解析光刻芯片掩模的核心作用與設(shè)計(jì)

光刻是芯片制造中的關(guān)鍵步驟之一。

AMTC（Advance Mask Technology Center）是日本TOPPAN與美國(guó)Global Foundries（格羅方德）于德國(guó)德累斯頓（Dresden）合資成立的掩模企業(yè)。格羅方德原為美國(guó)AMD 公司的晶圓生產(chǎn)部門，2009年拆分獨(dú)立，現(xiàn)為臺(tái)積電和三星之后的世界第三大代工廠，但它已經(jīng)放棄了7納米制程的研發(fā)。

掩模的制造離不開原材料和設(shè)備的支撐。

審核編輯：黃飛

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印刷電路板(34725) 印刷電路板(34725)
芯片制造(28522) 芯片制造(28522)
光刻(29860) 光刻(29860)
芯片封裝(30100) 芯片封裝(30100)

評(píng)論

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光刻機(jī)能干什么_英特爾用的什么光刻機(jī)_光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)有何作用

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極紫外（EUV）光刻技術(shù)將如何影響掩模收入？

體上，三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí)，口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)镋UV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需要在高級(jí)節(jié)點(diǎn)處使用更多的掩模。

2020-11-23 14:42:09

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紫外線探測(cè)器的性能特點(diǎn)及在光刻機(jī)中的應(yīng)用研究

光刻機(jī)（Mask Aligner）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干

2020-12-28 14:17:15

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關(guān)于紫外線探測(cè)器在紫外光刻機(jī)中的應(yīng)用

光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干

2020-12-29 09:14:54

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英諾賽科和ASML建立合作關(guān)系,可批量購(gòu)買光刻機(jī)

作為全球最頂尖的半導(dǎo)體設(shè)備制造商，AMSL在芯片產(chǎn)業(yè)鏈中扮演著尤為關(guān)鍵的角色，由它生產(chǎn)出來(lái)的光刻機(jī)更是芯片制造過(guò)程所需的核心設(shè)備。顧名思義，光刻機(jī)的主要作用就是光刻，將設(shè)計(jì)好的集成電路刻畫在硅片上，這便是芯片代工最重要的環(huán)節(jié)。

2021-01-26 16:40:58

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探究光刻機(jī)微影技術(shù)是通過(guò)什么實(shí)現(xiàn)的

用途光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī)

2021-03-30 18:17:27

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集成電路制造的光刻與刻蝕工藝

光刻是集成電路工藝中的關(guān)鍵性技術(shù)。在硅片表面涂上光刻膠薄層，經(jīng)過(guò)光照、顯影，在光刻膠上留下掩模版的圖形。

2021-04-09 14:27:19

為什么說(shuō)EDA工具是可以比肩光刻機(jī)的重要設(shè)備?

在芯片設(shè)計(jì)、制造的諸多環(huán)節(jié)中，光刻機(jī)等核心設(shè)備發(fā)揮了至關(guān)重要的作用。殊不知，在眾多核心設(shè)備中，EDA工具才是真正的重中之重。

2021-05-02 11:49:00

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光刻機(jī)原理介紹

光刻機(jī)，是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無(wú)法切身理解光刻機(jī)的重要地位，光刻機(jī)，是制造芯片的機(jī)器，要是沒(méi)有了光刻機(jī)，我們就沒(méi)有辦法造出芯片，自然也就

2021-07-07 14:31:18

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光刻機(jī)原理怎么做芯片

光刻機(jī)原理怎么做芯片光刻是集成電路中最重要的工藝，光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備，在芯片的制作中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都需要用到光刻技術(shù)。可以說(shuō)，光刻機(jī)是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機(jī)原理怎么做芯片

2021-08-07 14:54:54

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芯片制造都需要什么過(guò)程？

在掩模版上制作需要印刷的圖案藍(lán)圖。晶圓放入光刻機(jī)后，光束會(huì)通過(guò)掩模版投射到晶圓上。光刻機(jī)內(nèi)的光學(xué)元件將圖案縮小并聚焦到光刻膠涂層上。

