未必能一次投影好。因此，加工過程中要將電路設(shè)計(jì)分成多個(gè)光罩，重復(fù)上面的流程，直至蝕刻完成為止。 一片晶圓的產(chǎn)值可大可小 我們來計(jì)算一下，頂級(jí)晶圓的直徑按200毫米、一片芯片面積按100平方毫米計(jì)算，那么
2018-06-10 19:53:50
真空紫外輻射有高于共價(jià)鍵鍵能的光子能量,可在室溫下激起化學(xué)反應(yīng)。自上世紀(jì)80年代,基于稀有氣體介質(zhì)阻擋放電的準(zhǔn)分子真空紫外光燈面世以來,真空紫外光源有了很大的發(fā)展,商業(yè)化的準(zhǔn)分子真空紫外光燈已有上百
2010-05-06 08:56:18
`有時(shí)自己做一些PCB，閑來無事，利用紫外光LED和一個(gè)網(wǎng)購定時(shí)模塊制作了一個(gè)曝光箱，還沒進(jìn)行PCB實(shí)操，放一個(gè)變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
2018-01-30 14:47:54
這些廠商揮起了“金元大棒”。 —2019年二季度，臺(tái)積電就宣布其利用EUV技術(shù)的7nm增強(qiáng)版（7nm+）開始量產(chǎn)，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)。根據(jù)臺(tái)積電的發(fā)展進(jìn)程來看，其
2020-02-27 10:42:16
今日分享晶圓制造過程中的工藝及運(yùn)用到的半導(dǎo)體設(shè)備。晶圓制造過程中有幾大重要的步驟：氧化、沉積、光刻、刻蝕、離子注入/擴(kuò)散等。這幾個(gè)主要步驟都需要若干種半導(dǎo)體設(shè)備，滿足不同的需要。設(shè)備中應(yīng)用較為廣泛
2018-10-15 15:11:22
than 0.25 mm in length.裂紋 - 長(zhǎng)度大于0.25毫米的晶圓片表面微痕。Crater - Visible under diffused illumination, a
2011-12-01 14:20:47
TEL:***回收拋光片、光刻片、晶圓片碎片、小方片、牙簽料、藍(lán)膜片回收晶圓片硅片回收/廢硅片回收/單晶硅片回收/多晶硅片回收/回收太陽能電池片/半導(dǎo)休硅片回收
2011-04-15 18:24:29
本文介紹了一種基于AMBE-2000的紫外光語音系統(tǒng)設(shè)計(jì)。實(shí)驗(yàn)證明，紫外光語音通信系統(tǒng)具有低竊聽率、低位辨率、全方位、高抗干擾能力、音質(zhì)優(yōu)、功耗低等特點(diǎn)。
2021-03-31 06:04:34
，則在史密斯圓圖上，設(shè)備看起來像左邊的點(diǎn)。毫不奇怪，如果我現(xiàn)在用* SMA母短*替換3.5毫米短片，我無法找到任何端口延伸，史密斯圓圖在左邊顯示一個(gè)點(diǎn)。史密斯圓圖視圖（手工編輯，因?yàn)槲业能浖]有非常
2019-07-09 08:08:54
原文來源：如何對(duì)紫外光老化試驗(yàn)箱的維護(hù)保養(yǎng)工作小編：林頻儀器 為了使紫外光老化試驗(yàn)箱能過能好的工作，所以我們平時(shí)一定要對(duì)其進(jìn)行定期的維護(hù)和保養(yǎng)，這樣才能讓它一直處于良好的工作狀態(tài)，那我們?cè)谄綍r(shí)
2016-09-05 15:05:57
如何用ld303毫米波雷達(dá)和樹莓派去測(cè)試一種模塊呢？有哪些操作流程呢？
2021-11-22 06:56:05
極短，因此分辨率與光刻相比要好的多。 因?yàn)椴恍枰谀０?，因此?duì)平整度的要求不高，但是電子束刻蝕很慢，而且設(shè)備昂貴。對(duì)于大多數(shù)刻蝕步驟，晶圓上層的部分位置都會(huì)通過“罩”予以保護(hù)，這種罩不能被刻蝕，這樣
2017-10-09 19:41:52
【作者】：呂鵬;劉春芳;張潮海;趙永蓬;王騏;賈興;【來源】：《強(qiáng)激光與粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍縮放電等離子體極紫外光源系統(tǒng)中的主脈沖電源,給出了主電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),重點(diǎn)介紹了三級(jí)磁
2010-04-22 11:41:29
為了跟上200毫米和300毫米晶圓需求激增的步伐，主要制造商正在全球投資新的晶圓廠從歷史上看，晶圓的尺寸一直在穩(wěn)步增長(zhǎng)。從1972年的76毫米開始，最新的晶圓尺寸分別為450毫米和675毫米。晶圓
2022-07-07 11:34:54
紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢(shì)。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境
2019-06-18 08:00:06
傳感器的頭是跟鐵絲，鐵絲頭，能識(shí)別1-3毫米內(nèi)的鐵片
2016-04-29 08:48:05
紫外光老化試驗(yàn)是電子元器件，織物制品常見的測(cè)試試驗(yàn)，用于測(cè)試電子元器件，織物制品抵抗紫外光性能。紫外光老化試驗(yàn)箱是一種模擬太陽光照的光老化試驗(yàn)設(shè)備，它主要模擬陽光中的紫外光。同時(shí)它還可以再現(xiàn)雨水
