制造集成電路的大多數(shù)工藝區(qū)域要求100級(jí)（空氣中每立方米內(nèi)直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數(shù)不超過約3500）潔凈室，在光刻區(qū)域，潔凈室要求10級(jí)或更高。
2024-03-20 12:36:00
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與正光刻膠相比，電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案?；诰酆衔锏呢?fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:50193 
使用國產(chǎn)貼片電感替代國外品牌有哪些優(yōu)勢(shì) 編輯：谷景電子 不同品牌電感的兼容替代一直都是比較受關(guān)注的一個(gè)話題，特別是最近幾年在很多行業(yè)使用國產(chǎn)電感替代國外品牌電感，更是體現(xiàn)了需求之大。不久前
2024-03-08 15:51:1072 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會(huì)引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
PCM1750U-DUAL CMOS 18 BIT這款數(shù)模轉(zhuǎn)換芯片有國產(chǎn)替代嗎？國產(chǎn)替代是否會(huì)涉及專利權(quán)或者知識(shí)產(chǎn)權(quán)問題？
2024-03-05 18:46:33
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 光刻膠不能太厚或太薄，需要按制程需求來定。比如對(duì)于需要長時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景，較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:16131 
電子束光刻（e-beam lithography，EBL）是無掩膜光刻的一種，它利用波長極短的聚焦電子直接作用于對(duì)電子敏感的光刻膠（抗蝕劑）表面繪制形成與設(shè)計(jì)圖形相符的微納結(jié)構(gòu)。
2024-03-04 10:19:28206 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2024-02-29 10:04:4385 
MABA-007159-000000的PINTOPIN國產(chǎn)替代 CH-BMA-7159-MA PDF資料
2024-02-27 10:58:49
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2024-02-27 09:51:53106 
國產(chǎn)深海萬米六維力傳感器引領(lǐng)卡脖子技術(shù)革新
2024-02-20 16:09:00193 據(jù)吳中發(fā)布的最新消息，簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目，該項(xiàng)投資高達(dá)15億元，旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43207 本文將深入分析國產(chǎn)數(shù)字隔離器實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代的關(guān)鍵點(diǎn)，探討其在技術(shù)、經(jīng)濟(jì)和市場(chǎng)等方面的優(yōu)勢(shì)，為推動(dòng)國產(chǎn)數(shù)字隔離器更好地替代進(jìn)口產(chǎn)品提供深入思考。
2024-01-19 16:40:02170 
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導(dǎo)體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導(dǎo)體
2024-01-19 08:31:24340 
對(duì)于工業(yè)軟件，多數(shù)人一直忽略了一個(gè)核心問題：我們真的需要做出大鱷們一樣厲害的軟件么？我們經(jīng)常講對(duì)標(biāo)，到底應(yīng)該對(duì)什么標(biāo)？現(xiàn)在每天講突破“卡脖子”困局，講國產(chǎn)替代，于是，就想當(dāng)然地對(duì)標(biāo)國際先進(jìn)軟件。
2024-01-14 09:29:56431 
光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21346 
在當(dāng)今全球化的背景下，國產(chǎn)化替代正逐漸成為國家發(fā)展的重要戰(zhàn)略。在技術(shù)領(lǐng)域中，國產(chǎn)化替代的核心任務(wù)之一是推動(dòng)國產(chǎn)工控主板的發(fā)展和替代進(jìn)口產(chǎn)品。本文將探討國產(chǎn)化替代的重要意義，并分析國產(chǎn)工控主板國產(chǎn)
