電子發(fā)燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。而眾所周知，EUV光刻機產能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機來生產高端芯片的技術和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2912 電子發(fā)燒友網報道（文/李彎彎）近期，各大視頻平臺瘋傳一條消息，稱清華大學EUV項目，把ASML的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產化，并表示這個項目已經在雄安新區(qū)落地，還在視頻中配了下面這張圖，表示圖片
2023-09-20 08:56:502579 
電子發(fā)燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造技術，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 
光刻機經歷了5代產品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4142 
感謝您一直以來對博達智聯(lián)自主研發(fā)的遠程透傳工具的支持與信任！為提升廣大用戶的操作體驗，博達智聯(lián)團隊經過不懈努力，不斷優(yōu)化產品功能，將透傳工具進行了全面的升級，即刻發(fā)出全新版本。相比于之前的版本
2024-03-19 08:33:3842 
ASML 官網尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列，ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
2024-03-14 08:42:346 
STM32CubeMX安裝最新版本V6.9,但Motor Control Workbench生成項目工程，總是顯示STM32CubeMX not found？
2024-03-14 07:28:38
據荷蘭《電訊報》3月6日報道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業(yè)界嘩然。據悉，荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 1.STMCWB最新版本是否支持絕對值編碼器？只能通過MCLIB庫手動增加嗎？
2.基于ST FOC庫的磁編碼器（SPI出絕對角度信息）只跑速度環(huán)和電流環(huán)最簡單
2024-03-07 06:11:23
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠，據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01162 
ASML在半導體產業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18400 根據資料顯示，在2012年，為了支持ASML EUV光刻機的研發(fā)與商用，并獲得EUV光刻機的優(yōu)先供應，在2012年，英特爾、臺積電、三星均斥資入股了ASML。2012年7月，英特爾入股ASML獲得15%股權，并出資10億美元支持研發(fā)。
2024-02-23 17:27:59562 、新增TTS機箱模塊、新增地圖顯示模塊等。一大波超實用的新功能，一起來看看吧！體驗新功能建議您將軟件更新至最新版本TSMaster下載鏈接01工具箱相關更新工具箱模
2024-02-19 12:12:58288 
Takeishi向英國《金融時報》表示，公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C，并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數(shù)。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
光刻機是微電子制造的關鍵設備，廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中，光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
來源：AIot工業(yè)檢測，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設備的力度，以提高產能。作為EUV光刻機制造商，ASML受益于這一趨勢，其2023
2024-01-26 09:20:12409 關于光刻機，大家還記得美國荷蘭日本的三方協(xié)議嗎？來回憶一下。 隨著芯片在各個領域的重要性不斷提升，人們對芯片制造的關注也日益增加。 但半導體產業(yè)鏈非常復雜，不僅僅涉及到底層的架構設計，還需要通過
2024-01-17 17:56:59292 linux上更新了最新版本的SDK軟件后，執(zhí)行編譯出現(xiàn)了
riscv-nuclei-elf-objcopy -O verilog “NICE_Test.elf” “NICE_Test.verilog
2024-01-10 06:34:37
在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后，美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發(fā)表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406
總的來說，最新版本的端云一體化模板確實方便了開發(fā)者自行搭建項目，極大地簡化了開發(fā)者在這上面的時間浪費。同時對應用功能的開發(fā)搭建也縮短了不少時間。
期待后續(xù)更新更多的開發(fā)模板把！
2023-12-05 14:57:39
和法規(guī)的更新正在進行。預計2023年秋季，GS1電子產品代碼（EPC）全球Gen2規(guī)范將推出新版本（Gen2v3），以進一步提高RAIN RFID的部署更快、更準確。 新版本Gen2v3的推出是為了適應
2023-11-30 15:40:04183 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
雖然目前在光刻機市場，還有尼康和佳能這兩大供應商，但是這兩家廠商的產品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市場份額僅有10%左右，ASML一家占據了90%的市場份額，并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應。
2023-11-23 16:14:45485 
就國別來看，來自荷蘭的進口額暴漲了超過6倍。預估其中大部分為荷蘭光刻機龍頭艾ASML的光刻機產品。來自日本的半導體設備進口額成長約40%、來自美國的進口額則僅增長20%。
