電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機(jī)來生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2910 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李彎彎）近期，各大視頻平臺(tái)瘋傳一條消息，稱清華大學(xué)EUV項(xiàng)目，把ASML的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國產(chǎn)化，并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地，還在視頻中配了下面這張圖，表示圖片
2023-09-20 08:56:502575 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153007 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4136 
據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）正計(jì)劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會(huì)引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機(jī)巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉，荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計(jì)劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 ，但是編碼器絕對(duì)沒有打滑。
請(qǐng)問這個(gè)編碼器是否同心對(duì)電機(jī)測(cè)速影響這么大嗎？我的理解電機(jī)轉(zhuǎn)一圈編碼器轉(zhuǎn)一圈，只要轉(zhuǎn)動(dòng)的每一圈距離時(shí)長一樣應(yīng)該是沒有問題的，但是在變頻器上反饋頻率波動(dòng)大約有1HZ左右，閉環(huán)完全不能運(yùn)行。詳細(xì)原因究竟是什么？
2024-03-06 17:34:21
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠，據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01161 
利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機(jī)技術(shù)和市場(chǎng)地位對(duì)于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 來源：DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計(jì)其納米壓印光刻機(jī)將于今年出貨，與ASML的EVU設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng)，因?yàn)槭澜绺鞯氐慕?jīng)濟(jì)體都熱衷于擴(kuò)大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
來源：AIot工業(yè)檢測(cè)，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設(shè)備的力度，以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機(jī)制造商，ASML受益于這一趨勢(shì)，其2023
2024-01-26 09:20:12409 掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一類不可或缺的晶圓制造材料，在芯片封裝（構(gòu)筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機(jī)電器件等用到光刻技術(shù)的領(lǐng)域也都能見到各種掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22145 
一系列環(huán)節(jié)如制造、封裝、測(cè)試等。 ? 在這其中，制造過程顯得尤為關(guān)鍵，而高端光刻機(jī)則是制造過程中不可或缺的設(shè)備。 光刻機(jī)在微電子制造過程中扮演核心角色，其要求具備高度精密的光學(xué)系統(tǒng)、復(fù)雜的機(jī)械結(jié)構(gòu)和先進(jìn)的控制技術(shù)。
2024-01-17 17:56:59292 在10-11月份中國進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后，美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評(píng)估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機(jī)出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發(fā)表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機(jī)在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406
電路板原理圖如上圖所示，我用ZYNQ通過SPI與DA芯片通信，當(dāng)我控制DA芯片輸出固定電壓時(shí)，音圈電機(jī)不轉(zhuǎn)，但是當(dāng)DA芯片輸出變化的電壓，例如三角波或者正弦波，音圈電機(jī)就會(huì)往返轉(zhuǎn)動(dòng)，而且看上去轉(zhuǎn)動(dòng)
2023-12-27 16:14:33
掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關(guān)鍵部件之一，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具
2023-12-25 11:41:135396 
光刻與光刻機(jī)