2017-10-11 15:40:19
，將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件，做在一個(gè)微小面積上，以完成某一特定邏輯功能，達(dá)成預(yù)先設(shè)定好的電路功能要求的電路系統(tǒng)。硅是由沙子所精練出來的，晶圓便是硅元素加以純化（99.999
2011-12-02 14:30:44
求的越高。2、晶圓涂膜晶圓涂膜能抵抗氧化以及耐溫能力，其材料為光阻的一種，3、晶圓光刻顯影、蝕刻該過程使用了對(duì)紫外光敏感的化學(xué)物質(zhì)，即遇紫外光則變軟。通過控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片
2016-06-29 11:25:04
求的越高。2，晶圓涂膜晶圓涂膜能抵抗氧化以及耐溫能力，其材料為光阻的一種，3，晶圓光刻顯影、蝕刻該過程使用了對(duì)紫外光敏感的化學(xué)物質(zhì)，即遇紫外光則變軟。通過控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致
2018-08-16 09:10:35
`一、照明用LED光源照亮未來 隨著市場(chǎng)的持續(xù)增長(zhǎng)，LED制造業(yè)對(duì)于產(chǎn)能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術(shù)迅速成為L(zhǎng)ED制造業(yè)普遍的工具，甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。 激光刻
2011-12-01 11:48:46
長(zhǎng)期收購藍(lán)膜片.藍(lán)膜晶圓.光刻片.silicon pattern wafer. 藍(lán)膜片.白膜片.晶圓.ink die.downgrade wafer.Flash內(nèi)存.晶片.good die.廢膜硅片
2016-01-10 17:50:39
光譜響應(yīng)特性典型應(yīng)用電路直徑5毫米光敏電阻尺寸圖
2022-08-09 15:17:53
典型應(yīng)用電路3毫米光敏電阻尺寸圖 深圳市晶創(chuàng)和立科技有限公司的光敏電阻是一種半導(dǎo)體材料制成的電阻，其電導(dǎo)率隨著光照度的變化而變化。利用這一特性制成不同形狀和受光面積的光敏電阻。光敏電阻廣泛應(yīng)用于玩具、燈具、照相機(jī)等行業(yè)。光敏電阻結(jié)構(gòu)圖
2022-08-09 18:11:53
紫外光由于具有口盲特點(diǎn)而使其在通信方面有著特殊的的必要性及優(yōu)越性，紫外光的調(diào)制與接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要區(qū)別點(diǎn)；介紹了，紫外光通信系統(tǒng)的構(gòu)成原
2009-07-16 10:02:36
34 Intel新款32nm CPU上市 平臺(tái)產(chǎn)品緊隨其后
Intel的32nm Clarkdale桌面處理器就已經(jīng)開始出現(xiàn)在市面上，拔得頭籌的依然是日本秋葉原。與此同時(shí)，來自Intel、
2010-01-11 09:31:39
1422 
新式半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，極紫外光刻(EUV)被認(rèn)為是最有前途的方法之一，不過其實(shí)現(xiàn)難度也相當(dāng)高，從上世紀(jì)八十年代開始探尋至今已經(jīng)將近三十年， 仍然未能投入實(shí)用。極紫外光
2010-06-17 17:27:381470 納米電子與數(shù)字技術(shù)研發(fā)創(chuàng)新中心 IMEC 與美國楷登電子( Cadence) 公司聯(lián)合宣布，得益于雙方的長(zhǎng)期深入合作，業(yè)界首款 3nm 測(cè)試芯片成功流片。該項(xiàng)目采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)。
2018-03-19 15:08:308347 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML日前表示，該公司2018年將出貨20套極紫外光(EUV)光刻機(jī)，該數(shù)量預(yù)期在2019年將增加到30套以上。
2018-07-27 18:34:453542 今年4月開始，臺(tái)積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)?huì)使用它制造，但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。
2018-10-17 15:44:564730 “ASML的EUV
光刻機(jī)使用的13.5納米的極
紫外光源，價(jià)格高達(dá)3000萬元，還要在真空下使用?！表?xiàng)目副總師胡松說，“而我們使用的365納米
紫外光的汞燈，只要幾萬元一只。我們整機(jī)價(jià)格在百萬元級(jí)到千萬元級(jí)，加工能力介于深
紫外級(jí)和極