2021-12-08 13:45:50

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光刻機(jī)作用及壽命

光刻機(jī)作為芯片的核心制造設(shè)備，也是當(dāng)前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實(shí)光刻機(jī)不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。

2022-01-03 16:43:00

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光刻機(jī)的核心部件是什么

一臺(tái)高端的光刻機(jī)由上萬(wàn)個(gè)零部件構(gòu)成，光刻機(jī)的主要核心部件主要分為兩個(gè)部分：分別是對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和紫外光源。

2022-01-03 17:09:00

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光刻機(jī)制作芯片過(guò)程

光刻機(jī)制作芯片過(guò)程非常復(fù)雜，而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一，由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖，中國(guó)芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后，也沒(méi)有優(yōu)秀的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)來(lái)掌握到最先進(jìn)的光刻技術(shù)。

2021-12-30 11:23:21

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光刻技術(shù)是什么,有哪些作用

光刻是在掩模中轉(zhuǎn)移幾何形狀圖案的過(guò)程，是覆蓋在表面的一層薄薄的輻射敏感材料(稱為抗輻射劑) ，也是一種半導(dǎo)體晶片。圖5.1簡(jiǎn)要說(shuō)明了光刻用于集成電路制造的工藝。如圖5.1(b)所示，輻射為通過(guò)

2022-03-09 13:36:16

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晶片清洗、阻擋層形成和光刻膠應(yīng)用

什么是光刻？光刻是將掩模上的幾何形狀轉(zhuǎn)移到硅片表面的過(guò)程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗；阻擋層的形成；光刻膠應(yīng)用；軟烤；掩模對(duì)準(zhǔn)；曝光和顯影；和硬烤。

2022-03-15 11:38:02

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光刻膠剝離和光掩模清潔的工藝順序

本文一般涉及處理光掩模的領(lǐng)域，具體涉及用于從光掩模上剝離光致抗蝕劑和/或清洗集成電路制造中使用的光掩模的設(shè)備和方法。

2022-04-01 14:26:37

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TiN硬掩模濕法去除工藝的介紹

介紹 TiN硬掩模(TiN-HM)集成方案已廣泛用于BEOL圖案化，以避免等離子體灰化過(guò)程中的超低k (ULK)損傷。隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的進(jìn)步，新的集成方案必須被用于利用193 nm浸沒(méi)光刻來(lái)圖案化80

2022-06-15 16:28:16

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半導(dǎo)體等精密電子器件制造的核心流程：光刻工藝

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。

2022-06-21 09:30:09

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euv光刻機(jī)可以干什么光刻工藝原理

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。

2022-07-06 11:03:07

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euv光刻機(jī)目前幾納米中國(guó)5納米光刻機(jī)突破了嗎

大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭

2022-07-10 11:17:42

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euv光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的

機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的呢？ euv光刻機(jī)許多國(guó)家都有，理論上來(lái)說(shuō)，芯片強(qiáng)國(guó)的光刻機(jī)也應(yīng)該很強(qiáng)，但是最強(qiáng)的光刻機(jī)制造強(qiáng)國(guó)，不是美國(guó)、韓國(guó)等芯片強(qiáng)國(guó)，而是荷蘭。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。目前，在全世

2022-07-10 11:42:27

6977

euv光刻機(jī)是干什么的

光刻機(jī)是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護(hù)需要高水平的光學(xué)和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。光刻機(jī)的作用是對(duì)芯片晶圓進(jìn)行掃描曝光，對(duì)集成電路進(jìn)行蝕刻。精度更高的光刻

