根據(jù)ASML財(cái)報(bào)顯示, 2018年Q4季EUV光刻機(jī)設(shè)備完成5臺(tái)交付,全年EUV光刻機(jī)設(shè)備總銷量達(dá)到18臺(tái),并計(jì)劃2019年將完成30臺(tái)的交付量。 圖1:ASML 2014~2018財(cái)年?duì)I收對(duì)照分析
2019-01-25 14:50:5010824 10月15日,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī),并計(jì)劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來看,新款光刻機(jī)型號(hào)命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:003456 對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言,EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在,為了在未來的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì),臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購(gòu)置EUV光刻機(jī)。 ? 然而,當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:002403 EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī),是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備,因?yàn)樗l(fā)射的光線波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一,能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路,所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星
2018-05-17 09:22:2010936 他們正在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī)的,計(jì)劃在2022年年初開始出貨,2024/2025年大規(guī)模生產(chǎn)。 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。根據(jù)
2020-03-18 09:16:392659 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示,ASML在12月中完成了第100臺(tái)EUV光刻機(jī)的出貨。更加利好的消息是,業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年(2021年)的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺(tái)的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 光刻機(jī)引進(jìn)中國(guó)大陸。 ? 針對(duì)EUV光刻機(jī)進(jìn)廠可能延期的問題,在日前的韓國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)30周年紀(jì)念活動(dòng)上,SK海力士CEO Seok-hee Lee(李錫熙)表示,正在與美方合作,進(jìn)展良好,EUV光刻技術(shù)已經(jīng)在韓國(guó)本土的DRAM產(chǎn)線上應(yīng)用,中國(guó)工廠還有充足的時(shí)間供斡
2021-11-24 09:28:344520 ,我國(guó)因?yàn)橘Q(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺(tái)EUV光刻機(jī)。 ? 但EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力,還有蔡司和TRUMPF(通快)兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不小的貢獻(xiàn),也讓歐洲成了唯一
2021-12-01 10:07:4110988 盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商,憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵,主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額,但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽天由命”了。以兩大國(guó)外光刻機(jī)廠商尼康和佳能為例,他們就仍在
2022-11-24 01:57:004865 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級(jí)工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 01:48:002199 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)(EUV)的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
是分步投影光刻機(jī).利用分步投影光刻機(jī),再結(jié)合移相掩膜等技術(shù),已經(jīng)得到了最小線寬0.10微米的圖形?! 艚咏奖┕馀c接觸式暴光相似,只是在暴光時(shí)硅片和掩膜版之間保留有很小的間隙,這個(gè)間隙一般在10~25
2012-01-12 10:56:23
`光刻機(jī)MPA500FAb用光柵尺傳感器(掃描部位)供應(yīng)。型號(hào):SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
是0.33,大家可能還記得之前有過一個(gè)新聞,就是ASML投入20億美元入股卡爾·蔡司公司,雙方將合作研發(fā)新的EUV光刻機(jī),許多人不知道EUV光刻機(jī)跟蔡司有什么關(guān)系,現(xiàn)在應(yīng)該明白了,ASML跟蔡司合作
2020-07-07 14:22:55
!光刻機(jī)本身的原理,其實(shí)和相機(jī)非常相似,同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相機(jī)。相機(jī)的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過相機(jī)的鏡頭,將影像投射并聚焦在相機(jī)的底片(感光元件)上,如此便可
2020-09-02 17:38:07
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機(jī)的零件,有需要的朋友請(qǐng)直接聯(lián)系我:137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
如果國(guó)家以兩彈一星的精神投入光刻機(jī)的研發(fā)制造,結(jié)果會(huì)怎樣?