紫外級(jí)之間，讓很多用戶大喜過望?！?/div>
2018-12-03 10:53:1212225 ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開始開發(fā)極紫外（EUV）光刻機(jī)，其公司認(rèn)為，一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機(jī)來繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 衡量產(chǎn)業(yè)發(fā)展成熟度的另一維度是論文產(chǎn)出量。1998年至2018年間，全球人工智能領(lǐng)域論文產(chǎn)出量最多是美國，達(dá)14.91萬篇，中國以14.18萬篇緊隨其后，英國、德國、印度分列三至五位。
2019-01-15 17:35:544655 紫外光通信系統(tǒng)是一種新型的通信手段，與常規(guī)的通信系統(tǒng)相比，有很多優(yōu)勢(shì)。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統(tǒng)具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環(huán)境。
2019-02-21 15:40:375540 極紫外光刻時(shí)代的大幕已拉開……
2019-02-27 13:41:11611 伴隨著AMD第二代銳龍?zhí)幚砥鞯纳鲜校?00系列主板緊隨其后開始全面上線，華碩TUF電競(jìng)特工系列也推出新款，命名為TUF B450M-PLUS GAMING主板。
2019-04-23 08:42:2711199 臺(tái)積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡，也領(lǐng)先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233 臺(tái)積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。
2019-05-28 16:18:243401 AI-Benchmark跑分網(wǎng)站最近公布了最新的芯片AI性能跑分榜單，紫光展銳的虎賁T710以28097分的優(yōu)異成績(jī)摘得狀元之席，高通驍龍855 plus以24553分奪榜眼之位，緊隨其后的是華為海思麒麟810以23944獲探花之名。
2019-08-01 11:50:0611007 
8月19日消息，美國當(dāng)?shù)貢r(shí)間8月18日，美國數(shù)據(jù)創(chuàng)新中心（Center for Data Innovation）發(fā)布針對(duì)中國、美國和歐洲三大地區(qū)的人工智能發(fā)展報(bào)告，報(bào)告顯示，目前美國在AI發(fā)展中仍然保持領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，中國緊隨其后，歐盟排名第三。
2019-08-20 09:03:214494 三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
2020-02-21 16:19:052214 2月14日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)Strategy Analytics發(fā)布了一份涵蓋2019年智能音箱行業(yè)的新報(bào)告，報(bào)告顯示，2019年，全球智能音箱出貨量達(dá)到1.469億部，同比增長(zhǎng)70%，創(chuàng)下新紀(jì)錄，而亞馬遜仍然遙遙領(lǐng)先，谷歌緊隨其后。
2020-03-03 11:09:07810 據(jù)國外媒體報(bào)道，在芯片的制造過程中，光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機(jī)也就至關(guān)重要。
2020-03-07 10:50:591943 據(jù)國外媒體報(bào)道，在芯片的制造過程中，光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機(jī)也就至關(guān)重要。
2020-03-07 14:39:545045 3月11日消息，IDC最新發(fā)布了全球2019年可穿戴市場(chǎng)報(bào)告。報(bào)告顯示，2019年，蘋果穩(wěn)居全球可穿戴市場(chǎng)第一，小米緊隨其后，成為全球第二大、國內(nèi)第一大智能可穿戴品牌。三星、華為、Fitbit分列三四五位。
2020-03-12 08:59:50576 
據(jù)國外媒體報(bào)道，半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML（阿斯麥）去年交付了26臺(tái)極紫外光刻機(jī)（EUV），調(diào)查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺(tái)積電。ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26
