA展開激烈競(jìng)爭(zhēng)，據(jù)悉，intel宣布將在今年8月份開始生產(chǎn)基于7nm工藝的高級(jí)別自動(dòng)駕駛芯片。
2018-01-12 16:57:02773 本周在火奴魯魯舉行的VLSI（超大規(guī)模集成電路）研討會(huì)上，三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)。
2018-06-22 15:16:00967 EUV被認(rèn)為是推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制造更小芯片的重要里程碑，但是根據(jù)目前的EUV微影技術(shù)發(fā)展進(jìn)程來(lái)看，10奈米（nm）和7nm制程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒，就是5nm仍存在很大的挑戰(zhàn)。
2018-01-24 10:52:392279 
AMD 基于7nm工藝的Vega架構(gòu)將在在2018年內(nèi)完成流片，7nm Vega會(huì)首先面向機(jī)器學(xué)習(xí)市場(chǎng)，不過(guò)要問(wèn)世估計(jì)要等到2019年了，據(jù)悉將取代目前的14nm/Vega Radeon Instinct MI25。
2018-02-01 11:32:571000 
10月16日，中芯國(guó)際召開臨時(shí)董事會(huì)議，正式宣布梁孟松出任中芯國(guó)際聯(lián)合CEO（Co-CEO），并自即（16）日起生效。所以趙海軍和梁孟松的關(guān)系是平級(jí)關(guān)系。
2018-02-24 10:42:5276299 的一個(gè)關(guān)鍵詞。 而作為芯片制造的一大頭，三星此前也已經(jīng)宣布了其7nm LPP工藝將會(huì)在2018年下半年投入生產(chǎn)，此外，在昨天的Samsung Foundry Forum論壇上，三星更是直接宣布了5/4/3nm工藝技術(shù)。
2018-05-25 11:09:003532 臺(tái)積電已經(jīng)在著手將其7nm制程工藝擴(kuò)大到大規(guī)模生產(chǎn)，臺(tái)積電的7nm制程工藝被稱作N7，將會(huì)在今年下半年開始產(chǎn)能爬坡。
2018-06-12 15:14:413315 另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時(shí)間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當(dāng)然，這里說(shuō)的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污染、自修正機(jī)制過(guò)關(guān)堪用等。三星稱，7nm EUV若最終成行，將被證明是成本更優(yōu)的方案。
2018-06-22 15:53:453469 目前三星宣布已經(jīng)完成了整套7nm EUV工藝的技術(shù)流程開發(fā)以及產(chǎn)線部署，進(jìn)入了可量產(chǎn)階段。三星表示7nm LPP工藝可以減少20%的光學(xué)掩模流程，整個(gè)制造過(guò)程更加簡(jiǎn)單了，節(jié)省了時(shí)間和金錢，又可以實(shí)現(xiàn)40%面積能效提升、性能增加20%、功耗降低50%目標(biāo)。
2018-10-19 10:51:363698 12月21日，IBM宣布，將選用三星7nm EUV代工其Power11處理器，后者將用于藍(lán)色巨人的Power系統(tǒng)、IBM Z、LinuxOne、高性能計(jì)算以及云服務(wù)解決方案中。
2018-12-24 10:22:134088 所以，臺(tái)積電要想保持優(yōu)勢(shì)，就必須要加快7nm EUV的進(jìn)程。而7nm EUV工藝的關(guān)鍵在于EUV光刻機(jī)，今年ASML（荷蘭阿斯麥）也計(jì)劃提高EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能，以及將年出貨量由之前的18臺(tái)提升到今年的30臺(tái)。