2020-06-10 19:23:14
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,對(duì)芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,根據(jù)之前中芯國(guó)際的公報(bào),目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù),通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)越來越重要,全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺(tái)EUV光刻機(jī),總價(jià)值超過20億歐元,折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元,可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:593470 EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示,250瓦的EUV光源也萬事俱備。公司2017年財(cái)報(bào)中也強(qiáng)調(diào),其EUV光刻機(jī)滿足了125WPH(每小時(shí)生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008018 近日消息,長(zhǎng)江存儲(chǔ)從荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購(gòu)的一臺(tái)光刻機(jī)(非EUV光刻機(jī))已抵達(dá)武漢。這臺(tái)光刻機(jī)價(jià)值高達(dá)7200萬美元,約合人民幣4.6億元。此外,中芯國(guó)際中芯國(guó)際也向阿斯麥下單了一臺(tái)價(jià)值高達(dá)1.2億美元的EUV。
2018-05-27 07:46:007496 光刻機(jī),是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一,荷蘭ASML公司已經(jīng)成為全球光刻機(jī)市場(chǎng)的一哥,壟斷了高端光科技生產(chǎn),在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域更是獨(dú)一份。
2018-07-19 16:52:002940 (極紫外線)光刻機(jī),價(jià)值1.2億美元。目前,業(yè)內(nèi)已達(dá)成共識(shí),必須使用EUV光刻機(jī)才能使半導(dǎo)體芯片進(jìn)入7nm,甚至5nm時(shí)代。今天,中芯國(guó)際方面對(duì)觀察者網(wǎng)表示,對(duì)此事不做評(píng)論。
2018-09-05 15:24:1914570 臺(tái)積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝,預(yù)計(jì)明年大規(guī)模量產(chǎn),三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝,這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了,而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293306 時(shí)間是2024年,這個(gè)時(shí)間點(diǎn)上半導(dǎo)體公司的制程工藝應(yīng)該可以到3nm節(jié)點(diǎn)了?! ?guó)內(nèi)2019年迎首臺(tái)EUV光刻機(jī) 光刻機(jī)是中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板,處于技術(shù)領(lǐng)先的上海微電子裝備有限公司已量產(chǎn)
2018-11-02 10:14:19834 ASML副總裁Anthony Yen表示,ASML已開始開發(fā)極紫外(EUV)光刻機(jī),其公司認(rèn)為,一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限,就將需要使用極紫外光刻機(jī)來繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV,同時(shí)ASML(荷蘭阿斯麥)將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái),顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 2016年,ASML公司宣布斥資20億美元收購(gòu)德國(guó)蔡司公司25%的股份,并投資數(shù)億美元合作研發(fā)新一代透鏡,而ASML這么大手筆投資光學(xué)鏡頭公司就是為了研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)。
2019-07-13 09:40:165058 掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào),當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元,其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元,總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī),其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-18 16:02:003147 掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML(阿斯麥)公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財(cái)報(bào),當(dāng)季營(yíng)收25.68億歐元,其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元,總計(jì)出貨了41臺(tái)光刻機(jī),其中EUV光刻機(jī)7臺(tái)。
2019-07-23 10:47:213102 格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示,如果在5nm的時(shí)候沒有使用EUV光刻機(jī),那么光刻的步驟將會(huì)超過100步,這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具,未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 據(jù)韓媒報(bào)道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849 近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 據(jù)中國(guó)證券報(bào)報(bào)道,3月6日下午從中芯國(guó)際獲悉,日前中芯國(guó)際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī),但這是設(shè)備正常導(dǎo)入,用于產(chǎn)能擴(kuò)充,并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。
2020-03-07 10:55:144167 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞?ASML的光刻機(jī),光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年!拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例,其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬個(gè),比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍!
2020-07-02 09:38:3911513 與此同時(shí), 他指出,EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量,迄今為止,他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過1100萬個(gè)EUV晶圓,并交付了57個(gè)3400x EUV系統(tǒng)(3400平臺(tái)是EUV生產(chǎn)平臺(tái))。
2020-08-14 11:20:552048 【重磅】王毅到訪荷蘭,期待放行ASML EUV光刻機(jī) 來源:中國(guó)半導(dǎo)體論壇 彭博引述知情人士消息稱,荷蘭政府極有可能不會(huì)給予ASML向中國(guó)出貨EUV光刻機(jī)的許可證。一年前的許可證到期后,在美國(guó)
2020-09-10 14:19:112577 據(jù)悉,ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商,年產(chǎn)量為40余臺(tái),臺(tái)積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機(jī)的價(jià)格昂貴,每臺(tái)要價(jià)約1.3億美元,由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備,臺(tái)積電與三星電子的競(jìng)爭(zhēng)日益激烈。
2020-10-13 13:51:521913 荷蘭阿斯麥(ASML)公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器,相信大家都有耳聞,它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV(極紫外光)光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片,據(jù)說一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:054438 ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份,現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上,臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了,SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 11月5日,世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV(極紫外光)光刻機(jī)的企業(yè),由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī),所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機(jī)。據(jù)悉,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備,光刻機(jī)無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠,特別是先進(jìn)工藝的光刻機(jī),7nm以下的都要依賴ASML公司,EUV光刻機(jī)他們還是獨(dú)一份。
