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EUV光刻機(jī)

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極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。

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euv光刻機(jī)技術(shù)

1納米芯片代表什么?

據(jù)悉,下一代EUV光刻機(jī)必須要升級(jí)下一代的高NA(數(shù)值孔徑)標(biāo)準(zhǔn),從現(xiàn)在的0.33 NA提升到0.55 NA,更高的NA意味著更分辨率更高,是3nm之后...

2022-11-30 標(biāo)簽:RAMASMLEUV光刻機(jī) 3.4萬 0

EUV光刻機(jī)被已經(jīng)準(zhǔn)備好了,各大企業(yè)的爭奪戰(zhàn)開始打響

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EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示,250瓦的EUV光源也萬事俱備。公司2017年財(cái)報(bào)中也強(qiáng)調(diào),...

2018-01-23 標(biāo)簽:英特爾三星電子臺(tái)積電 8186 0

美國公司Zyvex使用電子束光刻制造出0.7nm芯片

氫去鈍化光刻(HDL)是電子束光刻(EBL)的一種形式,它通過非常簡單的儀器實(shí)現(xiàn)原子分辨率,并使用能量非常低的電子。它使用量子物理學(xué)有效地聚焦低能電子和...

2022-09-27 標(biāo)簽:光刻技術(shù)量子計(jì)算機(jī)EUV光刻機(jī) 2860 0

EUV薄膜容錯(cuò)成本高 成芯片良率的關(guān)鍵

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近20年來,EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。

2023-09-14 標(biāo)簽:單芯片cpu芯片光刻機(jī) 1057 0

如何獲得高純度的EUV光源?EUVL光源濾波系統(tǒng)的主流技術(shù)方案分析

如何獲得高純度的EUV光源?EUVL光源濾波系統(tǒng)的主流技術(shù)方案分析

目前,商用EUV光刻機(jī)采用激光等離子體型-極紫外(LPP-EUV)光源系統(tǒng),主要由驅(qū)動(dòng)激光器、液滴錫靶、收集鏡組成。

2024-02-21 標(biāo)簽:激光器濾波系統(tǒng)EUV光刻機(jī) 1024 0

半導(dǎo)體光刻工藝 光刻—半導(dǎo)體電路的繪制

半導(dǎo)體光刻工藝 光刻—半導(dǎo)體電路的繪制

金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)的革命,讓我們可以在相同面積的晶圓上同時(shí)制造出更多晶體管。

2023-07-27 標(biāo)簽:MOSFET半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管 893 0

氦質(zhì)譜檢漏儀 EUV ***檢漏

氦質(zhì)譜檢漏儀 EUV ***檢漏

上海伯東客戶日本某生產(chǎn)半導(dǎo)體用光刻機(jī)公司, 光刻機(jī)真空度需要達(dá)到 1x10-11 pa 的超高真空, 因?yàn)樵O(shè)備整體較大, 需要對(duì)構(gòu)成光刻機(jī)的真空相關(guān)部件...

2023-06-02 標(biāo)簽:EUVEUV光刻機(jī)氦質(zhì)譜檢漏儀 734 0

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euv光刻機(jī)帖子

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euv光刻機(jī)資訊

造光刻機(jī)需要哪些技術(shù)?

造光刻機(jī)需要哪些技術(shù)?

沒有任何一個(gè)國家的人比中國人更想造出頂級(jí)光刻機(jī)。網(wǎng)友甚至表示,只要造出光刻機(jī),無論一個(gè)人做錯(cuò)了什么都可以原諒。

2021-08-26 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 6.1萬 0

中國euv光刻機(jī)三大突破 光刻機(jī)的三個(gè)系統(tǒng)

如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),只有asml一家公司可以制造出來。

2022-07-06 標(biāo)簽:光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 5.1萬 1

擬推中國特供版DUV?ASML最新回應(yīng)

被美國要求限制對(duì)華出售半導(dǎo)體設(shè)備后,ASML進(jìn)退兩難。

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EUV光刻機(jī)到底是什么?為什么這么貴?

近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺(tái)積電的7nm+也...

2020-02-29 標(biāo)簽:ASMLEUV光刻機(jī) 3.0萬 0

海思工程師成香餑餑!華為圍獵半導(dǎo)體人才?IC人才跳槽呈現(xiàn)哪些風(fēng)向標(biāo)

面臨美國制裁,華為海思一些項(xiàng)目無法開展,華為如何通過內(nèi)聘渠道發(fā)揮他們最大才能?華為挖人給行業(yè)帶來哪些影響?科創(chuàng)板開啟后,芯片企業(yè)崛起,給IC人才的脫穎而...

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2023-09-01 標(biāo)簽:華為手機(jī)5G芯片5G技術(shù) 1.8萬 0

2020年臺(tái)積電沖刺450億美元營收?臺(tái)灣和大陸廠商如何合力把握半導(dǎo)體發(fā)展機(jī)遇!

10月31日,在2020深圳集成電路制造峰會(huì)的安防半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展論壇上,來自臺(tái)灣亞太高科技發(fā)展促進(jìn)協(xié)會(huì),臺(tái)灣資深半導(dǎo)體專家馮明憲先生,帶來《從中國集...

2020-11-02 標(biāo)簽:中芯國際臺(tái)積電海思 1.4萬 0

中芯國際FinFET N+1等效7nm,工藝芯片流片成功!

中芯國際FinFET N+1等效7nm,工藝芯片流片成功!

據(jù)消息,IP和定制芯片企業(yè)芯動(dòng)科技已完成全球首個(gè)基于中芯國際FinFET N+1先進(jìn)工藝的芯片流片和測試,所有IP全自主國產(chǎn),功能一次性通過。 在半導(dǎo)體...

2020-10-16 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體IP 1.3萬 0

臺(tái)積電營收又要?jiǎng)?chuàng)新高,最先進(jìn)EUV光刻機(jī)5nm、7nm工藝賺大

得益于先進(jìn)的工藝,臺(tái)積電今年的營收又要?jiǎng)?chuàng)新高,即便是沒有了華為這樣的客戶,也絲毫不受影響。 臺(tái)積電昨日舉行南科3nm米晶圓廠上梁典禮,董事長劉德音透露,...

2020-11-25 標(biāo)簽:臺(tái)積電5nm營收 1.2萬 0

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    華天科技
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振蕩器 諧振器 濾波器 電容器 電感器 電阻器 二極管 晶體管
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