?對(duì)準(zhǔn)和曝光在光刻機(jī)(Lithography Tool)內(nèi)進(jìn)行。
?其它工藝在涂膠顯影機(jī)(Track)上進(jìn)行。
光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理
?光刻機(jī)簡(jiǎn)介
?光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
LabVIEW在燃?xì)廨啓C(jī)發(fā)電機(jī)組勵(lì)磁控制系統(tǒng)測(cè)試中的應(yīng)用
燃?xì)廨啓C(jī)發(fā)電機(jī)組作為一種高效可靠的常備應(yīng)急電源，在保障發(fā)電品質(zhì)穩(wěn)定性和可靠性方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。其中，勵(lì)磁控制系統(tǒng)是保證供電質(zhì)量的重要環(huán)節(jié)
2023-12-18 20:19:08
光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計(jì)以及光刻膠工藝等因素對(duì)分辨率的影響都反映在k?因子中，k?因子也常被用于評(píng)估光刻工藝的難度，ASML認(rèn)為其物理極限在0.25，k?體現(xiàn)了各家晶圓廠運(yùn)用光刻技術(shù)的水平。
2023-12-18 10:53:05326 
歡迎了解 光刻機(jī)（Lithography Machine）是一種半導(dǎo)體工業(yè)中常用的設(shè)備，用于將掩模版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移到硅片上，是IC制造的核心環(huán)節(jié)，光刻機(jī)的基本工作原理是利用光學(xué)原理將圖案投射
2023-12-18 08:42:12278 
光學(xué)模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學(xué)成像理論，預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)（TCCs），從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中，經(jīng)過優(yōu)化的光源，通過光刻機(jī)的照明系統(tǒng)，照射在掩模上。如果在實(shí)際光刻
2023-12-11 11:35:32287 
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
一個(gè)紙機(jī)涂布排風(fēng)系統(tǒng)中，有一臺(tái)G120 變頻器 45KW電機(jī)，在運(yùn)行過程總是會(huì)出現(xiàn)堵轉(zhuǎn)跳停，而且跳停后很難再啟動(dòng)！請(qǐng)教各位大蝦 有什么方法可以改善這種情況，還是可以通過修改參數(shù)解決？勞煩大家給點(diǎn)意見！
2023-11-16 06:38:23
電機(jī)轉(zhuǎn)一圈同步帶轉(zhuǎn)多少怎么計(jì)算
2023-11-07 06:51:25
隨著工藝節(jié)點(diǎn)不斷變小，掩模版制造難度日益增加，耗費(fèi)的資金成本從數(shù)十萬到上億，呈指數(shù)級(jí)增長，同時(shí)生產(chǎn)掩模版的時(shí)間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保證其設(shè)計(jì)有足夠高的品質(zhì)，重新優(yōu)化設(shè)計(jì)并再次制造一批掩模版將增加巨大的資金成本和時(shí)間成本。
2023-11-02 14:25:59284 
光刻機(jī)中的投影物鏡一般由凸透鏡、凹透鏡和棱鏡等一系列透鏡組成，其作用是將光源發(fā)出的光束進(jìn)行聚焦和投射。在光刻機(jī)中，投影物鏡將掩模版上的電路圖案縮小到一定比例后，聚焦成像到預(yù)涂光阻層的晶圓上。
2023-11-01 11:23:34263 2020年時(shí)，ASML總裁還聲稱中國即使拿到設(shè)計(jì)圖紙也無法自制光刻機(jī)。但2021年開始，其態(tài)度出現(xiàn)變化，承認(rèn)中國有可能獨(dú)立制造光刻機(jī)系統(tǒng)。2022年甚至主動(dòng)表示要繼續(xù)向中國出售光刻機(jī)。2023年上半年，ASML開始大量向中國傾銷光刻機(jī)。
2023-10-30 16:18:101124 永磁同步電動(dòng)機(jī)在各行各業(yè)中尤其在工業(yè)控制行業(yè)中的應(yīng)用越來越廣泛。三相永磁同步電機(jī)在產(chǎn)品研發(fā)及出廠檢測(cè)必須確保產(chǎn)品性能及產(chǎn)品質(zhì)量,因此對(duì)電機(jī)的性能進(jìn)行嚴(yán)格的測(cè)試與分析顯得尤為重要。永磁同步電機(jī)測(cè)試系統(tǒng)
2023-10-28 13:21:23
電機(jī)特性常數(shù)測(cè)試系統(tǒng)產(chǎn)品概述：電機(jī)特性常數(shù)測(cè)試系統(tǒng)適用于各種功率電機(jī)測(cè)試，扭矩變化不受轉(zhuǎn)速的影響，因此可以進(jìn)行空載到堵轉(zhuǎn)的全程測(cè)試。實(shí)現(xiàn)電機(jī)的電壓、電流、輸入功率、轉(zhuǎn)速、轉(zhuǎn)矩、輸出功率、效率等進(jìn)行
2023-10-28 13:12:56
監(jiān)控的項(xiàng)目有電流、轉(zhuǎn)速、溫度和功率等，可以自由設(shè)定電機(jī)的運(yùn)行時(shí)間、停止時(shí)間及循環(huán)次數(shù)。各個(gè)工位獨(dú)立運(yùn)行，不受其它工位的干擾。測(cè)試數(shù)據(jù)全部存儲(chǔ)在系統(tǒng)中，并能實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)距離
2023-10-28 10:41:35
新能源汽車電機(jī)綜合測(cè)試系統(tǒng)測(cè)試用于純電動(dòng)汽車用電機(jī)、電機(jī)控制器、差減速器等產(chǎn)品檢驗(yàn)和故障分析，該系統(tǒng)能夠滿足型式試驗(yàn)和耐久試驗(yàn)要求、電控系統(tǒng)試驗(yàn)和車用電機(jī)以及動(dòng)力電池組在動(dòng)力系統(tǒng)中的性能試驗(yàn)及優(yōu)化