2024-01-02 15:33:12204 所謂的“光刻膠”，即是在紫外線、電子束等輻射下，其溶解度會(huì)產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素，廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細(xì)圖案制作中。其品種繁多，此次漲價(jià)涉及的KrF 光刻膠則屬高級(jí)別光刻膠，將成為各廠商關(guān)注的焦點(diǎn)。
2023-12-28 11:14:34379 光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度，ASML認(rèn)為其物理極限在0.25，k?體現(xiàn)了各家晶圓廠運(yùn)用光刻技術(shù)的水平。
2023-12-18 10:53:05326 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-12-16 10:22:06179 
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關(guān)重要的參數(shù)，那么我們?cè)趧蚰z時(shí)，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質(zhì)？
2023-12-15 09:35:56442 
光刻膠類別的多樣化，此次漲價(jià)案所涉KrF光刻膠屬于高階防護(hù)用品，也是未來各地廠家的競爭焦點(diǎn)。當(dāng)前市場(chǎng)中，光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)及東進(jìn)半導(dǎo)體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36408 近期，萬潤股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露，其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營。該項(xiàng)目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58328 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
我國作為人口大國，人均醫(yī)療資源相較于發(fā)達(dá)國家仍有不足，醫(yī)療健康產(chǎn)業(yè)還有很大提升空間。卡脖子的現(xiàn)象在醫(yī)療器械中十分明顯，這也是醫(yī)療產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)需要解決的?！?b class="flag-6" style="color: red">國產(chǎn)化”便是有效的解決方案。
2023-12-01 09:45:10269 
據(jù)報(bào)道，韓國SK集團(tuán)于2020年斥資400億韓元收購當(dāng)?shù)劐\湖石化的電子材料業(yè)務(wù)，收購后成立的新子公司SK Materials Performance（SKMP）已開發(fā)出一種高厚度KrF光刻膠，并通過了SK海力士的性能驗(yàn)證，這將有利于SK海力士3D NAND閃存的技術(shù)開發(fā)。
2023-11-29 17:01:56433 KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:50283 
據(jù)悉，skmp開發(fā)的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米，與東進(jìn)半導(dǎo)體（DONGJIN SEMICHEM）向三星提供的產(chǎn)品相似。日本jsr公司的類似產(chǎn)品厚度只有10微米。
2023-11-29 10:02:52258 為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如，2019年，某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導(dǎo)致上萬片12吋晶圓報(bào)廢
2023-11-27 17:15:48550 國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-11-24 10:18:47175 
20日，西隴科學(xué)（株）發(fā)布公告稱，該公司沒有生產(chǎn)銷售礦產(chǎn)品。公司生產(chǎn)及銷售用于清洗劑、顯影液、剝離液等的光刻膠，占公司營業(yè)收入的比例，是目前用于上述用途的光刻膠配套。
2023-11-21 14:54:57315 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11570 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-11-10 09:52:59317 
EUV 超薄 （≤10nm）尺度的光刻膠：隨著特征尺寸的縮小，光刻膠分子成分成為特征尺寸的一部分。構(gòu)成光刻膠的分子必須是單組分、小的構(gòu)建塊，以防止聚集和分離。新的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)將需要超薄光刻膠和底層組合。
2023-11-06 11:23:15402 
股，募集資金人民幣850,000,002.24元，用于瑞紅蘇州先進(jìn)制程工藝半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑業(yè)務(wù)的研發(fā)、采購、生產(chǎn)和銷售及相關(guān)投資。