2020-11-09 17:11:382195 ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無霸的存在,而他們對(duì)于與中國(guó)企業(yè)合作也是非常歡迎,無奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國(guó)卡死。 中國(guó)需要光刻機(jī),尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī),特別是 EUV (極紫外光源)光刻機(jī)
2020-11-10 10:08:043056 中國(guó)需要光刻機(jī),尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來說,就是 EUV (極紫外光源)光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:304278 據(jù)TOMSHARDWARE報(bào)道,臺(tái)積電表示其部署的極紫外光(EUV)光刻工具已占全球安裝和運(yùn)行總量的50%左右,這意味著其使用的EUV機(jī)器數(shù)量超過了業(yè)內(nèi)其他任何一家公司。為了保持領(lǐng)先,臺(tái)積電已經(jīng)下單
2020-11-17 16:03:381827 目前,EUV光刻機(jī)的部署安裝主要在臺(tái)積電、三星的晶圓代工廠。不過,內(nèi)存廠商們也開始著手上馬了。 此前,SK海力士規(guī)劃的是為年底建成的M16工廠配備,但來自德國(guó)CB的消息稱,M14老廠也會(huì)引進(jìn)
2020-11-26 18:23:291761 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后,需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備,才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品,但就在近日,又有外媒豪言:這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī),目前全球
2020-12-03 13:46:226379 荷蘭阿斯麥公司作為掌握光刻機(jī)系統(tǒng)集成和整體架構(gòu)的核心企業(yè),自然成了歐美自家的小棉襖,順利趕上了歐美EUV技術(shù)研究發(fā)展的風(fēng)口,投資德國(guó)卡爾蔡司,收購(gòu)美國(guó)Cymer光源。集成世界各國(guó)頂尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:5518165 之前有消息稱,臺(tái)積電正在籌集更多的資金,為的是向ASML購(gòu)買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī),而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:482192 Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場(chǎng),目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī),目前目標(biāo)是將工藝規(guī)??s小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 而2018年中芯與ASML簽訂了一項(xiàng)EUV光刻機(jī)購(gòu)買協(xié)議,以1.2億美元購(gòu)買一臺(tái)光刻機(jī),但直到現(xiàn)在都沒有交貨,因?yàn)闆]有拿到出口許可證。
2021-01-08 11:37:512368 呢?OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因,供讀者參考。 與DUV(深紫外光)光刻機(jī)相比,EUV光刻機(jī)的吞吐量相對(duì)較低,每小時(shí)可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片-175片之間,技術(shù)改進(jìn)后,速度可以提升至275片每小時(shí)。但相對(duì)而言,EUV生產(chǎn)效率還是更高,
2021-02-14 14:05:003915 據(jù)etnews報(bào)道,SK海力士已開始在其位于韓國(guó)利川的M16工廠安裝EUV光刻機(jī),以量產(chǎn)10nm 1a DRAM。 此前SK海力士宣布將在今年年內(nèi)在M16廠建設(shè)產(chǎn)線以生產(chǎn)下一代DRAM,不過并未透露
2021-01-20 18:19:202146 目前,還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約,中國(guó)大陸沒有從ASML買來一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:184078 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上,荷蘭ASML(阿斯麥)表示,預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī),比去年多9臺(tái)。 CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的銷售收入在58億歐元左右。四季度
2021-01-21 15:30:221874 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上,荷蘭ASML(阿斯麥)表示,預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī),比去年多9臺(tái)。
2021-01-21 15:16:431369 %,凈利潤(rùn)達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他們占到了全球市場(chǎng)90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先,一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī),這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對(duì)外銷售了31臺(tái)EUV光刻機(jī),帶來了45億歐元(折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677 ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào),全年凈銷售額140億歐元,EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái),帶來了45億歐元的營(yíng)收,單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼,但是ASML也有隱憂,實(shí)際上EUV光刻機(jī)
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:551644 。 據(jù)報(bào)道,SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級(jí)大單,未來5年內(nèi)將斥資4.8萬億韓元,約合43.4億美元購(gòu)買EUV光刻機(jī)。 SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱,這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。 ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購(gòu)買了多少臺(tái)EUV光刻機(jī),不過從之
2021-02-25 09:30:232047 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下,EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn),之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī),率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝,現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場(chǎng)了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:091844 一提起ASML這家公司,就少不了對(duì)光刻機(jī)問題的討論,因?yàn)榻刂聊壳?,ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說了,ASML每年都能賣出去很多臺(tái),而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面,ASML更是占據(jù)了絕對(duì)壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4214073 光刻機(jī)是我國(guó)芯片制造業(yè)一大痛點(diǎn),目前,在EUV光刻機(jī)賽道中,僅有ASML一個(gè)玩家。
2021-03-02 15:29:139297 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 中芯國(guó)際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm,若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程,EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么,中芯國(guó)際此次12億美元的采購(gòu)協(xié)議都有哪些類型的光刻機(jī),包含EUV光刻機(jī)嗎?