2020-04-09 11:20:062310 對(duì)于芯片制造廠商來說，光刻機(jī)的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經(jīng)提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機(jī)就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機(jī)的廠商，他的一舉一動(dòng)，牽動(dòng)著所有相關(guān)產(chǎn)業(yè)上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364093 4月17日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，在智能手機(jī)等高端設(shè)備芯片的工藝提升到5nm之后，能生產(chǎn)5nm芯片的極紫外光刻機(jī)就顯得異常重要，而作為目前全球唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機(jī)的廠商，阿斯麥的供應(yīng)量直接決定了各大芯片制造商5nm芯片的產(chǎn)能。
2020-04-18 09:09:433544 據(jù)國外媒體報(bào)道，已經(jīng)推出了兩款極紫外光刻機(jī)的阿斯麥，正在研發(fā)第三款，計(jì)劃在明年年中開始出貨。
2020-10-15 16:14:111565 日前三星電子副董事長(zhǎng)李在镕前往荷蘭拜訪光刻機(jī)大廠ASML，其目的就是希望ASML 的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509 在5nm、6nm工藝大規(guī)模投產(chǎn)、第二代5nm工藝即將投產(chǎn)的情況下，芯片代工商臺(tái)積電對(duì)極紫外光刻機(jī)的需求也明顯增加。而外媒最新援引產(chǎn)業(yè)鏈消息人士的透露報(bào)道稱，臺(tái)積電已向阿斯麥下達(dá)了2021的極紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640 近日，據(jù)外媒報(bào)道，在芯片制程工藝方面一直落后于臺(tái)積電的三星電子，目前正在尋求加強(qiáng)與極紫外光刻機(jī)供應(yīng)商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研發(fā)。
2020-11-24 14:54:522073 對(duì)于阿斯麥（ASML）來說，他們正在研發(fā)更先進(jìn)的光刻機(jī)，這也是推動(dòng)芯片工藝?yán)^續(xù)前行的重要?jiǎng)恿Α?ASML是全球目前唯一能制造極紫外光刻機(jī)的廠商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287 12月29日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，ASML正在研發(fā)更先進(jìn)、效率更高的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)：NXE:5000系列，設(shè)計(jì)已經(jīng)基本完成，預(yù)計(jì)在2022年開始商用。
2020-12-30 10:29:302159 據(jù)國外媒體報(bào)道，臺(tái)積電和三星電子的芯片制程工藝，均已提升到了 5nm，更先進(jìn)的工藝研發(fā)也在推進(jìn)，并在謀劃量產(chǎn)事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后，也就意味著臺(tái)積電、三星等廠商，對(duì)極紫外光刻機(jī)的需求
2021-01-25 17:10:181352 ，對(duì)極紫外光刻機(jī)的需求會(huì)不斷增加，而全球目前唯一能生產(chǎn)極紫外光刻機(jī)廠商的阿斯麥，也就大量供應(yīng)極紫外光刻機(jī)。 英文媒體在最新的報(bào)道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列的臺(tái)積電，在今年預(yù)計(jì)可獲得 18 臺(tái)極紫外光刻機(jī)，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重營(yíng)銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺(tái)積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺(tái)最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)需求，如此之大的需求令可以說是史上的天量，三星英特爾急了。