2023-11-02 10:59:26555 生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（光增感劑、光致產(chǎn)酸劑幫助其更好發(fā)揮作用）、樹脂、溶劑和其他添加劑等，我國由于資金和技術(shù)的差距，如感光劑、樹脂等被外企壟斷，所以光刻膠自給能力不足。
2023-11-01 15:51:48138 
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24359 
金屬圖案的剝離方法已廣泛應(yīng)用于各種電子器件的制造過程中，如半導(dǎo)體封裝、MEMS和LED的制造。與傳統(tǒng)的金屬刻蝕方法不同的是，采用剝離法的優(yōu)點(diǎn)是節(jié)省成本和工藝簡化。在剝離過程中，經(jīng)過涂層、曝光和開發(fā)過程后，光刻膠會(huì)在晶片上形成圖案。
2023-10-25 10:40:05185 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-10-25 10:15:48740 
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
客戶做小功率電源，目前有一款副邊反激控制器型號(hào) 5L0380R目前價(jià)格處于高位，客戶為了降本增效考慮國產(chǎn)替代，具體參數(shù)詳見附件，望各位大神不另賜教！
*附件：ON-KA5L0380R.pdf
2023-10-23 17:21:16
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-10-13 10:17:07425 
黃光的波長遠(yuǎn)離UV范圍，因此不會(huì)引起光刻膠的意外曝光。黃光燈通常不含有紫外線，從而保護(hù)光敏材料免受不必要的曝光。
2023-10-11 15:14:33746 為解決國產(chǎn)化存儲(chǔ)的"卡脖子"問題，滿足數(shù)據(jù)存儲(chǔ)自主可控的核心需求，龍芯中科技術(shù)股份有限公司聯(lián)合百代（上海）數(shù)據(jù)技術(shù)有限公司（以下簡稱“百代存儲(chǔ)”）打造基于龍架構(gòu)的新一代國產(chǎn)統(tǒng)一存儲(chǔ)解決方案。
2023-10-09 14:49:36423 光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。
2023-10-09 14:34:491674 
MCU國產(chǎn)替代選型合集來了，干貨不容錯(cuò)過！
2023-09-19 18:01:521836 
EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時(shí)會(huì)發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349 
華為 Mate 60 Pro 的發(fā)售引起了人們對(duì)其搭載處理器的關(guān)注，而根據(jù)專業(yè)人士對(duì)新款手機(jī)的拆解結(jié)果顯示，該手機(jī)搭載了麒麟9000s處理器，這個(gè)“新型”處理器是否意味著華為芯片“卡脖子”的問題得到解決呢？
2023-09-06 14:44:031695 “卡脖子”的問題已經(jīng)得到突破？ 北京郵電大學(xué)教授、中國信息經(jīng)濟(jì)學(xué)會(huì)常務(wù)副理事長呂廷杰表示從目前國內(nèi)外各個(gè)機(jī)構(gòu)對(duì)華為新手機(jī)的拆解來看，它的麒麟9000s芯片，包括其它10000多種部件，應(yīng)該說基本實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)化。如果真的全部實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化
2023-09-06 10:12:481664 規(guī)?；?、國產(chǎn)化替代。并且依托深圳這樣一個(gè)外向型經(jīng)濟(jì)的全國橋頭堡，實(shí)現(xiàn)了自主導(dǎo)航定位芯片的出口，真正推動(dòng)了我們自主的北斗走向全球，踐行了“中國的北斗，世界的北斗”的國家發(fā)展目標(biāo)。
02 小型化和低功耗
2023-09-04 14:43:44
仿真領(lǐng)域的成績。 積鼎科技受邀,基于“積鼎自研CFD軟件的成果和應(yīng)用”作特邀報(bào)告?！胺e鼎專注于打造好用、易用的國產(chǎn)流體仿真軟件,著重解決2個(gè)突出問題,一是,國內(nèi)流體仿真技術(shù)卡脖子問題;其次是,軟件的正版化問題。積鼎經(jīng)過10多年的沉淀,對(duì)標(biāo)國外壟斷
2023-09-01 15:32:30402 
在芯片原子鐘領(lǐng)域打破國外壟斷，突破關(guān)鍵器件“卡脖子”問題，滿足國內(nèi)該技術(shù)產(chǎn)品在相關(guān)領(lǐng)域的迫切需求。 芯片原子鐘屬于電子信息技術(shù)中時(shí)間頻率技術(shù)領(lǐng)域的核心基礎(chǔ)器件，是使用微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）技術(shù)制造的緊湊型低功耗原子鐘
2023-08-23 21:08:55520 
