單針對(duì)厚膜電路技術(shù)，其核心材料厚膜漿料就在電子產(chǎn)品制造過程中，應(yīng)用的行業(yè)領(lǐng)域十分廣泛，包括消費(fèi)電子、汽車、物聯(lián)網(wǎng)、電信、生物醫(yī)學(xué)、太空和軍事等。電子產(chǎn)品的持續(xù)進(jìn)步需要?jiǎng)?chuàng)新的功能材料來制造更小、更薄、更靈活的產(chǎn)品。
2022-03-29 16:11:05
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半導(dǎo)體裝置為了達(dá)成附加值高的系統(tǒng)LSI，需要高集成化，高速化，這其中新的布線材料，絕緣膜是不可缺少的。其中，具有低電阻的Cu，作為布線材料受到關(guān)注。化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）和之后的清洗是Cu布線形成中不可缺少的過程，CMP中使用的漿料、清洗液的性能在很大程度上左右了布線的形成。
2022-04-26 14:07:521273 
化，既無法重復(fù)進(jìn)行光刻、刻蝕、薄膜和摻雜等關(guān)鍵工藝，也無法將制程節(jié)點(diǎn)縮小至納米級(jí)的先進(jìn)領(lǐng)域，因此隨著超大規(guī)模集成電路制造的線寬不斷細(xì)小化而產(chǎn)生對(duì)平坦化的更高要求和需求，CMP在先進(jìn)工藝制程中具有不可替代且越來越重要的作用。
2023-02-03 10:27:053660 
（2560 1440），像素密度525ppi。早期預(yù)計(jì)今年年底月產(chǎn)能可達(dá)2.1萬片（含5.0和5.5英寸），搶分全球AMOLED市場(chǎng)杯羹，全面挑戰(zhàn)三星的市場(chǎng)地位?！ ?b class="flag-6" style="color: red">4、固安鼎材科技問鼎國(guó)內(nèi)OLED材料之巔
2015-12-28 16:59:28
智能家居市場(chǎng)第一!據(jù)估計(jì)，2018年全美有4千萬智能家庭，這一數(shù)字比2017年增長(zhǎng)了20.4%。預(yù)計(jì)2018年美國(guó)智能家居市場(chǎng)收入將達(dá)200億美元，且2018-2022年，預(yù)計(jì)每年都將增長(zhǎng)14.9
2018-11-01 09:26:17
2020年，這一數(shù)字將增長(zhǎng)到220萬。
根據(jù)SuperAwesome的研究，在美國(guó)4至11歲的兒童中，超過9/10可以使用智能音箱或語音助手。26%的兒童用戶每周花2-4小時(shí)使用智能音箱，20
2018-12-02 09:24:16
/月LTPS玻璃基板，預(yù)計(jì)于2018年一季度投產(chǎn)）和昆山友達(dá)（設(shè)計(jì)產(chǎn)能為4.5萬片/月LTPS玻璃基板，預(yù)計(jì)于2016年三季度投產(chǎn)）；另外還有貴陽(yáng)深超光電和和上海輝光電兩條六代線正在規(guī)劃中。新建或規(guī)劃中
2016-01-30 11:30:52
面向汽車市場(chǎng)的AMOLED顯示器出貨量預(yù)計(jì)將達(dá)到3.5萬臺(tái)；到2021年，全球出貨量將超過100萬臺(tái)，增速明顯。隨著越來越多的供應(yīng)商加入這個(gè)市場(chǎng)，預(yù)計(jì)2022年的發(fā)貨量還將進(jìn)一步增加。相信AMOLED顯示器在汽車市場(chǎng)的發(fā)展，還會(huì)迎來一波大幅度增長(zhǎng)。`