2019-02-14 16:04:593230 據(jù)臺(tái)媒2月12日?qǐng)?bào)道，為延續(xù)7納米制程領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，臺(tái)積電支持極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7nm加強(qiáng)版制程將按既定時(shí)間于3月底正式量產(chǎn)，而全程采用EUV技術(shù)的5nm制程也將在今年第2季進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。
2019-02-16 11:11:154482 三星將使用7nm EUV工藝為IBM代工Power處理器。IBM 的Power 系列處理器正式邁入7 nm制程。
2019-03-04 10:32:542936 3月9日消息，據(jù)Deeptech爆料，中芯國(guó)際CO-CEO趙海軍即將加碼紫光集團(tuán)。并稱“趙海軍已經(jīng)向中芯國(guó)際提出辭呈，雖然中芯國(guó)際董事長(zhǎng)周子學(xué)極力挽留，但他投奔紫光之心已決，預(yù)計(jì)近日將到紫光集團(tuán)報(bào)到”。對(duì)此，中芯國(guó)際予以否認(rèn)。
2019-03-11 08:50:176643 紫光集團(tuán)全球獵才行動(dòng)再起，這一次鎖定的對(duì)象是中芯國(guó)際 CO-CEO 趙海軍，傳出趙海軍已經(jīng)向中芯國(guó)際提出辭呈，雖然中芯國(guó)際董事長(zhǎng)周子學(xué)極力挽留，但他投奔紫光之心已決，預(yù)計(jì)近日將到紫光集團(tuán)報(bào)到，讓向來(lái)求才若渴的紫光集團(tuán)董事長(zhǎng)趙偉國(guó)一手擘畫的半導(dǎo)體疆域，再度增添一名驍勇善戰(zhàn)大將。
2019-03-11 10:51:234492 今日，業(yè)內(nèi)突然傳出，紫光集團(tuán)挖角中芯國(guó)際 CO-CEO 趙海軍，傳出趙海軍已經(jīng)向中芯國(guó)際提出辭呈。
2019-03-11 11:22:298480 中芯國(guó)際的4任CEO 趙海軍今日被傳遭紫光集團(tuán)挖角，然而中芯國(guó)際自2000年成立以來(lái)已經(jīng)經(jīng)歷了4任CEO。
2019-03-11 11:25:3026366 包括7nm批量生產(chǎn)和6nm產(chǎn)品的流片, 三星電子在基于EUV技術(shù)的先進(jìn)制程工藝開發(fā)上取得重大進(jìn)展 4月16日,三星電子宣布，其5nm FinFET( 鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)工藝技術(shù)已經(jīng)開發(fā)完成，該技術(shù)
2019-04-18 20:48:54272 彭博報(bào)道稱，臺(tái)積電已于4月份就開始了蘋果A13芯片的早期測(cè)試生產(chǎn)階段，并且計(jì)劃在本月進(jìn)行量產(chǎn)。預(yù)計(jì)A13芯片將采用臺(tái)積電的第二代7nm工藝，并且率先采用EUV光刻技術(shù)。
2019-05-13 16:39:514527 臺(tái)積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。
2019-05-28 16:18:243401 通過(guò)使用三星7nm EUV工藝代替臺(tái)積電的7nm工藝，Nvidia可能能夠獲得更多供應(yīng)。
2019-06-10 09:06:126225 日前三星在韓國(guó)又舉行了新一輪晶圓代工制造論壇會(huì)議，超過(guò)500多名無(wú)晶圓廠芯片客戶參會(huì)，負(fù)責(zé)晶圓代工業(yè)務(wù)的三星副總裁Jung Eun-seung表示，三星今年9月份將完成韓國(guó)華城的7nm EUV工藝生產(chǎn)線，明年1月份量產(chǎn)。
2019-07-10 15:44:043116 芯片行業(yè)從20世紀(jì)90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻（紫外線波長(zhǎng)范圍是10~400nm）用以取代現(xiàn)在的193nm。EUV本身也有局限，比如容易被空氣和鏡片材料吸收、生成高強(qiáng)度的EUV也很困難。
2019-10-01 17:12:007709 日前，高通發(fā)布了新一代旗艦平臺(tái)驍龍865、主流平臺(tái)驍龍765/765G，分別采用臺(tái)積電7nm、三星8nm工藝制造。那么，高通為何在兩個(gè)平臺(tái)上使用兩種工藝？驍龍865為何沒(méi)用最新的7nm EUV？5nm方面高通有何規(guī)劃？