2021-01-26 09:22:051158 對(duì)于臺(tái)積電來說，他們今年依然會(huì)狂購極紫外光刻，用最先進(jìn)的工藝來確保自己處于競(jìng)爭(zhēng)的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137 近日，荷蘭的光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）發(fā)布2020年度財(cái)報(bào)，全年凈銷售額達(dá)到140億歐元，毛利率達(dá)到48.6%。ASML同時(shí)宣布實(shí)現(xiàn)第100套極紫外光刻（EUV）系統(tǒng)的出貨，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588 2月2日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，臺(tái)積電和三星電子，從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機(jī)，用于為蘋果、高通等客戶代工最新的智能手機(jī)處理器。 而從外媒的報(bào)道來看，除了臺(tái)積電和三星，存儲(chǔ)芯片制造商SK海力士
2021-02-02 18:08:482632 2月25日消息，據(jù)國外媒體報(bào)道，芯片制程工藝提升至5nm的臺(tái)積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機(jī)，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:011530 紫外光通信是以大氣分子和子溶膠粒子的散射和吸收為基礎(chǔ)的。紫外光通信基于兩個(gè)相互關(guān)聯(lián)的物理現(xiàn)象：一是大氣層中的臭氧對(duì)波長(zhǎng)在200nm到280nm之間的紫外光有強(qiáng)烈的吸收作用，這個(gè)區(qū)域被叫做日盲區(qū)
2022-03-18 10:11:034253 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 最近，據(jù)報(bào)道，臺(tái)積電將于2024年收購下一代Asmail的最新極紫外光刻設(shè)備，為客戶開發(fā)相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施和架構(gòu)解決方案。
2022-09-20 14:23:311108 EUV 光刻是以波長(zhǎng)為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡(jiǎn)單來說，就是以極紫外光作“刀”，對(duì)芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367 熱點(diǎn)新聞 1、 ASML 阿斯麥 CEO 透露高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī) 2024?年開始出貨 據(jù)國外媒體報(bào)道，光刻機(jī)制造商阿斯麥的 CEO 兼總裁彼得?維尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:033971 科學(xué)家利用選擇性紫外光刻實(shí)現(xiàn)復(fù)合纖維材料的光纖微圖案化
2022-12-22 14:58:13194 
極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長(zhǎng)更短，但易被吸收，可利用率極低，需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機(jī)，250W的功率，每天耗電達(dá)到三萬度。
生產(chǎn)效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
MODEL：XT-01-UVlitho-手動(dòng)版一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發(fā)生化學(xué)變化，通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程
2022-12-20 09:24:261211 
? ? 紫外光刻和曝光 是半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)各種高端芯片、微觀電路結(jié)構(gòu)的核心技術(shù)。在紫外光刻過程中，光源發(fā)射的紫外線通過掩模上的微小透鏡或光柵，然后投射到光刻膠層上，形成所需的微細(xì)圖案。 長(zhǎng)期以來
2023-07-05 10:11:241026 
。照明系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)為研究方向，對(duì)照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計(jì)與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
實(shí)現(xiàn)深紫外光通信的一個(gè)關(guān)鍵器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高壓汞燈實(shí)現(xiàn)，但汞燈的調(diào)制帶寬非常小，這嚴(yán)重影響了深紫光通信的傳輸速率。
2023-09-05 11:13:00484 
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