2022-07-10 14:35:06

6173

euv光刻機(jī)原理是什么

euv光刻機(jī)原理是什么芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV

2022-07-10 15:28:10

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用于后端光刻的新型無(wú)掩模技術(shù)分析

從 2D 擴(kuò)展到異構(gòu)集成和 3D 封裝對(duì)于提高半導(dǎo)體器件性能變得越來(lái)越重要。近年來(lái)，先進(jìn)封裝技術(shù)的復(fù)雜性和可變性都在增加，以支持更廣泛的設(shè)備和應(yīng)用。在本文中，我們研究了傳統(tǒng)光刻方法在先進(jìn)封裝中的局限性，并評(píng)估了一種用于后端光刻的新型無(wú)掩模曝光。

2022-07-26 10:42:12

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光刻工藝中使用的曝光技術(shù)

根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。

2022-07-27 16:54:53

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移相掩模技術(shù)不同的分類方法

光刻圖形質(zhì)量的主要判據(jù)是圖形成像的對(duì)比度，移相掩模方法可使對(duì)比度得到改善，從而使得其分辨率比傳統(tǒng)方法改善 40%~100%。移相掩模按不同的分類方法可分為多種類型，其基本原理均為相鄰?fù)腹鈭D形透過(guò)的光振幅相位相反而產(chǎn)生相消干涉，振幅零點(diǎn)和（或）頻譜分布?jí)赫?，從而改善?duì)比度、分辦率和成像質(zhì)量。

2022-10-17 14:54:09

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一文解析光刻機(jī)的工作原理

利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

2022-12-01 09:32:11

3700

柵氧化層和多晶硅柵工藝示意圖解析

當(dāng)核心區(qū)域和 I/O 區(qū)域都已經(jīng)生長(zhǎng)晶體管后，沉積多晶硅層（Poly-Si）和硬掩模層（薄的SiON和PECVD二氧化硅）。沉積柵疊層(Cate-Stack）后，進(jìn)行圖形化硬掩模（經(jīng)過(guò)光刻步驟)。

2022-12-08 09:53:04

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一文解析硅光集成技術(shù)與硅基光電子集成的挑戰(zhàn)

　　光電子芯片在通信、計(jì)算、傳感等領(lǐng)域的核心作用、成本占比和創(chuàng)新應(yīng)用不斷提擴(kuò)展和提高，成為與微電子“并駕齊驅(qū)”的技術(shù)引|擎。

2023-01-03 11:21:17

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***的簡(jiǎn)易工作原理圖掩模版都有哪些種類？

光刻掩模版，別稱“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”，一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形，實(shí)現(xiàn)對(duì)光線的遮擋或透過(guò)功能，是微電子光刻工藝中的一個(gè)工具或者板材。

2023-02-13 09:27:29

2086

EUV光刻工藝制造技術(shù)主要有哪些難題？

光掩模可以被認(rèn)為是芯片的模板。光掩模用電子束圖案化并放置在光刻工具內(nèi)。然后，光掩模可以吸收或散射光子，或允許它們穿過(guò)晶圓。這就是在晶圓上創(chuàng)建圖案的原因。

2023-03-03 10:10:32

1129

EUV 光刻制造全流程設(shè)計(jì)解析

其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng)，再到光掩模，再到對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，再到晶圓載物臺(tái)，再到光刻膠化學(xué)成分，再到鍍膜機(jī)和顯影劑，再到計(jì)量學(xué)，再到單個(gè)晶圓。

2023-03-07 10:41:58

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音圈電機(jī)模組在主流光刻掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用

光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇?，荷蘭光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。很多人都對(duì)光刻機(jī)有所耳聞，但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不

2023-04-06 08:56:49

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淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。

2023-04-13 11:52:12

1165

光刻技術(shù)簡(jiǎn)述

光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過(guò)程

2023-04-25 09:55:13

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NVIDIA H100 GPU為2nm芯片加速計(jì)算光刻！

現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限，需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率，這正是計(jì)算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計(jì)算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù)，它結(jié)合來(lái)自ASML設(shè)備和測(cè)試晶圓的關(guān)鍵數(shù)據(jù)，是一個(gè)模擬生產(chǎn)過(guò)程的算法。