2018-09-25 16:35:43
CMP-210 - MIXERS TRIPLE-BALANCED - SYNERGY MICROWAVE CORPORATION
2022-11-04 17:22:44
CMP-231 - MIXERS TRIPLE-BALANCED - SYNERGY MICROWAVE CORPORATION
2022-11-04 17:22:44
CMP-3A6 - MIXERS TRIPLE-BALANCED - SYNERGY MICROWAVE CORPORATION
2022-11-04 17:22:44
CMP-3A8 - MIXERS TRIPLE-BALANCED - SYNERGY MICROWAVE CORPORATION
2022-11-04 17:22:44
CMP-505 - MIXERS TRIPLE-BALANCED - SYNERGY MICROWAVE CORPORATION
2022-11-04 17:22:44
CMP-506 - MIXERS TRIPLE-BALANCED - SYNERGY MICROWAVE CORPORATION
2022-11-04 17:22:44
據(jù)全球領(lǐng)先的信息技術(shù)研究和顧問公司Gartner的預(yù)測(cè)，2020年全球物聯(lián)網(wǎng)(IoT)企業(yè)無人機(jī)(定義為無人飛行器)的總出貨量將達(dá)到52.6萬臺(tái)，相比2019年增長(zhǎng)50%。到2023年，全球物聯(lián)網(wǎng)
2019-12-11 09:27:00
這篇應(yīng)用筆記描述了怎么使用AT32F415xx的比較器(CMP)。AT32F415系列內(nèi)置兩個(gè)超低功耗比較器CMP1和CMP2，可以用于多種功能，包括：外部模擬信號(hào)的監(jiān)測(cè)控制及從低功耗模式喚醒，與內(nèi)置定時(shí)器結(jié)合使用，進(jìn)行脈沖寬度測(cè)量和PWM信號(hào)控制等。
2023-10-24 07:38:06
AT32F421 CMP 使用指南描述了怎么使用AT32F421xx的比較器(CMP)。AT32F421系列內(nèi)置一個(gè)超低功耗比較器CMP，它可用作獨(dú)立器件（I/O上提供了全部接口），也可以與定時(shí)器結(jié)合使用。
2023-10-24 08:07:14
ADC采樣通道。比如當(dāng)你程序中配置4倍增益，當(dāng)正端輸入電壓為0.8V時(shí)，輸出電壓為3.2V。
5、當(dāng)使用OPA復(fù)位功能時(shí)當(dāng)使用OPA復(fù)位功能時(shí)，只要輸出端為高電平，則就會(huì)進(jìn)行復(fù)位。
6、當(dāng)使用OPA剎車
2023-09-02 14:45:14
增益時(shí)當(dāng)配置使用PGA增益時(shí)，無需對(duì)負(fù)端引腳進(jìn)行配置，直接配置增益倍數(shù)即可，可選4倍、8倍、16倍、32倍放大。輸出引腳同樣可以配置為通用IO或ADC采樣通道。比如當(dāng)你程序中配置4倍增益，當(dāng)正端輸入電壓
2023-09-11 16:20:44
TV面板，產(chǎn)能為8K／M；另外一個(gè)是Gen8．5（E4）生產(chǎn)線，主要生產(chǎn)4K OLED TV面板，產(chǎn)能為26K／M。IHS研究總監(jiān)謝勤益告訴記者，LGD的E4工廠在2017年下半年還會(huì)增加26K／M產(chǎn)能