湖州國資消息，寧波微芯新材料科技有限公司的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)基地項(xiàng)目總投資3.5億元人民幣，用地35畝，年產(chǎn)1000噸的電子級(jí)光刻膠原材料（光刻膠樹脂、高等級(jí)單體等核心材料）基地建設(shè)?！比窟_(dá)到，預(yù)計(jì)年產(chǎn)值可達(dá)到約5億元。
2023-08-21 11:18:26942 會(huì)上，經(jīng)開區(qū)分別同4家企業(yè)就功率器件IC封測(cè)項(xiàng)目、超級(jí)功率電池及鋰電池PACK產(chǎn)線項(xiàng)目、氫能產(chǎn)業(yè)集群項(xiàng)目、高性能電池項(xiàng)目進(jìn)項(xiàng)現(xiàn)場(chǎng)簽約。會(huì)議還舉行了《2023勢(shì)銀光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍(lán)皮書》發(fā)布儀式。
2023-08-16 15:30:38483 英偉達(dá)a100有國產(chǎn)替代嗎？ 目前尚未出現(xiàn)明確可替代英偉達(dá)A100的國產(chǎn)產(chǎn)品，但中國國內(nèi)的企業(yè)正在積極推進(jìn)相關(guān)領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn)。例如，中國科技巨頭華為正在開發(fā)自主研發(fā)的AI芯片，其已發(fā)布的昇騰910
2023-08-08 15:37:123468 光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。簡單地說，光刻類似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護(hù)下對(duì)硅片進(jìn)行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531480 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-08-07 11:45:21700 
高新技術(shù)企業(yè)也一直在追求技術(shù)創(chuàng)新和突破。 現(xiàn)如今，我國的軍工業(yè)迅速崛起，涌現(xiàn)了一批優(yōu)秀的國產(chǎn)品牌，破解了國外“卡脖子”的難題。 就拿騰方中科自主研發(fā)的斷連塊來講，一種信號(hào)通斷利器，此前一直被美國史陶比爾和瑞士壟
2023-08-02 17:12:34474 
7月28日下午，深圳工信局最新發(fā)文，推出3年行動(dòng)計(jì)劃，引導(dǎo)、推動(dòng)開源鴻蒙、歐拉產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 操作系統(tǒng)是我國關(guān)鍵“卡脖子”技術(shù)之一，但推動(dòng)國產(chǎn)系統(tǒng)鴻蒙歐拉的崛起，據(jù)相關(guān)分析，不止是為了手機(jī)
2023-08-01 08:45:44508 
近日，備受矚目的2023國產(chǎn)化替代品大賽圓滿落幕。御芯微以自主研發(fā)產(chǎn)品測(cè)溫傳感通信一體化芯片UC8288和模組UCM200系列斬獲“國產(chǎn)化替代產(chǎn)品先鋒獎(jiǎng)”。這是對(duì)御芯微不懈努力和持續(xù)創(chuàng)新的肯定，也是
2023-07-31 23:04:06442 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-07-22 10:30:38410 
但現(xiàn)在的客觀情況是國家算力供給面臨著嚴(yán)重的“卡脖子”問題，即美國限制高算力芯片對(duì)華出口，而且可能進(jìn)一步收緊出口限制。歸根結(jié)底其動(dòng)機(jī)要限制中國得高算力芯片、數(shù)字經(jīng)濟(jì)和人工智能等方面的發(fā)展。
2023-07-17 16:38:57502 芯視界 來源：全球半導(dǎo)體觀察 7月12日，教育部部長懷進(jìn)鵬在全國高?？萍紕?chuàng)新暨優(yōu)秀科研成果獎(jiǎng)表彰大會(huì)上表示，將針對(duì)核心技術(shù)“卡脖子”問題，加強(qiáng)組織科研攻關(guān)。 懷進(jìn)鵬指出，教育部將圍繞集成電路、工業(yè)母機(jī)、儀器儀表、生物醫(yī)
2023-07-17 13:06:20434 近年來，要加快科技自立自強(qiáng)步伐，解決外國“卡脖子”問題。以成為中國高科技產(chǎn)業(yè)重要問題。卡脖子看上去是一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)，是一個(gè)孤立問題。但實(shí)際上，卡脖子是由于系統(tǒng)性失靈所造成的，它涉及到多家供應(yīng)商
2023-07-11 08:39:01730 光刻膠（光敏膠）進(jìn)行光刻，將圖形信息轉(zhuǎn)移到基片上，從而實(shí)現(xiàn)微細(xì)結(jié)構(gòu)的制造。光刻機(jī)的工作原理是利用光學(xué)系統(tǒng)將光線聚焦到光刻膠上，通過掩膜版（也稱為光刻掩膜）上的圖形
2023-07-07 11:46:07
JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一，其產(chǎn)品是制造先進(jìn)芯片必不可少的原料。