2023-10-28 10:22:02
能量回饋型新能源汽車電機(jī)測(cè)試系統(tǒng)用于新能源純電動(dòng)汽車開發(fā)過程中對(duì)各種型式永磁同步電機(jī)及其控制器進(jìn)行各方面性能、可靠性臺(tái)架測(cè)試,能夠完成電機(jī)控制策略的開發(fā)、匹配、標(biāo)定、評(píng)價(jià)研究;也能夠用于驅(qū)動(dòng)電機(jī)
2023-10-28 10:10:01
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《PCB激光投影光刻照明系統(tǒng)的設(shè)計(jì).pdf》資料免費(fèi)下載
2023-10-23 09:38:18
1 用51單片機(jī)控制直流電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)圈數(shù)，在電位計(jì)旋轉(zhuǎn)至不同位置轉(zhuǎn)動(dòng)不同圈數(shù)。
2023-10-19 08:07:47
半導(dǎo)體芯科技編譯 來源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰出人物調(diào)查。 來自半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)（包括光掩模
2023-10-17 15:00:01224 怎么確定步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)一圈需要的脈沖數(shù)
2023-10-12 07:16:00
電機(jī)在運(yùn)行的時(shí)候怎么計(jì)數(shù)轉(zhuǎn)動(dòng)的圈數(shù)
2023-10-11 06:23:21
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。
2023-10-09 14:34:491674 
SMT鐳雕機(jī)_自動(dòng)在線激光刻印_全自動(dòng)翻板鐳雕機(jī)PCB在線激光鐳雕機(jī)，選用國際領(lǐng)先工業(yè)級(jí)激光器，加工速度快，使用壽命長， 可刻印漢字，英文、數(shù)字、圖表、流水號(hào)、LOGO、條形碼、二維碼等內(nèi)容
2023-09-23 10:16:45
UV光刻機(jī)一般可以分為5種，即：接觸式光刻機(jī)，接近式光刻機(jī)，掃描投影式光刻機(jī)
2023-09-19 11:32:521302 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12562 
運(yùn)動(dòng)平臺(tái)如雙XY橋臺(tái)、雙驅(qū)動(dòng)龍門臺(tái)、空流平臺(tái)等。這些線性運(yùn)動(dòng)平臺(tái)也將用于光刻機(jī)、面板處理、測(cè)試機(jī)、印刷電路板鉆并機(jī)、高精度激光處理設(shè)備、基因序列儀、腦細(xì)胞成像儀和其他醫(yī)療設(shè)備。
高動(dòng)態(tài)響應(yīng)
低安裝高度
UL與CE認(rèn)證
持續(xù)推力范圍103N至
瞬間推力范圍289N至
安裝高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38
香蕉派BPI-FSM8191D伺服電機(jī)控制器是香蕉派開源社區(qū)與峰岹科技合作打造的一款工業(yè)級(jí)伺服電機(jī)控制產(chǎn)品。是一款應(yīng)用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)伺服電機(jī)，直線伺服電機(jī)以及力矩電機(jī)的伺服模塊，在實(shí)際應(yīng)用中，由主控板
2023-09-04 09:16:12
短波長透明光學(xué)元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長，而晶片上所需的最小特征繼續(xù)向更深的亞波長尺度收縮。這對(duì)用入射場(chǎng)代替掩模開口上的場(chǎng)的基爾霍夫邊界條件造成了嚴(yán)重的限制，因?yàn)檫@種近似無法考慮光刻圖像
2023-08-25 17:21:43279 
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時(shí)長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531578 
光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一（一臺(tái)光刻機(jī)有10萬個(gè)組件）。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產(chǎn)品美國、日本和中國均能生產(chǎn)），而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對(duì)于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02396 在半導(dǎo)體行業(yè)中，直線電機(jī)模組以其高速度、高精度的特點(diǎn)，杯應(yīng)用于光刻機(jī)、IC 成膜機(jī)、IC 塑封機(jī)等多種不同加工設(shè)備中，而且單臺(tái)設(shè)備往往須要幾臺(tái)直線電機(jī)。
2023-08-04 12:56:23286 三十年來，半導(dǎo)體掩模技術(shù)基本保持不變，掩模的制作是在可變成形機(jī)上進(jìn)行的，這些機(jī)器將可變?cè)拗圃?45 度角。隨著功能縮小并變得更加復(fù)雜，電子束和多束掩模寫入器提供了設(shè)計(jì)的靈活性。現(xiàn)在，幾乎 100% 的掩模都是使用多光束技術(shù)制作的，為高數(shù)值孔徑系統(tǒng)上更復(fù)雜、更高效的設(shè)計(jì)帶來了新的機(jī)會(huì)。
2023-08-01 11:21:26289 
CHOTEST中圖儀器PO系列數(shù)控機(jī)床在機(jī)測(cè)量系統(tǒng)也就是機(jī)床測(cè)頭，可以用于精密測(cè)量和檢測(cè)應(yīng)用。比如，在汽車零部件加工中，可以使用測(cè)頭對(duì)發(fā)動(dòng)機(jī)曲軸箱等關(guān)鍵部位進(jìn)行精密測(cè)量和檢測(cè)，以確保其質(zhì)量和可靠性