2023-11-22 17:09:02419 EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分，占據總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復雜，因此ASML每年只能制造約60臺，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:56383 據悉，谷歌Titan Security Key的最新版本已經問世，可以與蘋果、微軟、谷歌和其他許多公司支持推出的新的無密碼密鑰技術一起使用。從現(xiàn)在開始，谷歌商店將推出兩個新版本的鑰匙，分別為
2023-11-20 16:55:35354 關鍵詞：TouchGFX,版本升級 目錄預覽 1、引言 2、TouchGFX軟件升級安裝 3、工程項目由舊版本遷移到新版本TouchGFX 4、軟件升級遇到的常見問題 01 引言 隨著
2023-11-01 17:15:02312 EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615 stc12c5a60s2單片機，下載程序失敗，用的是最新版本的STC-ISP，出現(xiàn)以下提示，該怎么辦呢？求各位大佬指點！
. 下次冷啟動后系統(tǒng)時鐘源為外部晶體振蕩器
. 當前的時鐘頻率
2023-10-25 06:35:06
電子發(fā)燒友網報道（文/周凱揚）隨著雙碳目標的提出，越來越多的行業(yè)應用開始注意到能耗問題，尤其是在半導體制造設備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機來說，就是一個不折不扣的耗電大戶，結合光刻半導體
2023-10-25 01:14:001061 據外媒透露，ASML的指控基于中國違規(guī)拆解了從荷蘭進口的ASML光刻機。中國方面對此感到不滿，認為這是對其科技進步的不公平限制。顯然，我們正站在一場關于技術保護、市場份額爭奪的戰(zhàn)場之上。
2023-10-20 15:51:43480 當制程節(jié)點演進到5nm時，DUV和多重曝光技術的組合也難以滿足量產需求了，EUV光刻機就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個生產線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產。
2023-10-13 14:45:03834 
新版本GUI Guider發(fā)布 作為恩智浦研發(fā)的一款用戶友好、跨平臺、支持多語言的嵌入式人機交互應用開發(fā)工具，GUI Guider一經推出就受到了廣大開發(fā)者的喜愛。為了更好地回饋大家的厚愛，GUI
2023-10-13 08:10:031445 
電子發(fā)燒友網報道（文/周凱揚）隨著歐美韓等國家均已引進EUV光刻機，為其晶圓代工廠提供最先進的工藝支持，日本雖然半導體制造水平這些年來提升不大，卻也計劃引進EUV光刻機來打破這一困局，重回行業(yè)一流
2023-10-10 01:13:001437 近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12562 
早在2015年，中國的長春光機所就成功研發(fā)出了EUV（極紫外光刻）光刻機的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米，達到了EUV級光刻機的標準。這個成就在國際上已經堪稱頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 EUV光刻膠材料是光敏物質，當受到EUV光子照射時會發(fā)生化學變化。這些材料在解決半導體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349 
ASML是歐洲最大半導體設備商，主導全球光刻機設備市場，光刻機是半導體制造關鍵步驟，但高數(shù)值孔徑（High NA）EUV，Peter Wennink指有些供應商提高產能及提供適當技術遇到困難，導致延誤。但即便如此，第一批產品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713 P系列直線電機是一種具有鐵芯的高推力直線電機。它具有很高的推力密度和較低的停止力。峰值推力可達450NM峰值加速度可達5G。它是TPA機器人的一種高性能的直接驅動線性運動臺。常用于高精度直線電動機
2023-09-04 16:14:38
光刻機是半導體制造行業(yè)的“心臟”，也是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵設備。盡管國在半導體領域取得了顯著進展，但在光刻機的自主研發(fā)方面仍面臨諸多挑戰(zhàn)。本文旨在分析國產光刻機研發(fā)中的幾大難點。
2023-08-30 09:42:062096 
體驗。歡迎開發(fā)者了解并升級使用，積極反饋寶貴建議、參與貢獻，共同促進4.0版本的成熟。 為了方便社區(qū)開發(fā)者了解新版本能力，我們準備了版本上新內容介紹及相關文檔資源，快來體驗吧~ 新增和增強的特性 ArkUI ??支持命名路由的能力，借助此能力可針對不同頁面設置差異化的切換動效。 API參考：
2023-08-28 12:05:07592 了解新版本能力，我們準備了版本上新內容介紹及相關文檔資源，快來體驗吧~ 新增和增強的特性 ArkUI ??支持命名路由的能力，
2023-08-24 21:10:04419 光刻機有半導體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產芯片所需要的最關鍵和最復雜的設備之一（一臺光刻機有10萬個組件）。目前全世界的高端光刻機被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產品美國、日本和中國均能生產），而絕大部分的組件供應商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 EC-Master協(xié)議棧是一個經過精心設計和優(yōu)化的主站協(xié)議棧產品，方便客戶朋友更好地完成EtherCAT主站控制器的開發(fā)工作，支持在不同的嵌入式或非嵌入式(實時)操作系統(tǒng)上運行。現(xiàn)迎來最新版本V3.2更新
2023-08-18 14:00:00749 
EUV掩膜，也稱為EUV掩?；?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02396 在 Oracle，我們不斷尋找方法來改進產品，以更好地滿足您的需求。我們很高興地推出 MySQL 創(chuàng)新版（Innovation）和長期支持版（LTS，Long-Term Support），這是 MySQL 版本模型中的一個重要改進。
2023-08-01 16:41:25435 
隨著制程工藝的進步，DRAM內存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機，但是設備實在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內存有望實現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機是一種高級光刻設備，用于半導體制造業(yè)中的微電子芯片生產。EUV光刻機是目前最先進的光刻技術之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