2023-06-27 15:51:21597 國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-06-19 10:30:13734 
來源：欣奕華材料 據(jù)欣奕華材料官微消息，近日，國內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)阜陽欣奕華材料科技有限公司（以下簡稱“阜陽欣奕華”）完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據(jù)悉，本輪融資由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552 卷。 海洋監(jiān)測(cè)儀器裝備是關(guān)心海洋、認(rèn)識(shí)海洋、經(jīng)略海洋的基礎(chǔ)保障和重要前提，雖然我國海洋監(jiān)測(cè)儀器裝備技術(shù)水平與業(yè)務(wù)化應(yīng)用近年來進(jìn)步顯著，但相比海洋發(fā)達(dá)國家仍在“卡脖子”技術(shù)、關(guān)鍵設(shè)備研制方面存在一定差距。 本文從全球海洋立
2023-06-13 09:35:07336 國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-06-05 11:19:13560 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-06-05 09:26:54425 
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對(duì)準(zhǔn)、曝光、顯影和適當(dāng)?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進(jìn)行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側(cè)壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25418 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-06-02 10:28:12641 
CTD 傳感器產(chǎn)品, 短期內(nèi)又無法獲得相應(yīng)的替代儀器, 嚴(yán)重影響了產(chǎn)品應(yīng)用,“卡脖子”之痛油然而生。? 據(jù)2020年由傳感器國家工程研究中心等四個(gè)行業(yè)核心機(jī)構(gòu)，聯(lián)合發(fā)布的權(quán)威報(bào)告《中國傳感器發(fā)展藍(lán)皮書》，特別寫到中國高端傳感器的應(yīng)用市場(chǎng)幾乎被國外壟斷，
2023-06-02 08:39:22686 
國芯思辰，國產(chǎn)芯片替代
2023-05-30 10:53:48497 
來源：每日經(jīng)濟(jì)新聞，記者：程雅 編輯：張海妮，謝謝 編輯：感知芯視界 5月24日晚，國產(chǎn)光刻膠大廠彤程新材發(fā)布公告稱，于近日收到實(shí)控人Zhang Ning與Liu Dong Sheng的通知，二人
2023-05-29 09:33:44187 感光速度:即光刻膠受光照射發(fā)生溶解速度改變所需的最小能量，感光速度越快，單位時(shí)間內(nèi)芯片制造的產(chǎn)出越高，經(jīng)濟(jì)效益越好，另-方面，過快的感光速度會(huì)對(duì)引起工藝寬容度的減小，影響工藝制程的穩(wěn)定性。
2023-05-25 09:46:09561 
STM32系列國產(chǎn)替代GD32芯片選型手冊(cè)
2023-05-22 16:39:01
9 改善之后的工藝與之前最大的區(qū)別在于使用光刻膠充當(dāng)濺射的掩膜，在電鍍之前將電路圖形高精度的制備出來，不再進(jìn)行濕法刻蝕，避免了側(cè)腐蝕對(duì)線條精度和膜基結(jié)合力的影響，同時(shí)，基板只浸入丙酮中一次以去除光刻膠，避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218 
不僅是國內(nèi)的網(wǎng)友這么認(rèn)為，唯光刻機(jī)論在海外也很有市場(chǎng)，似乎大部分網(wǎng)友都是這樣想的，已經(jīng)到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會(huì)強(qiáng)調(diào)光刻機(jī)會(huì)卡脖子，而有了光刻機(jī)，臺(tái)積電這樣的公司就能隨便復(fù)制一樣。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:492775 
2023年中國光刻機(jī)現(xiàn)狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機(jī)被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進(jìn)的光刻機(jī)給我們，這也讓這些年來無數(shù)國人關(guān)注光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。