2018-11-13 16:29:01
。所以我的射程達(dá)到了65536。我有模擬輸入0，1到3，3V。所以如果我給輸入1，6V比I有50%個(gè)占空比產(chǎn)生的PWM。PWM基本配置：16位UDB PWM模式：兩個(gè)輸出周期：65535 CMP值1
2019-08-14 04:51:54
包裹并送貨的機(jī)器人；還有一些其它功能的機(jī)器人，比如醫(yī)院內(nèi)協(xié)助手術(shù)、打掃辦公室和工廠、以及農(nóng)業(yè)采摘。專業(yè)服務(wù)機(jī)器人銷量的最大制約因素是價(jià)格。比如，醫(yī)療機(jī)器人系統(tǒng)非常昂貴，因此大部分由醫(yī)院租賃使用而不是購(gòu)買。我們
預(yù)計(jì)，從現(xiàn)在到
2022年期間，專業(yè)服務(wù)機(jī)器人的年均復(fù)合增長(zhǎng)率將會(huì)
達(dá)到32%?！?/div>
2016-12-28 16:14:56
cmp模塊有個(gè)窗口模式，在這個(gè)模式下，有個(gè)Window/SAMPLE信號(hào)來控制，我怎么在手冊(cè)沒有找到這個(gè)信號(hào)時(shí)如何設(shè)置的？
2014-12-31 14:57:25
、CMP、ICP 干蝕刻、亞表面損傷、等離子體誘導(dǎo)損傷 直接比較了 GaN 襯底的表面處理方法，即使用膠體二氧化硅漿料的化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP) 和使用 SiCl4 氣體的電感耦合等離子體 (ICP) 干
2021-07-07 10:26:01
挑戰(zhàn)性。在這項(xiàng)研究中，我們研究了 BCB 的化學(xué)機(jī)械平坦化 (CMP)，以便在這種平坦化的表面上制作超薄粘合層。采用實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的方法來研究不同的漿料成分、拋光墊和工藝參數(shù)對(duì) BCB 平面化的影響。使用這種
2021-07-08 13:14:11
的好壞，直接影響到后續(xù)鋰離子電池生產(chǎn)的質(zhì)量及其產(chǎn)品的性能。在傳統(tǒng)工藝上再進(jìn)行超細(xì)分散，這是因?yàn)椋和ㄟ^傳統(tǒng)混合與攪拌設(shè)備，只能夠?qū)⑷芤?b class="flag-6" style="color: red">中的大粉團(tuán)打散，并均勻分布；但是，粉體形態(tài)是以微細(xì)粉團(tuán)形態(tài)存于溶液之中
2018-12-13 13:38:20
影響》，2017年國(guó)內(nèi)動(dòng)力電池?cái)U(kuò)產(chǎn)潮仍將持續(xù)；電池材料方面，2016年全國(guó)鋰電池正極材料產(chǎn)量16.16萬噸，同比增長(zhǎng)43%。主要是受動(dòng)力電池帶動(dòng)，2016年國(guó)內(nèi)動(dòng)力電池產(chǎn)量同比增長(zhǎng)超過60%。磷酸鐵鋰產(chǎn)量5.7
2017-02-21 16:21:09
能源化工利安德巴賽爾啟動(dòng)年產(chǎn)能40萬噸的韓國(guó)合資企業(yè)。利安德巴賽爾(LyondellBasell)宣布成功啟動(dòng)Ulsan PP Co., Ltd.的年產(chǎn)能40萬噸的聚丙烯生產(chǎn)設(shè)施。該設(shè)施位...