2023-07-24 18:19:471095 光刻機。然而在龐大的光刻機中，由于包含了生成光、投射光的過程，同時又要精細控制光線，自然也就需要一套復雜無比的光學系統(tǒng)。 ? EUV 光學系統(tǒng)唯一指定供應商——蔡司 ? 提到蔡司這個名號大家都不陌生了，小到眼鏡鏡片，大到醫(yī)學顯
2023-07-14 09:09:031690 
ASML：沒向中國推出特別版光刻機 就是荷蘭出臺光刻機限制出口禁令后ASML給出了回應，ASML：沒向中國推出特別版光刻機。ASML表示ASML一致都遵守所適用的法律條例，并沒有面向中國市場推出
2023-07-07 12:32:371112 光刻機是半導體產業(yè)的重要設備之一。網傳荷蘭ASML（阿斯麥）試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，向中國推出特別版DUV光刻機，但ASML據報否認這一行動，并指一直都遵守所適用的法律條例。
2023-07-07 11:50:521351 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
2023年9月1日生效。 由于美國長期以來一直想盡辦法的限制中國芯片產業(yè)的發(fā)展，并限制荷蘭ASML向中國出售光刻機，但是這一點會促使我們研發(fā)出國產光刻機，從而打破了這種技術封鎖。 編輯：黃飛
2023-07-06 17:15:2678105 荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:16:48
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:06:24
ASML強調，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)，并非所有浸潤式DUV光刻系統(tǒng)。ASML表示其EUV光刻系統(tǒng)在此前已經受到限制。ASML其他系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。
2023-07-03 15:38:34713 荷蘭實施半導體出口管制 ASML光刻機DUV系統(tǒng)需要許可證 芯片戰(zhàn)愈演愈烈。荷蘭正式實施半導體出口管制條款，這將對光刻機巨頭阿斯麥（ASML）產生更多影響。ASML的EUV光刻系統(tǒng)在此前已經
2023-07-01 17:38:19669 
報道稱，ASML 量產尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經產省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Rapidus 和 ASML 展開合作，有望強化供應鏈。
2023-06-27 16:08:05498 
euv極紫外光刻機是目前最先進的半導體制造設備，用于7納米以下工程的半導體制造。荷蘭對這種尖端設備實施出口控制，限制對中國的出口。據《日本經濟新聞》報道，日本和荷蘭決定一致控制尖端產品制造設備的出口是在美國的壓力下做出的決定。
2023-06-26 10:28:08396 因此光刻機對芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質量和效率的重要因素?？v觀全球光刻機市場，荷蘭ASML公司一家獨大，占據全球80%的光刻機市場份額，高端EUV光刻機的市占比更是達到100%。
2023-06-20 11:42:271258 技術升級階段 (2007 至今)：該階段公司技術不斷升級，推出一系列創(chuàng)新產品， 于 2010 年推出全球首臺 EUV 光刻機 NXE3100，并于 2016 年推出首臺可量產光刻 機 NXE3600B（2017 年開始上量），由此確立高端光刻機系統(tǒng)龍頭地位。
2023-06-19 11:27:413484 
M451的NuMicro ICP Programming Tool燒錄工具新版本時鐘源選項不見了,是否能加上這個選項,沒有外加石英晶振時無法使用。
2023-06-13 06:00:33
TPT是控制軟件所有開發(fā)階段的完美測試工具，無論您是單元測試、集成測試還是系統(tǒng)測試，TPT都能直觀、靈活地完成這些測試?，F(xiàn)在TPT迎來了全新版本——TPT19，那么新版本都有哪些驚喜呢？本期將為大家一一進行介紹。
2023-06-12 16:44:02446 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 
夠高同樣以3400B來說，該EUV光刻機的生產效率是每小時125片晶圓，還不到DUV光刻機生產效率的一半。
隨機效應嚴重DUV時代就存在，但對芯片制造影響不大，因此被芯片代工廠忽略。但在EUV時代，該問題開始嚴重影響芯片的良率，隨芯片工藝尺寸越來越小，隨機效應越發(fā)明顯
2023-06-08 15:56:42283 
光刻機技術有多難搞？有人將它與核彈相提并論：目前，全球光刻機已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。10nm節(jié)點以下，ASML穩(wěn)穩(wěn)占據100%的市場，佳能和尼康等同業(yè)競爭對手難以打破這樣的局面
2023-06-08 14:55:0020068 
asml是euv技術開發(fā)的領先者。asml公司是半導體領域光刻機生產企業(yè)的領頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機生產企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個euv試制品，并于2016年推出了euv第一個商用顯卡制造機asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻機需要采用全反射光學元件，掩模需要采用反射式結構。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領域的顛覆性技術。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰(zhàn)，包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發(fā)、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復等。
2023-06-07 10:45:541008 
極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯東客戶日本某生產半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設備整體較大, 需要對構成光刻機的真空相關部件進行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310.