2023-07-26 13:29:40
。照明系統(tǒng)是光刻機(jī)的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實(shí)現(xiàn)離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)為研究方向，對(duì)照明系統(tǒng)關(guān)鍵單元進(jìn)行了光學(xué)設(shè)計(jì)與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
光刻機(jī)的制造是一項(xiàng)復(fù)雜而精密的工藝，需要高度專業(yè)化的技術(shù)和設(shè)備。它涉及到許多關(guān)鍵的工藝步驟和組件，如光學(xué)系統(tǒng)、曝光光源、掩模制作等。
2023-07-04 17:48:2813485 荷蘭實(shí)施半導(dǎo)體出口管制 ASML光刻機(jī)DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實(shí)施半導(dǎo)體出口管制條款，這將對(duì)光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）產(chǎn)生更多影響。ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)
2023-07-01 17:38:19669 
機(jī)床在機(jī)測(cè)量頭系統(tǒng)一般安裝在數(shù)控車床、加工中心、數(shù)控磨床等數(shù)控機(jī)床上。它在加工循環(huán)中不需人為介入，就能直接對(duì)刀具或工件的尺寸及位置進(jìn)行測(cè)量，并根據(jù)測(cè)量結(jié)果自動(dòng)修正工件或刀具的偏置量，使同樣的機(jī)床能
2023-06-28 13:35:35
搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機(jī)畢竟不是核彈，光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī)，需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn)，這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。
2023-06-27 15:50:0810752 
因此光刻機(jī)對(duì)芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素?？v觀全球光刻機(jī)市場(chǎng)，荷蘭ASML公司一家獨(dú)大，占據(jù)全球80%的光刻機(jī)市場(chǎng)份額，高端EUV光刻機(jī)的市占比更是達(dá)到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備，市場(chǎng)規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場(chǎng)，大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機(jī)：多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008364 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-15 11:14:533429 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857 
極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長更短，但易被吸收，可利用率極低，需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機(jī)，250W的功率，每天耗電達(dá)到三萬度。
生產(chǎn)效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
光刻機(jī)需要采用全反射光學(xué)元件，掩模需要采用反射式結(jié)構(gòu)。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領(lǐng)域的顛覆性技術(shù)。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰(zhàn)，包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發(fā)、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復(fù)等。
2023-06-07 10:45:541008 
極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對(duì)準(zhǔn)、曝光、顯影和適當(dāng)?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進(jìn)行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側(cè)壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25418 
上海伯東客戶某光刻機(jī)生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機(jī) Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機(jī)無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機(jī)也受到了限制。很明顯，美國不會(huì)放松對(duì) EUV光刻機(jī)的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機(jī)拍照，將掩模版上的芯片設(shè)計(jì)版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機(jī)的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級(jí)別，才能穩(wěn)定地通過曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497 