2021-07-12 07:39:24
平面化 , 為此必須發(fā)展新的全局平面化技術(shù)。
90 年 代 興 起 的 新 型 化 學(xué) 機(jī) 械 拋 光 ( ChemicalMechanical Polishing , 簡(jiǎn)稱 CMP) 技術(shù)則從加工
2023-09-19 07:23:03
模電基礎(chǔ)理論知識(shí)分享為題的短視頻，首篇播放量就破了十萬?！鞍祖蔚碾娐分R(shí)”也活躍在各大平臺(tái)中，目前全網(wǎng)粉絲已突破40萬。 此外，華秋商城在2022年還積極聯(lián)合國(guó)民技術(shù)、先積集成、航順芯片等眾多原廠大咖
2023-01-06 11:18:30
一、總體目標(biāo)：到2012年， PCB行業(yè)減少水資源消耗4130萬立方米；實(shí)現(xiàn)含重金屬?gòu)U液減排21.78萬立方米；減少含重金屬固廢14.46 萬噸；減少氨氮排放 4.05 萬噸；回收銅等重金屬約1.2萬噸。二、應(yīng)用示范技術(shù)三、推廣技術(shù)點(diǎn)擊下載
2019-04-09 12:13:03
競(jìng)爭(zhēng)和過度競(jìng)爭(zhēng)的嚴(yán)重后果。而有消息稱，在過去幾個(gè)月里，國(guó)內(nèi)已有50多家太陽(yáng)能企業(yè)倒下，1/3的企業(yè)處于半停產(chǎn)狀態(tài)。以多晶硅為例，截至2011年年底，我國(guó)已建多晶硅生產(chǎn)線的總產(chǎn)能達(dá)到14.8萬噸，預(yù)計(jì)到
2012-07-19 15:00:53
投產(chǎn)，第4季產(chǎn)能全開，產(chǎn)品規(guī)劃為濕式制程SMD Multilayer及部分原在大陸東莞廠生產(chǎn)的精密繞線電感產(chǎn)品，預(yù)計(jì)增加20%產(chǎn)能，2017年占整體營(yíng)收將達(dá)25~30%，整體建置與設(shè)備所需費(fèi)用約新臺(tái)幣7
2016-10-08 11:51:11
想用EVA發(fā)出四路獨(dú)立的SPWM波，PWM，1PWM3，PWM5已經(jīng)有波形，Debug時(shí)T1CMPR也能觀察到寄存器值變化，但是就是輸出引腳T1CMP沒有波形，求大神幫解決??！萬分感激??！
2017-05-09 09:41:05
電池漿料固含量測(cè)試儀、電池漿料含固率測(cè)定儀用于測(cè)量鋰電池、鉛酸電池、三元鋰電池中電池漿料固含量百分比。即測(cè)量電池漿料各組成成分中，活物質(zhì)、導(dǎo)電劑、粘結(jié)劑等固體物質(zhì)在漿料整體中所占比例，以百分比
2021-10-28 11:19:19
基本實(shí)現(xiàn)了軟著陸，通脹也基本到頂。預(yù)計(jì)下半年經(jīng)濟(jì)會(huì)逐步向好，這也會(huì)提高有色金屬的需求。”宗良說。而與此同時(shí)，國(guó)內(nèi)銅供應(yīng)缺口擴(kuò)大。國(guó)際銅業(yè)研究組織ICSG4月份預(yù)計(jì)2011年全球銅市將面臨著37.7萬噸
2011-07-19 10:02:11
制造者，每年產(chǎn)生大約300萬噸電子垃圾。緊隨其后的是中國(guó)，中國(guó)每年產(chǎn)生約230萬噸電子垃圾，也是眾多發(fā)達(dá)國(guó)家電子垃圾的接收地?！ ÷?lián)合國(guó)環(huán)境規(guī)劃署執(zhí)行主任Achim Steiner說，這份報(bào)告再一次顯示了
2010-12-15 10:45:19
“HS or LS compare”描述的是STOP1嗎？LS/HS 是電源模式選擇。“LS or HS compare”是指CMP在STOP1是FF？
2023-02-28 08:13:29
，對(duì)后段涂布工序有較大影響。同種工藝與配方，漿料固含量越高，粘度越大，反之亦然。影響漿料粘度的因素:攪拌漿料的轉(zhuǎn)速、時(shí)間控制、配料順序、環(huán)境溫濕度等。正極漿料在暴露在空氣中易吸收空氣中的水分，粘結(jié)劑出現(xiàn)凝聚
2018-03-26 17:14:52
據(jù)媒體報(bào)道，到2020年我國(guó)動(dòng)力電池累計(jì)退役量約20萬噸，其中大量流入小作坊等非正規(guī)渠道，帶來安全和環(huán)境隱患。如何避免新能源汽車“爆發(fā)式增長(zhǎng)”帶來“爆發(fā)式污染”，值得警惕。專家指出，在新能源汽車