2023-05-10 16:24:1521220 晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護(hù)晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會(huì)在第一個(gè)轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應(yīng)該減小。
2023-04-27 16:25:00689 
根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
2023-04-25 11:11:331243 
清洗硅片（Wafer Clean）
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性
基本步驟：化學(xué)清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403858 
光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
中國動(dòng)力電池產(chǎn)業(yè)零碳化轉(zhuǎn)型，已經(jīng)刻不容緩。
2023-04-23 09:23:05661 151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
2018年，我國中央科技新聞媒體《科技日?qǐng)?bào)》發(fā)表了系列文章，報(bào)道制約我國工業(yè)發(fā)展的35項(xiàng)“卡脖子”的關(guān)鍵技術(shù)， 其中包括芯片、傳感器、光刻機(jī)、激光雷達(dá)等關(guān)鍵技術(shù) 。引起了廣泛關(guān)注與討論。 如今
2023-04-19 14:54:388817 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個(gè)新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164 此前該公司指出，公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線，具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力，目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:32920 、售后等多方面原因，傳感器市場(chǎng)出現(xiàn)被外企“卡脖子”現(xiàn)象，漲價(jià)、缺芯、無貨等狀況頻出。為此，國內(nèi)眾企業(yè)開始響應(yīng)“國產(chǎn)替代”號(hào)召，力圖打破傳感器國外壟斷。 芯森電子AN3V系列霍爾電流傳感器，就是響應(yīng)“國產(chǎn)替代”的產(chǎn)品。此產(chǎn)品可原位替代
2023-04-04 13:17:301195 
。 但由于國際形式及價(jià)格、售后等多方面原因，傳感器市場(chǎng)出現(xiàn)被外企“卡脖子”現(xiàn)象，漲價(jià)、缺芯、無貨等狀況頻出。為此，國內(nèi)眾企業(yè)開始響應(yīng)“國產(chǎn)替代”號(hào)召，力圖打破傳感器國外壟斷。 芯森電子AN1V系列霍爾電流傳感器，就是響應(yīng)“國產(chǎn)替代”的產(chǎn)品。此產(chǎn)品
2023-04-03 13:38:11571 
實(shí)現(xiàn)“自主可控”非常重要，突破歐美的卡脖子。我國在高端的半導(dǎo)體集成電路、工業(yè)軟件、高端機(jī)床裝備、電腦操作系統(tǒng)、集成電路架構(gòu)IP核、EDA軟件等高新技術(shù)領(lǐng)域的國產(chǎn)替代戰(zhàn)略，是要長期投入長期堅(jiān)持的。金航標(biāo)電子薩科微半導(dǎo)體都屬于這一輪
2023-03-25 14:32:52315 
光刻是將設(shè)計(jì)好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標(biāo)圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個(gè)核心流程：涂膠、對(duì)準(zhǔn)和曝光以及光刻膠顯影，整個(gè)過程涉及光刻機(jī)，涂膠顯影機(jī)、量測(cè)設(shè)備以及清洗設(shè)備等多種核心設(shè)備，其中價(jià)值量最大且技術(shù)壁壘最高的部分就是光刻機(jī)。
2023-03-25 09:32:394950 根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2020年全球晶圓制造材料中，硅片占比最高，為35%；電子氣體排名第2，占比13%；掩膜版排名第3，占比12%，光刻膠占比6%；光刻膠配套材料占比8% ；濕電子化學(xué)品占比7%；CMP拋光材料占比6%；靶材占比2%。
2023-03-25 09:30:544119 芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能過剩：韓國統(tǒng)計(jì)廳發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示，1月韓國芯片制造商的芯片庫存與銷售比達(dá)到265.7%，創(chuàng)下26年來的最高值。如果上游材料持續(xù)被日本卡脖子，韓國芯片產(chǎn)業(yè)的日子就更難過了。
2023-03-23 09:32:58977
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