2019-12-09 17:23:236488 目前，三星7nm EUV技術(shù)已經(jīng)量產(chǎn)，在2019下半年將完成的韓國(guó)華城7nm EUV工藝生產(chǎn)線，將在2020年1月份量產(chǎn)，5nm制程也計(jì)劃在2020年上半年量產(chǎn)，3nm制程預(yù)計(jì)在2021年進(jìn)入量產(chǎn)，正在不斷趕上臺(tái)積電。
2019-11-14 16:03:492738 高通發(fā)布了新一代旗艦平臺(tái)驍龍865、主流平臺(tái)驍龍765/765G，分別采用臺(tái)積電7nm、三星8nm工藝制造。那么，高通為何在兩個(gè)平臺(tái)上使用兩種工藝？驍龍865為何沒(méi)用最新的7nm EUV？5nm方面高通有何規(guī)劃？
2019-12-09 17:56:293685 月初的驍龍峰會(huì)，高通發(fā)布了驍龍865、驍龍765/765G等SoC產(chǎn)品。兩款產(chǎn)品除了有著集成5G基帶與否的區(qū)別，制造工藝也略有不同，驍龍865采用的是成熟的臺(tái)積電7nm DUV，而驍龍765系列則是交由三星7nm EUV代工。
2019-12-20 15:48:398430 2020年除了7nm顯卡之外，AMD的桌面銳龍、HEDT發(fā)燒處理器、服務(wù)器霄龍及筆記本銳龍APU四大產(chǎn)品線也會(huì)繼續(xù)升級(jí)，3款會(huì)上7nm+EUV工藝及Zen3架構(gòu)。AMD不斷加碼7nm工藝將使得他們?cè)谂_(tái)積電的7nm產(chǎn)能占比中首次超越蘋果、海思、高通而成為第一。
2020-01-03 08:59:163124 2020年除了7nm顯卡之外，AMD的桌面銳龍、HEDT發(fā)燒處理器、服務(wù)器霄龍及筆記本銳龍APU四大產(chǎn)品線也會(huì)繼續(xù)升級(jí)，3款會(huì)上7nm+EUV工藝及Zen3架構(gòu)。AMD不斷加碼7nm工藝將使得他們?cè)谂_(tái)積電的7nm產(chǎn)能占比中首次超越蘋果、海思、高通而成為第一。
2020-01-03 10:06:542826 根據(jù)消息，英偉達(dá)將在2020年3月的GTC大會(huì)期間宣布其安培顯卡，目前所有證據(jù)都表明安培顯卡將采用7nm工藝生產(chǎn)。
2020-01-13 15:01:252433 根據(jù)三星的計(jì)劃，到2020年底，V1生產(chǎn)線的累計(jì)總投資將達(dá)到60億美元，預(yù)計(jì)7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的總產(chǎn)能將比2019年增長(zhǎng)三倍，目前的計(jì)劃是在第一季度開始交付其基于6nm和7nm的移動(dòng)芯片。
2020-02-21 09:00:352089 近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來(lái)越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來(lái)越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 我們要不要過(guò)分夸大中芯國(guó)際呢，14nm能夠發(fā)揮7nm工藝的水平？如果說(shuō)14nm高于12nm，筆者是相信的，畢竟當(dāng)年的iphone 6s的兩個(gè)處理器是混用的。
2020-03-09 11:59:343314 據(jù)外媒報(bào)道，目前中國(guó)內(nèi)地最大的芯片代工企業(yè)中芯國(guó)際（SMIC）已經(jīng)計(jì)劃在今年第四季度開始7nm芯片的生產(chǎn)。
2020-03-10 09:19:483981 2020年，全球最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝要從7nm升級(jí)到5nm了，臺(tái)積電最近上半年就開始量產(chǎn)5nm EUV工藝，而三星也加碼投資，預(yù)計(jì)6月底完成5nm EUV生產(chǎn)線。
2020-03-13 08:35:012624 10nm良品率大幅改進(jìn)、產(chǎn)能大幅提升，2020年將推出一系列新品。7nm將在2021實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品首發(fā)，2022年提供完整的產(chǎn)品組合。