2021-04-13 14:39:26
CMP指令應(yīng)用脈沖定位控制程序
2009-07-04 08:17:30
32 The CMP401 and CMP402 are 23 ns and 65 ns quad comparatorswith separate input and output supplies.
2009-08-24 17:58:2412 CMP401和CMP402分別為23 ns和65 ns四通道比較器，采用獨(dú)立的輸入和輸出電源。獨(dú)立電源使輸入級(jí)可以采用+3 V至±6 V電源供電。輸出可以采用+3 V或+5 V電源供電，具體取決于
2023-06-28 17:19:58
CMP401 和CMP402分別為23 ns和65 ns四通道比較器，采用獨(dú)立的輸入和輸出電源。獨(dú)立電源使輸入級(jí)可以采用+3 V至±6 V電源供電。輸出可以采用3 V或5 V電源供電，具體取決于接口
2023-06-28 17:22:15
CMP是處理器體系結(jié)構(gòu)發(fā)展的一個(gè)重要方向，其中Cache一致性問題的驗(yàn)證是CMP設(shè)計(jì)中的一項(xiàng)重要課題?；贛ESI一致性協(xié)議，本文建立了CMP的Cache一致性協(xié)議的驗(yàn)證模型，總結(jié)了三種驗(yàn)證
2010-07-20 14:18:2738 綜述了半導(dǎo)體材料SiC拋光技術(shù)的發(fā)展,介紹了SiC單晶片CMP技術(shù)的研究現(xiàn)狀, 分析了CMP的原理和工藝參數(shù)對(duì)拋光的影響,指出了SiC單晶片CMP急待解決的技術(shù)和理論問題,并對(duì)其發(fā)展方
2010-10-21 15:51:210 鋰電池正極漿料主要成分有哪些？
鈷酸鋰，PVDF，乙炔黑，NMP；
2009-10-22 17:14:171671 鋰電池負(fù)極漿料主要成分有哪些？
石墨，SBR，CMC，工業(yè)純凈水。
2009-10-22 17:16:065419 中國(guó)半導(dǎo)體CMP市場(chǎng)發(fā)展空間大
中國(guó)自2007年以來一直是最大的半導(dǎo)體消費(fèi)國(guó)，但半導(dǎo)體產(chǎn)量卻不足國(guó)內(nèi)消耗量的10%。未來幾年，中國(guó)預(yù)計(jì)將投資數(shù)十
2010-03-18 08:57:181501 意法半導(dǎo)體（ST）、Soitec與CMP（Circuits Multi Projets）攜手宣佈，大專院校、研究實(shí)驗(yàn)室和設(shè)計(jì)公司將可透過CMP的硅中介服務(wù)採(cǎi)用意法半導(dǎo)體的CMOS 28奈米FD-SOI （Fully Depleted Silicon-on-Insulator，
2012-10-25 09:42:501201 K60(Rev6-Ch35-CMP)(中文)
2016-01-07 16:31:520 CMP設(shè)備市場(chǎng)及技術(shù)現(xiàn)狀
2017-09-15 08:48:1742 一、固含量與粘度對(duì)漿料穩(wěn)定性的影響 固含量和漿料粘度是合漿過程中的一個(gè)重要指標(biāo)，對(duì)后段涂布工序有較大影響。同種工藝與配方，漿料固含量越高，粘度越大，反之亦然。 影響漿料粘度的因素：攪拌漿料的轉(zhuǎn)速
2017-09-25 17:47:5110 6.11 CMP比較指令 1．指令的編碼格式 CMP（Compare）比較指令使用寄存器Rn的值減去operand2的值，根據(jù)操作的結(jié)果更新CPSR中相應(yīng)的條件標(biāo)志位，以便后面的指令根據(jù)相應(yīng)的條件
2017-10-18 13:38:532 氮化鋁導(dǎo)體漿料
2018-05-16 14:55:062 在正、負(fù)極漿料中,顆粒狀活性物質(zhì)的分散性和均勻性直接響到鋰離子在電池兩極間的運(yùn)動(dòng),因此在鋰離子電池生產(chǎn)中各極片材料的漿料的混合分散至關(guān)重要,漿料分散質(zhì)量的好壞,直接影響到后續(xù)鋰離子電池生產(chǎn)的質(zhì)量及其產(chǎn)品的性能。