2021-03-10 14:36:559465 5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機(jī)有何區(qū)別? EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何? 大飛_6g(聽友) 請(qǐng)問謝博士,EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能是怎樣的?比如用最先進(jìn)的光刻機(jī),滿負(fù)荷生產(chǎn)手機(jī)芯片麒麟990,每天能產(chǎn)多少片?中芯國(guó)際有多少臺(tái)投入生產(chǎn)的光刻機(jī)?是1臺(tái)、5臺(tái)還是10臺(tái)呢?謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023476 日前,ASML產(chǎn)品營(yíng)銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:404630 第二代EUV光刻機(jī)原本預(yù)計(jì)最快可以2023年問世,但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能問世了。 要知道,ASML是全球唯一一家量產(chǎn)EUV光刻機(jī)
2021-06-26 16:55:281203 光刻機(jī),是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機(jī)的重要地位,光刻機(jī),是制造芯片的機(jī)器,要是沒有了光刻機(jī),我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 美國(guó)媒體7月19日?qǐng)?bào)道,美國(guó)政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)(極紫外光刻機(jī))進(jìn)入中國(guó)大陸。 報(bào)道稱,中國(guó)政府此前與荷蘭政府協(xié)商,要求允許中國(guó)公司購(gòu)買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備(極紫外光刻機(jī)
2021-07-21 16:52:252126 美國(guó)華爾街日?qǐng)?bào)7月19日?qǐng)?bào)道,美國(guó)政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)(極紫外光刻機(jī))進(jìn)入中國(guó)大陸。 華爾街日?qǐng)?bào)報(bào)道稱,中國(guó)政府此前與荷蘭政府協(xié)商,要求允許中國(guó)公司購(gòu)買ASML生產(chǎn)的EUV
2021-07-25 17:35:152919 7nm之下不可或缺的制造設(shè)備,我國(guó)因?yàn)橘Q(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺(tái)EUV光刻機(jī)。 但EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力,還有蔡司和TRUMPF(通快)兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 在半導(dǎo)體的制造中,光刻機(jī)作為其中重要的組成部分,其技術(shù)非常復(fù)雜,價(jià)格也十分昂貴。 由于近期沖突,俄羅斯芯片進(jìn)口遭嚴(yán)重限制,在其國(guó)內(nèi)沒有光刻機(jī)的情況下,俄羅斯貿(mào)工部選擇了與俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院簽署
2022-04-06 10:35:337960 臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 據(jù)外媒報(bào)道稱,三星電子公司董事李在镕今天將起身前往荷蘭拜訪光刻機(jī)廠商ASML,此舉表明三星很有可能會(huì)大量采購(gòu)光刻機(jī)。 據(jù)了解,李在镕將會(huì)在荷蘭待上11天,此次花費(fèi)十多天前往荷蘭拜訪ASML,有多家
2022-06-07 14:18:041176 年引進(jìn)ASML最先進(jìn)的High-NA EUV光刻機(jī),并且推動(dòng)臺(tái)積電的創(chuàng)新能力。不過另一位高管補(bǔ)充道:臺(tái)積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機(jī)投入到生產(chǎn)工作中去,將首先與合作伙伴進(jìn)行相關(guān)的研究。 據(jù)了解,High-NA EUV光刻機(jī)的High-NA代表的是高數(shù)值孔徑,相比于現(xiàn)在的光刻技術(shù),
2022-06-17 16:33:276499 據(jù)CNBC報(bào)道稱,世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:031794 在芯片研發(fā)的過程中,光刻機(jī)是必不可少的部分,而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展,普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了,必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程,而目前臺(tái)積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購(gòu)協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3850685 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻機(jī)是最核心的設(shè)備,同時(shí),也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
2022-07-07 09:38:237125 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn),并在2019年開始大量交付,而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?,F(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 是哪個(gè)國(guó)家的呢? euv光刻機(jī)許多國(guó)家都有,理論上來說,芯片強(qiáng)國(guó)的光刻機(jī)也應(yīng)該很強(qiáng),但是最強(qiáng)的光刻機(jī)制造強(qiáng)國(guó),不是美國(guó)、韓國(guó)等芯片強(qiáng)國(guó),而是荷蘭。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,在全世
2022-07-10 11:42:276977 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前,最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下,能
2022-07-10 14:35:066173 目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 與此同時(shí),在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了,DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 一臺(tái)EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺(tái)EUV光刻機(jī),一天就能省下3萬度電。臺(tái)灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺(tái)幣(約合人民幣0.55元),也就是說一天能省個(gè)1.65萬元人民幣的電費(fèi)。
2022-09-08 10:54:061356 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商,憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵,主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額,但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽天由命”了。以兩大國(guó)外光刻機(jī)
2022-11-24 07:10:033222 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/ 周凱揚(yáng) )到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級(jí)工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
2022-12-07 07:25:02952 光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4143 了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī),特別是在先進(jìn)制程上,EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí),盡管目前市面上,EUV光刻機(jī)客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝,High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635
評(píng)論
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