2020-04-10 08:55:03579 CFan曾在《芯希望來(lái)自新工藝！EUV和GAAFET技術(shù)是個(gè)什么鬼？》一文中解讀過(guò)EUV（極紫外光刻），它原本是用于生產(chǎn)7nm或更先進(jìn)制程工藝的技術(shù)，特別是在5nm3nm這個(gè)關(guān)鍵制程節(jié)點(diǎn)上，沒(méi)有
2020-09-01 14:00:292234 近日，臺(tái)積電在官方blog宣布，今年7月，臺(tái)積電生產(chǎn)了第10億顆功能完好、沒(méi)有缺陷的7nm芯片。
2020-08-21 15:36:571975 臺(tái)積電表示，大規(guī)模、高效的生產(chǎn)是其提高產(chǎn)品質(zhì)量和可靠性的關(guān)鍵。作為第一個(gè)支持7nm制程工藝并大批量生產(chǎn)的企業(yè)，臺(tái)積電的產(chǎn)量和質(zhì)量已經(jīng)超過(guò)其他半導(dǎo)體制造商。
2020-08-27 09:45:421692 
工藝制程走入10nm以下后，臺(tái)積電的優(yōu)勢(shì)開始顯現(xiàn)出來(lái)。在7nm節(jié)點(diǎn)，臺(tái)積電優(yōu)先確保產(chǎn)能，以DUV（深紫外光刻）打頭陣，結(jié)果進(jìn)度領(lǐng)先三星的7nm EUV，吃掉大量訂單，奠定了巨大優(yōu)勢(shì)。
2020-09-02 15:58:441967 工藝制程走入10nm以下后，臺(tái)積電的優(yōu)勢(shì)開始顯現(xiàn)出來(lái)。在7nm節(jié)點(diǎn)，臺(tái)積電優(yōu)先確保產(chǎn)能，以DUV（深紫外光刻）打頭陣，結(jié)果進(jìn)度領(lǐng)先三星的7nm EUV，吃掉大量訂單，奠定了巨大優(yōu)勢(shì)。
2020-09-02 16:00:292684 在今年上半年，臺(tái)積電5nm工藝所生產(chǎn)的芯片，尚未出貨，營(yíng)收排在首位的，也還是7nm工藝，在一季度和二季度，7nm分別貢獻(xiàn)了35%和36%的營(yíng)收，超過(guò)三分之一。
2020-09-02 16:52:152373 周子學(xué)未當(dāng)場(chǎng)核準(zhǔn)。 然而，CEO請(qǐng)辭本已事大，但梁孟松的請(qǐng)辭信卻透露出了中芯國(guó)際在關(guān)鍵技術(shù)上的驚人進(jìn)展，遠(yuǎn)超市場(chǎng)預(yù)期。 中芯國(guó)際7nm技術(shù)已完成開發(fā) 5nm＆3nm 8大項(xiàng)技術(shù)只待EUV到來(lái)就可全面開發(fā) 梁孟松請(qǐng)辭信中表示：「目前，28nm，14nm，12nm，及n＋1等
2020-12-16 10:42:184191 
聲明。梁孟松在辭職信中表示：“中芯國(guó)際7nm技術(shù)的開發(fā)已經(jīng)完成，明年四月就可以馬上進(jìn)入風(fēng)險(xiǎn)量產(chǎn)。5nm和3nm最關(guān)鍵、也是最艱巨的8大項(xiàng)技術(shù)也已經(jīng)有序展開，只待EUV光刻機(jī)的到來(lái)，就可以進(jìn)入全面開發(fā)階段?！?梁孟松在辭職信中表示，以
2020-12-16 11:48:256654 去年傳出了中科院、IBM研發(fā)2nm芯片及技術(shù)的消息，而今年臺(tái)積電和三星又相繼宣布將在2025年實(shí)現(xiàn)2nm制程芯片的量產(chǎn)，并且美國(guó)和日本也開始聯(lián)手攻克2nm芯片相關(guān)技術(shù)，從這些消息能看出2nm芯片
2022-06-24 10:31:303662 1、IBM的2nm芯片，所有關(guān)鍵功能都是使用EUV光刻機(jī)進(jìn)行刻蝕。而7nm芯片只有在芯片生產(chǎn)的中間和后端環(huán)節(jié)使用EUV光刻機(jī)，意味著2nm工藝對(duì)EUV光刻機(jī)擁有更高的依賴性。
2022-07-05 17:26:497169 DUV是深紫外線，EUV是極深紫外線。從制程工藝來(lái)看，DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造，并且還可以向5nm、3nm繼續(xù)延伸。
2023-07-10 11:36:26735 
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