2018-07-25 17:02:5812420 聊聊MSP和CMP的前世今生 伴隨著云的普及，云的生態(tài)角色變得越來越細(xì)分，比如MSP和CMP，受到了越來越多企業(yè)客戶的青睞，玩家也不斷增加，越來越多的公司致力于在這些領(lǐng)域創(chuàng)新發(fā)展。 在接觸客戶
2018-12-30 20:45:011131 電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供ADI(ADI)CMP04相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)、數(shù)據(jù)手冊(cè)，更有CMP04的引腳圖、接線圖、封裝手冊(cè)、中文資料、英文資料，CMP04真值表，CMP04管腳等資料，希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2019-04-18 22:25:09
電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供ADI(ADI)CMP402相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)、數(shù)據(jù)手冊(cè)，更有CMP402的引腳圖、接線圖、封裝手冊(cè)、中文資料、英文資料，CMP402真值表，CMP402管腳等資料，希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2019-04-18 22:25:09
電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供ADI(ADI)CMP401相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)、數(shù)據(jù)手冊(cè)，更有CMP401的引腳圖、接線圖、封裝手冊(cè)、中文資料、英文資料，CMP401真值表，CMP401管腳等資料，希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2019-04-18 22:25:09
敏樹脂的稀釋性和分散劑對(duì)納米粉體在樹脂體系中的分散性能優(yōu)化了光固化陶瓷漿料的配方。得到了固含量40%以上滿足工藝要求的陶瓷漿料，成功的采用該漿料進(jìn)行打印并燒結(jié)。
2020-05-18 17:31:306 化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是化學(xué)腐蝕與機(jī)械磨削相結(jié)合的一種拋光方法，是集成電路制造過程中實(shí)現(xiàn)晶圓表面平坦化的關(guān)鍵工藝。從CMP材料的細(xì)分市場(chǎng)來看，拋光液和拋光墊的市場(chǎng)規(guī)模占比最大。從全球企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局來看
2020-09-04 14:08:074875 
摘要 GGII預(yù)計(jì)，在未來幾年，中國(guó)新型導(dǎo)電劑，特別是碳納米管導(dǎo)電劑將逐步代替?zhèn)鹘y(tǒng)導(dǎo)電劑，到2020年碳納米管導(dǎo)電漿料市場(chǎng)規(guī)模將突破7萬噸。 目前國(guó)內(nèi)導(dǎo)電劑材料主要包括導(dǎo)電炭黑、導(dǎo)電石墨、碳納米管
2020-09-22 11:06:372163 
GGII預(yù)計(jì)，在未來幾年，中國(guó)新型導(dǎo)電劑，特別是碳納米管導(dǎo)電劑將逐步代替?zhèn)鹘y(tǒng)導(dǎo)電劑，到2020年碳納米管導(dǎo)電漿料市場(chǎng)規(guī)模將突破7萬噸。
2020-10-13 16:44:133875 高工產(chǎn)研鋰電研究所（GGII）數(shù)據(jù)顯示，2019年國(guó)內(nèi)碳納米管導(dǎo)電漿料出貨量約3.58萬噸（以4%固含量折算），同比增長(zhǎng)10%。GGII預(yù)計(jì)，2020年碳納米管導(dǎo)電漿料市場(chǎng)規(guī)模將突破7萬噸。
2020-11-01 09:56:533355 風(fēng)華CMP系列大電流貼片電感規(guī)格書