2023-06-02 15:53:52396 
由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯，美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 西門子EDA全球客戶支持部門從2023年3月份開始推出客戶關懷系列技術文章。本系列，我們的產品技術專家將結合電子系統(tǒng)設計軟件的新功能和應用熱點進行選題，本期主題為新版本HyperLynx VX.2.13速覽，敬請參閱！
2023-05-25 17:37:491807 
新版本kicad中的包含圖層與繪制所有圖層有什么區(qū)別？
2023-05-22 14:31:20
需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 EUV光刻技術仍被認為是實現(xiàn)半導體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發(fā)展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041790 
GitHub 項目，他們說它是通過包裝器集成為動態(tài)庫 `librpmsg_lite-imx.so`，位于 `BSP/sr/lib/rpmsg_lite `文件夾。
如何獲得為在 Cortex-A53 上運行的 QNX 編譯的最新版本？
2023-05-17 06:48:49
支持RT-Thread最新版本的瑞薩RA2E1開發(fā)板終于要大展身手了
2023-05-16 15:30:56464 
新版本持續(xù)為軟件開發(fā)測試帶來系列化的新功能：SIL全面支持DevOps和CI/CT流程中的工具功能、全新的10MB/s總線CANXL和10BASE-T1S解決方案、全新的IO測試硬件
2023-05-12 10:24:054321 
2023年中國光刻機現(xiàn)狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們，這也讓這些年來無數(shù)國人關注光刻機的研發(fā)進度。
2023-05-10 16:24:1521221 總而言之，
我有一個在 ESP8266 上使用 painlessMesh 的項目。
已經工作了好幾個月了。
不幸的是，最新版本的 8266 內核導致 painlessMesh 編譯錯誤。
有沒有一種方法可以在“附加板管理器 URL”中指定舊版本
2023-05-08 08:25:01
本課程基于CadenceAllegroPCB最新版本AllegroX進行RK3588實例項目設計，是一個完整的項目設計過程，力求通過實例項目的操作演示，將軟件新的功能和技巧融入到工程師的設計中去
2023-05-06 09:55:50934 
2023年4月9日，OpenAtom OpenHarmony（以下簡稱“OpenHarmony”）3.2 Release的新版本的發(fā)布。相比之前的版本，新版本的系統(tǒng)能力、系統(tǒng)整體性能、穩(wěn)定性和安全性
2023-04-18 15:00:57
作為一家專為本地市場量身打造智能聯(lián)網電視操作系統(tǒng)的領先供應商，VIDAA宣布推出其創(chuàng)新平臺的最新版本。新版本讓各品牌和廠商能夠獲得通常僅應用于高端品牌的最先進技術。新版本VIDAA操作系統(tǒng)比以往任何
2023-04-15 19:04:181988 openEuler RISC-V 23.03 創(chuàng)新版本正式發(fā)布。openEuler RISC-V SIG 作為 openEuler 系統(tǒng)在 RISC-V 架構上的維護組織，主要致力于
2023-04-15 13:55:40
近日，openEuler RISC-V 23.03 創(chuàng)新版本正式發(fā)布。openEuler RISC-V SIG 作為 openEuler 系統(tǒng)在 RISC-V 架構上的維護組織，主要致力于
2023-04-14 16:16:24849 我正在使用帶有為 MCUXpresso IDE 生成的 SDK 的 FRDM-K66F 板。我看到當我生成 SDK 時，CMSIS DSP 庫的包含版本是 V1.4.5 b。在 SDK 構建過程中如何將其更新到最新版本或選擇替代版本？
2023-04-14 07:10:52
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164 香港2023年4月12日?/美通社/ --?今天，以"共成長，贏未來"為主題的2023華為港澳伙伴峰會上，華為面向亞太市場正式發(fā)布華為云Stack 8.2新版本，通過可信的云原生底座、豐富的云服務
2023-04-12 21:41:48417 
光刻機是芯片智造的核心設備之一，也是當下尤為復雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞，但其實不同光刻機的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
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