2023-04-26 10:05:29

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EUV光刻的無(wú)名英雄

晶圓廠通常使用光刻膠來(lái)圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來(lái)保護(hù)晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會(huì)在第一個(gè)轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小，底層厚度也應(yīng)該減小。

2023-04-27 16:25:00

689

掩模場(chǎng)利用率MFU簡(jiǎn)介

掃描儀(scanner)是一種在wafer上創(chuàng)建die images的機(jī)器。它首先通過(guò)刻線（有時(shí)稱為掩模）將光照射到涂有保護(hù)性光刻膠的wafer上，以刻上刻線圖案的圖像。

2023-05-06 09:51:38

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知識(shí)分享---光刻模塊標(biāo)準(zhǔn)步驟

通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對(duì)準(zhǔn)、曝光、顯影和適當(dāng)?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進(jìn)行表征，以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像，并具有所需的側(cè)壁輪廓。

2023-06-02 16:30:25

421

一文解析EUV掩模版缺陷分類、檢測(cè)、補(bǔ)償

光刻機(jī)需要采用全反射光學(xué)元件，掩模需要采用反射式結(jié)構(gòu)。這些需求帶來(lái)的是EUV光刻和掩模制造領(lǐng)域的顛覆性技術(shù)。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰(zhàn)，包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發(fā)、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復(fù)等。

2023-06-07 10:45:54

1012

超級(jí)全面！一文看懂***：MEMS傳感器及芯片制造的最核心設(shè)備

文章大綱光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備，市場(chǎng)規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場(chǎng)，大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯光刻機(jī)：多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)的組合，核心零部件被海外廠商壟斷

2023-06-19 10:04:00

8369

EUV光刻市場(chǎng)高速增長(zhǎng)，復(fù)合年增長(zhǎng)率21.8%

EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對(duì)于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。

2023-08-07 15:55:02

399

什么是光刻工藝？光刻的基本原理

2023-08-23 10:47:53

1589

考慮光刻中厚掩模效應(yīng)的邊界層模型

短波長(zhǎng)透明光學(xué)元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長(zhǎng)，而晶片上所需的最小特征繼續(xù)向更深的亞波長(zhǎng)尺度收縮。這對(duì)用入射場(chǎng)代替掩模開口上的場(chǎng)的基爾霍夫邊界條件造成了嚴(yán)重的限制，因?yàn)檫@種近似無(wú)法考慮光刻圖像

2023-08-25 17:21:43

279

光刻可制造性檢查如何檢測(cè)掩模版質(zhì)量

隨著工藝節(jié)點(diǎn)不斷變小，掩模版制造難度日益增加，耗費(fèi)的資金成本從數(shù)十萬(wàn)到上億，呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)，同時(shí)生產(chǎn)掩模版的時(shí)間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保證其設(shè)計(jì)有足夠高的品質(zhì)，重新優(yōu)化設(shè)計(jì)并再次制造一批掩模版將增加巨大的資金成本和時(shí)間成本。

2023-11-02 14:25:59

284

鏡頭在光學(xué)系統(tǒng)中的作用

鏡頭分辨率在光學(xué)系統(tǒng)中的核心作用

2023-12-04 10:12:44

光刻各環(huán)節(jié)對(duì)應(yīng)的不同模型種類

光學(xué)模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學(xué)成像理論，預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)（TCCs），從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中，經(jīng)過(guò)優(yōu)化的光源，通過(guò)光刻機(jī)的照明系統(tǒng)，照射在掩模上。如果在實(shí)際光刻

2023-12-11 11:35:32

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編解碼一體機(jī)在流媒體傳輸中的核心作用

編解碼一體機(jī)在流媒體傳輸中起著核心作用，主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面： 1. 視頻和音頻編碼：編解碼一體機(jī)能夠?qū)σ曨l和音頻數(shù)據(jù)進(jìn)行高效的編碼，將原始的多媒體數(shù)據(jù)壓縮成適合網(wǎng)絡(luò)傳輸?shù)母袷健＿@樣不僅可以減少

2024-01-31 14:20:22

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