2020-12-25 09:10:4015 日前，英偉達(dá)宣布將 RTX 3060 的挖礦效率減半，同時(shí)推出 CMP 礦卡，從而讓玩家更容易買到這款顯卡。然而事實(shí)證明，RTX 3060 仍然做到了開售即售罄。 現(xiàn)在，外媒 VideoCardz
2021-02-28 11:30:084970 CMP401/CMP402：23 ns和65 ns低壓比較器數(shù)據(jù)表
2021-04-23 10:36:390 CMP04：四路低功耗精密比較器數(shù)據(jù)表
2021-05-08 18:23:5511 CMP-01：快速精密比較器過時(shí)數(shù)據(jù)表
2021-05-14 11:26:402 CMP01：FAST Precision比較器過時(shí)數(shù)據(jù)表
2021-05-26 17:08:472 電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供TE(ti)CAT-CMP-10TMKII相關(guān)產(chǎn)品參數(shù)、數(shù)據(jù)手冊(cè)，更有CAT-CMP-10TMKII的引腳圖、接線圖、封裝手冊(cè)、中文資料、英文資料，CAT-CMP-10TMKII真值表，CAT-CMP-10TMKII管腳等資料，希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2021-07-08 21:00:04
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2021-07-08 21:00:04
工廠里黑色的電池漿料通常需要先測(cè)其固含量，衡量市面上電池漿料產(chǎn)品品質(zhì)的一個(gè)首要標(biāo)準(zhǔn)是電池漿料中的固含量多少。以往是用傳統(tǒng)的烘箱法來烘。但這種方法現(xiàn)在比較落后，而且用時(shí)非常久。如今利用電池漿料固含量
2021-10-14 11:25:563085 隨著先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的尺度微縮和3D IC的縱向延伸，CMP拋光的工藝創(chuàng)新需要在納米尺度材料界面有不斷的認(rèn)知和探索。
2021-11-08 11:36:241126 
PSW又叫標(biāo)志寄存器FR各標(biāo)志位如下：條件跳轉(zhuǎn)指令如je、jg、bgt等，都是通過cmp比大小實(shí)現(xiàn)的cmp op1 op2無符號(hào)數(shù)cmp用到ZF和CF①當(dāng)ZF=1，說明op1=op2②當(dāng)ZF
2021-11-30 15:21:104 晶圓-機(jī)械聚晶(CMP)過程中產(chǎn)生的漿體顆粒對(duì)硅晶片表面的污染對(duì)設(shè)備工藝中收率（Yield）的下降有著極大的影響。
2022-03-14 10:50:141077 
之一的CMP后的晶圓清洗工序，通過可視化實(shí)驗(yàn)，從流體工程學(xué)的觀點(diǎn)出發(fā)，闡明其機(jī)理，以構(gòu)筑能夠在各種條件下提出最佳清洗方法的現(xiàn)象的模型化為目的。因此，我們進(jìn)行了可視化實(shí)驗(yàn)、流動(dòng)特性、剪切流動(dòng)特性、液體置換特性、液滴的蒸發(fā)除去特性等基礎(chǔ)研究。
2022-04-18 16:34:342912 
本文介紹了在APT32F172中使用CMP的應(yīng)用范例，基于 APT32F172 完整的庫(kù)文件系統(tǒng)，可以很方便的對(duì) CMP 進(jìn)行配置。 注意事項(xiàng)
2022-06-02 15:13:250 ./oschina_soft/nvim-cmp.zip
2022-05-23 09:29:211 寄存器CMP_CTRLSTS的CMPBLANKING[2：0]位用于選擇比較器消隱窗口的來源，該功能可以用于防止電流調(diào)節(jié)在PWM起始時(shí)刻產(chǎn)生的尖峰電流。
2022-09-30 11:37:182943 電池漿料是整個(gè)電池極片制備過程中的最關(guān)鍵的因素。電池漿料是由活性物質(zhì)、粘結(jié)劑、導(dǎo)電劑通過攪拌均勻分散于溶劑中形成，屬于典型的高粘稠的固液兩相懸浮體系。對(duì)電池漿料有以下要求：
