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電子發(fā)燒友網>光電顯示>佳能光刻機現(xiàn)在是什么水平?佳能如何看待顯示行業(yè)寒冬?

佳能光刻機現(xiàn)在是什么水平?佳能如何看待顯示行業(yè)寒冬?

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擦肩而過的光刻機

1964年中國科學院研制出65型接觸式光刻機;1970年代,中國科學院開始研制計算機輔助光刻掩膜工藝;清華大學研制第四代分部式投影光刻機,并在1980年獲得成功,光刻精度達到3微米,接近國際主流水平。而那時,光刻機巨頭ASML還沒誕生。
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政策助力光刻機行業(yè)發(fā)展,我國光刻機行業(yè)研發(fā)進度仍待加快

光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產業(yè)中最關鍵設備,光刻工藝決定了半導體線路的線寬,同時也決定了芯片的性能和功耗。
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AMSL宣布:無須美國許可同意可向中國供貨DUV光刻機,但EUV受限

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2020-10-17 09:49:453450

一文詳解光刻機技術

最近光刻機十分火,我們經常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
2020-10-19 11:42:5120305

中國芯片制造行業(yè)正進入快速發(fā)展的新階段

大家都知道,ASML是光刻機市場的大巨頭,雖說在主流的光刻機上ASML是和日本尼康和佳能三分天下的,但是在EUV的光刻機上,這就只有靠著ASML才行。
2020-11-06 15:44:351781

為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機設備?

只有荷蘭光刻機巨頭ASML能造,對此也有很多網友們感覺到非常疑惑,為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機設備呢?像我國的上海微電子、日本的索尼、佳能都造不出來嗎?
2020-12-03 13:46:226379

日本佳能正加快搶占高功能半導體市場

日本佳能正通過光刻機加快搶占高功能半導體市場。佳能時隔7年更新了面向小型基板的半導體光刻機,提高了生產效率。在用于純電動汽車(EV)的功率半導體和用于物聯(lián)網的傳感器需求有望擴大的背景下,佳能推進支持多種半導體的產品戰(zhàn)略。目標是在三大巨頭壟斷的光刻機市場上確立自主地位。
2021-01-06 10:03:061540

佳能/尼康/阿斯麥三家制造商占據(jù)全球超過90%的半導體光刻機市場

日本光學設備制造巨頭佳能(Canon)正計劃靠提升光刻機的生產效率來搶占市場。按照計劃,今年3月份,佳能將時隔7年(自2013年來),面向市場推出新型光刻機“FPA-3030i5a”,這款新品較舊機型的生產效率提升了將近17%。
2021-01-06 15:47:073242

佳能發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”,搶占高功能半導體市場

光刻機(圖源:日經中文網) 時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體光刻機,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產效率較以往機型提高了約17%。 就工藝水平而言,佳能的這款新型光
2021-01-06 17:41:067868

佳能即將發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”

日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業(yè)務。據(jù)日經中文網報道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 09:03:223005

佳能將推新光刻機,效率提升17%

日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業(yè)務。據(jù)日經中文網報道,佳能將于2021年3月發(fā)售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 11:21:093152

佳能時隔7年更新了面向小型基板的半導體光刻機

FPA-3030i5a步進式光刻機的硬件和軟件已在其前代產品FPA-3030i5步進式光刻機(2012年6月發(fā)布)基礎上進行了升級,以幫助降低CoO。FPA-3030i5a繼承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的線寬圖案
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芯源微:光刻工序涂膠顯影設備成功打破國外廠商壟斷

近日,芯源微披露投資者關系活動記錄表指出,公司前道涂膠顯影機與國際光刻機聯(lián)機的技術問題已經攻克并通過驗證,可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內的上海微電子(SMEE)的光刻機聯(lián)機應用。
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ASML壟斷第五代光刻機EUV光刻機:一臺利潤近6億

光刻機領域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML,占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端,畢竟沒有了他們的設備,想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。 財報披露,ASML2020年全年凈銷售額140億歐元,毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:164677

解析全球光刻機行業(yè)發(fā)展情況

根據(jù)芯思想研究院(ChipInsights)的數(shù)據(jù)表明,2020年全球集成電路、面板、LED用光刻機出貨約58臺,較2019年增加3臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約410臺;面板、LED用光刻機出貨約170臺。
2021-02-24 16:56:1211120

光刻機原理介紹

光刻機,是現(xiàn)代光學工業(yè)之花,是半導體行業(yè)中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

佳能暖心服務,讓打印更無憂

2021年6月8日至7月8日,佳能(中國)有限公司(以下簡稱“佳能”)剛剛結束了為期一個月的免費清潔保養(yǎng)系列活動。據(jù)悉,該活動覆蓋了全國180個城市的近300家佳能維修店,為近兩萬臺企業(yè)用戶
2021-07-14 15:27:471442

光刻機的難度在哪里

中國是目前世界上消費芯片最多的國家,每年的芯片進口額已超過了石油的進口額。雖然中國芯片行業(yè)也已經取得了小有成就,但在世界上還是處于落后的水平,芯片的落后少不了因為光刻機的原因,那么光刻機的難度究竟在在哪里呢?
2022-01-03 17:16:004756