BE-8106 重物沖擊試驗(yàn)機(jī)-重物撞擊試驗(yàn)機(jī)-電池沖擊碰撞試驗(yàn)臺(tái) BE-8106電池重物沖擊試驗(yàn)機(jī)適用標(biāo)準(zhǔn)重物沖擊試驗(yàn)臺(tái)要符合GB8897.4-2002、GB/T18287-2000
2023-05-24 11:13:52
在投影光刻機(jī)照明系統(tǒng)中，均勻照明是保證加工出的線條線寬均勻一致的一項(xiàng)重要技術(shù)。通常，用于光刻機(jī)照明系統(tǒng)的勻光元件有積分棒、衍射光學(xué)元件和微透鏡陣列。積分棒勻光的缺點(diǎn)是，限制了照明最大孔徑角
2023-05-17 14:52:061059 
的偏置量，使同樣的機(jī)床能加工出更高精度的零件。 中圖儀器PO40機(jī)床在機(jī)測(cè)量系統(tǒng)是一款具有 3 維 5 向探測(cè)功能的紅外觸發(fā)機(jī)床測(cè)頭，具有體積小、精度高、
2023-05-17 14:41:23
在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場(chǎng)景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:492772 
2023年中國光刻機(jī)現(xiàn)狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機(jī)被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進(jìn)的光刻機(jī)給我們，這也讓這些年來無數(shù)國人關(guān)注光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。
2023-05-10 16:24:1521220 掃描儀(scanner)是一種在wafer上創(chuàng)建die images的機(jī)器。它首先通過刻線（有時(shí)稱為掩模）將光照射到涂有保護(hù)性光刻膠的wafer上，以刻上刻線圖案的圖像。
2023-05-06 09:51:385193 
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護(hù)晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會(huì)在第一個(gè)轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應(yīng)該減小。
2023-04-27 16:25:00689 
現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限，需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計(jì)算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計(jì)算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，它結(jié)合來自ASML設(shè)備和測(cè)試晶圓的關(guān)鍵數(shù)據(jù)，是一個(gè)模擬生產(chǎn)過程的算法。
2023-04-26 10:05:29918 根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
2023-04-25 11:11:331242 
光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:131057 
泰科伺服生產(chǎn)的MT無刷伺服系統(tǒng)主要由IDM系列伺服驅(qū)動(dòng)器與兼容NEMA法蘭尺寸的直流無刷伺服電機(jī)組合而成。采用直流供電，最大功率可達(dá)600W,主要應(yīng)用于小型移動(dòng)機(jī)器人、自動(dòng)化檢測(cè)組裝、醫(yī)療設(shè)備等行業(yè)
2023-04-20 10:45:52
，最大功率可達(dá)5KW。集可編程運(yùn)動(dòng)控制、PLC、伺服驅(qū)動(dòng)功能于一體。主要應(yīng)用于直線（DDL）、力矩(DDR)、音圈、有刷、無刷伺服電機(jī)的位置、速度、轉(zhuǎn)矩控制。它能以
2023-04-20 10:21:24
泰科智能生產(chǎn)的MT無刷伺服系統(tǒng)主要由IDM系列伺服驅(qū)動(dòng)器與兼容NEMA法蘭尺寸的直流無刷伺服電機(jī)組合而成。采用直流供電，最大功率可達(dá)600W,主要應(yīng)用于小型移動(dòng)機(jī)器人、自動(dòng)化檢測(cè)組裝、醫(yī)療設(shè)備等行業(yè)
2023-04-19 11:07:03
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個(gè)新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164 光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇?，荷蘭光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。 很多人都對(duì)光刻機(jī)有所耳聞，但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
? 在基礎(chǔ)科研中，微納結(jié)構(gòu)的跨尺度光刻逐漸成為研究者在制備樣品過程中的必要手段。常規(guī)光刻機(jī)需要定制光學(xué)掩模板，這不僅增高成本，還使靈活性大打折扣，即當(dāng)發(fā)生任何設(shè)計(jì)上的變動(dòng)，都需要重新制造掩模板。激光
2023-03-28 08:55:41692 
為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377488 
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論