2022-11-24 10:47:151276 薄膜開關(guān)的導(dǎo)電漿料由導(dǎo)電載體、膠粘劑、溶劑、助劑四部分組成
2023-03-29 17:12:13488 
在鋰離子電池生產(chǎn)制造中，將液體介質(zhì)與正負(fù)極活性材料、導(dǎo)電劑 、粘結(jié)劑混合均勻，得到電池漿料，然后涂布在集流體上，利用干燥烘烤等除去溶劑(水或NMP)，毫無疑問作為鋰電池生產(chǎn)的第一道工序，勻漿配料
2023-06-25 17:05:23306 
在前道加工領(lǐng)域：CMP 主要負(fù)責(zé)對(duì)晶圓表面實(shí)現(xiàn)平坦化。晶圓制造前道加工環(huán)節(jié)主要包括7個(gè)相互獨(dú)立的工藝流程：光刻、刻蝕、薄膜生長(zhǎng)、擴(kuò)散、離子注入、化學(xué)機(jī)械拋光、金屬化 CMP 則主要用于銜接不同薄膜工藝，其中根據(jù)工藝段來分可以分為前段制程（FEOL）和后段制程（BEOL）
2023-07-10 15:14:333572 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/劉靜）近日，北京晶亦精微科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱：晶亦精微）科創(chuàng)板IPO獲上交所受理，保薦機(jī)構(gòu)為中信證券。 晶亦精微成立于2019年，前身為四十五所CMP事業(yè)部，四十五
2023-07-11 17:25:01626 
CMP 主要負(fù)責(zé)對(duì)晶圓表面實(shí)現(xiàn)平坦化。晶圓制造前道加工環(huán)節(jié)主要包括7個(gè)相互獨(dú)立的工藝流程：光刻、刻蝕、薄膜生長(zhǎng)、擴(kuò)散、離子注入、化學(xué)機(jī)械拋光、金屬化 CMP 則主要用于銜接不同薄膜工藝，其中根據(jù)工藝
2023-07-18 11:48:183035 
化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是晶圓制造的關(guān)鍵步驟，其作用在于減少晶圓表面的不平整，而拋光液、拋光墊是CMP技術(shù)的關(guān)鍵耗材，價(jià)值量較高，分別占CMP耗材49%和33%的價(jià)值量，其品質(zhì)直接影響著拋光效果，因而
2023-08-02 10:59:473417 
近日，為填補(bǔ)國(guó)內(nèi)集成電路市場(chǎng)上產(chǎn)業(yè)化CMP建模工具的空白，滿足芯片設(shè)計(jì)公司和晶圓制造廠的需求，廣立微正式推出CMP EXPLORER（簡(jiǎn)稱“CMPEXP”）工具，保障芯片的可制造性和成品率，解決行業(yè)的痛點(diǎn)。
2023-08-28 15:13:34790 
得益于半導(dǎo)體業(yè)界的繁榮，世界cmp拋光液市場(chǎng)正在經(jīng)歷明顯的增長(zhǎng)。cmp拋光液是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵成分，在實(shí)現(xiàn)集成電路制造的精度和效率方面發(fā)揮了關(guān)鍵作用。隨著技術(shù)的發(fā)展，半導(dǎo)體的格局不斷重新形成，對(duì)cmp拋光液的需求從來沒有這么高過。
2023-09-14 10:28:36665 如何使用AT32F415比較器(CMP)？
2023-11-01 17:17:16318 
芯旺微KF8F系列單片機(jī)KF8F3132開發(fā)板應(yīng)用筆記之CMP2
2022-10-19 16:21:370 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)系列-CMP
2023-01-13 09:06:532 CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化學(xué)機(jī)械拋光”，是為了克服化學(xué)拋光和機(jī)械拋光的缺點(diǎn)
2023-12-05 09:35:19417 
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