刻蝕機能替代光刻機

刻蝕機不能代替光刻機。光刻機的精度和難度的要求都比刻蝕機高出很多,在需要光刻機加工的時候刻蝕機有些不能辦到,并且刻蝕機的精度十分籠統(tǒng),而光刻機對精度的要求十分細致,所以刻蝕機不能代替光刻機。
2022-02-05 15:47:0039915

光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻機干啥用的

光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產的光刻機,有用于LED制造領域的光刻機,還有用于封裝的光刻機光刻機是采用類似照片沖印的技術,然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

光刻機是干什么用的 光刻機廠商有哪些

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機,在芯片生產中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步,所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備,總得來說光刻機是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436

佳能MX498及佳能E488多功能一體打印機的維修手冊

佳能MX498及佳能E488多功能一體打印機的維修手冊,維修利器
2022-03-14 15:31:539

佳能計劃上半年發(fā)售3D半導體光刻機 格科半導體正式搬入光刻機

佳能正在開發(fā)用于半導體3D技術的光刻機
2022-04-01 16:36:5911569

佳能新發(fā)售KrF半導體光刻機的Grade10升級包

佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF※1半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產能升級配件包(以下簡稱“Grade10”升級包)。KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a
2022-06-14 09:14:112006

中國光刻機現(xiàn)在多少納米 光刻機的基本原理

眾所周知,光刻機一直處于壟斷地位,在光刻機領域,最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15288332

euv光刻機三大核心技術 哪些公司有euv光刻機

中國芯的進步那是有目共睹,我國在光刻機,特別是在EUV光刻機方面,更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742

三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息

三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634

最先進的光刻機多少nm 中國現(xiàn)在能做幾nm芯片

光刻機是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻機技術幾乎被荷蘭ASML所壟斷,那么全球最先進的光刻機是多少nm的?中國現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢?
2022-07-06 10:07:15247354

euv光刻機可以干什么 光刻工藝原理

光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000

euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎

大家都知道,芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現(xiàn)在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進的光刻機能夠實現(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻機是哪個國家的

說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話,就無法生產芯片,因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻機是干什么的

光刻機是大規(guī)模集成電路生產的核心設備,它能夠制造和維護需要高水平的光學和電子產業(yè)基礎,全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎。 光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光,對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻機
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么

光刻機和euv光刻機區(qū)別是是什么呢? duv光刻機和euv光刻機區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產。 2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,內部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機和euv光刻機區(qū)別了,現(xiàn)在基本都是euv光刻機
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機原理是什么

euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機,是大規(guī)模集成電路生產的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻機用途是什么

等多項先進技術。 是半導體行業(yè)技術含量最高的設備。 光刻機在芯片制作中扮演著很重要的角色。在加工芯片的時候,光刻機會通過光源能量、形狀控制手段,讓光束透射過畫著線路圖的掩膜,能夠把線路圖縮小然后映射在硅片上,最后用化
2022-07-10 16:34:403116

佳能發(fā)售半導體光刻機解決方案Lithography Plus

來源:佳能集團 通過技術與數(shù)據(jù)優(yōu)勢,提升光刻機的生產效率 佳能將于2022年9月5日起發(fā)售解決方案平臺“Lithography Plus1”服務(以下簡稱“Lithography Plus”),該系
2022-09-06 17:01:491195

除ASML之外的光刻機廠商們近況如何?

廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅持開發(fā)并擴展自己的光刻機業(yè)務。 尼康 尼康的光刻機產品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機
2022-11-24 07:10:033222

佳能發(fā)售面向后道工藝的3D技術i線半導體光刻機新產品

來源:佳能 通過100X100mm超大視場曝光 實現(xiàn)大型高密度布線封裝的量產 ? 佳能將于2023年1月上旬發(fā)售面向后道工藝的半導體光刻機新產品——i線※1步進式光刻機“FPA-5520iV LF2
2022-12-08 17:48:46982

同時實現(xiàn)大視場與高解像力曝光 佳能發(fā)布半導體***新品

來源:佳能 佳能于3月13日發(fā)售面向前道工序的半導體光刻機新產品----i線※1步進式光刻機“FPA-5550iX”,該產品能夠同時實現(xiàn)0.5μm(微米※2)高解像力與50×50mm大視場曝光
2023-03-14 17:25:02599

日本佳能發(fā)布新型***

來源:中國半導體論壇 編輯:感知芯視界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻設備:FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備! 受此消息影響,納米壓印概念股午后走高,匯創(chuàng)達午后
2023-10-17 11:07:23230

可繞過EUV量產5nm!佳能CEO:納米壓印設備無法賣到中國!

雖然目前在光刻機市場,還有尼康和佳能這兩大供應商,但是這兩家廠商的產品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場份額僅有10%左右,ASML一家占據(jù)了90%的市場份額,并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應。
2023-11-23 16:14:45486

佳能預計到2024年出貨納米壓印光刻機

來源:DIGITIMES ASIA 佳能預計其納米壓印光刻機將于今年出貨,與ASML的EVU設備競爭市場,因為世界各地的經濟體都熱衷于擴大其本土芯片產能。 佳能董事長兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270

納米壓印光刻技術應用在即,能否掀起芯片制造革命?

壓印光刻技術NIL在這條賽道上備受關注,是最有機會率先應用落地的技術路線。 ? 今年早些時候,根據(jù)英國金融時報的報道,負責監(jiān)督新型光刻機開發(fā)的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:002918

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