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伯東企業(yè)（上海）有限公司

上海伯東是德國(guó)Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品,美國(guó) KRI 離子源,美國(guó)HVA 真空閥門,美國(guó) inTEST熱流儀代理商

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美國(guó) KRi 霍爾離子源,真空鍍膜離子源

型號(hào)： eH 400

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

  • 產(chǎn)地 美國(guó)
  • 類型 霍爾型
  • 品牌 KRi

--- 產(chǎn)品詳情 ---

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)
美國(guó) KRI 霍爾離子源 eH 400
上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 3.7“  高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

KRI 霍爾離子源 eH 400 特性
? 可拆卸陽(yáng)極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí), 最大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽(yáng)極
? 寬波束高放電電流 - 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng)
? 等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 400 技術(shù)參數(shù):

上海伯東美國(guó) KRi 霍爾離子源



KRI 霍爾離子源 eH 400 應(yīng)用領(lǐng)域:
? 離子輔助鍍膜 IAD
? 預(yù)清潔 Load lock preclean
? In-situ preclean
? Low-energy etching
? III-V Semiconductors
? Polymer Substrates

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源中國(guó)總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 霍爾離子源, 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東葉女士,分機(jī)107

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